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"집적회로공정" 검색결과 801-820 / 1,433건

  • 인텔계열 CPU
    로 알려져 있다. 원래는 인텔에서 출시한 전자계산기에 탑재될 예정이었으나, 기존의 단순한 칩들로 이루어진 논리회로를 대체할 수 있는 가능성이 발견되어 마이크로프로세서의 시장가능 ... 성을 처음으로 보여주었다. 세계 최초의 마이크로프로세서이자 2,250개의 트랜지스터를 집적한 4004는 이후 모든 CPU의 기본이 된 것이다. 4비트 데이터 버스와 12비트 어드레스 버스 ... ,300개의 트랜지스터가 집적되었다. 'TV 타이프라이터'라고 이름 붙여진 조악한 개인용 컴퓨터에 덤 터미널(Dumb Terminal)로 사용되었다. 300KHz의 속도를 냈으며
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.11.07
  • 반도체 소자 작동원리 및 한계 극복방안
    에 많은 회로 소자를 넣을 수 있다면 그만큼 계산 처리를 빠르게 할 수 있다. 이 때문에 집적도를 높여 보다 많은 트랜지스터를 넣으려 하는 것이다.◎ 반도체소자의 크기축소의 한계위 ... 는 끊임없이 리프래시하기 때문에 수시로 입/출력이 가능하다.DRAM은 캐패시터를 충전시켜 데이터를 저장한다. 1MB DRAM에 백만 개 이상의 캐패시터와 다른 회로가 들어간다고 하 ... 은 Memory cell(기억소자)당 가격이 싸고 집적도를 높일 수 있기 때문에 대용량 메모리로서 널리 이용되고 있다. 또한 소비전력이 작고 구조가 단순하다는 장점이 있다. 하지만 지속
    리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.09.08
  • LCD 품질 개선을 위한 chemical engineer의 역할
    다.LCD의 역사…………………………9라.LCD의 종류…………………………11마.LCD의 구조…………………………13바.LCD의 제조 공정…………………………174.LCD의 유기 재료 ... 하다. 특히 PDP의 대형화가 진전되고 있으며, 대각 60”의 대형 PDP가 실용화되고 있다. 디스플레이 장치의 집적화 및 투사방식의 채용으로 LED와 VFD를 포함하여 수 미터 ... 이 생긴다. 화면이 바뀔때마다 공통전극에 축적되어 있던 전하가 순간적으로 공통전극 구동회로에 주입된다. 공통전극 구동회로는 순간적인 대용량 전류가 흐를 수 있도록 Vcom Op
    리포트 | 41페이지 | 4,000원 | 등록일 2008.11.08
  • [과학사]컴퓨터의 발달과정과 미래
    층을 입힌후, 포토 공정으로 산화물위에 가는 금속선을 인쇄해 칩 위의 부품들을 결합시키는 평면처리기술을 발명하면서 집적회로는 대량생산의 길로 접어들게 된다.초기에 노이스는 포토 평면 ... 까 반면에, 집적회로가 발명됨으로 컴퓨터는 더욱 소형화되었고 속도 또한 빨라졌으며, 더불어서 신뢰성도 향상되면서 가격도 매우 저렴해지는 계기가 되었다. 이처럼 IC를 이용한 계산기 ... 을 사용하지 않고 한 기판에 그 기능별로 집적(Integrated)시킨 집적회로의 시초이다. 최초의 집적회로는 6개의 트랜지스터로 구성되었다. 킬비는 칩 위의 부품들을 미세한 금선
    리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.06
  • RFID의 이해와 활용
    하기 시작한지도 거의 60년이 되어간다. 작고 내구성이 좋은 트랜지스터 덕분에 고가품에 발신기를 부착하는 것이 가능해졌고, 시간이 흐르면서 배터리가 향상되고 집적회로, 마이크로칩 ... 하였다. reader를 곳곳에 설치하여 철도의 움직임을 추적하였고 철도차량과 화물의 스케쥴링과 노선 배분에 필요한 자료를 얻었다. General Motors의 경우 1984년에 생산공정 ... 식별기와 RF 접속을 통해 애플리케이션에서 네트워크에 들어있는 아이템을 보는 것이 가능해진다.기업의 관점에서는 이런 기능을 통해서 자동화 수준을 신장시키고 공정을 더 효율
    리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.10.28
  • [마케팅] QFD(품질기능전개)
    도 3분의 1가량 단축하였고, 제품의 품질 또한 향상시킬 수 있었다. 이 외에도 일본에서는 1970년대 이후 가전, 집적회로, 건설장비, 합성수지, 섬유, 금속제품 및 소프트웨어 ... QFD(품질기능전개)란?1. QFD의 정의 및 목적- 품질기능전개(QFD : Quality Function Deployment)는 신제품 개념정립, 설계, 부품계획, 공정계획 ... ) 중 하나이다. QFD의 기본개념은 고객의 요구사항을 제품의 기술특성으로 변환하고, 이를 다시 부품특성과 공정특성, 그리고 생산에서의 구체적인 사양과 활동으로까지 변환하는 것이
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.04.01
  • Epitaxy
    으로는 바이폴러집적회로의 소자층을 만드는 경우와 같이, 고불순물농도층 위에 저불순물 농도층을 형성시키는 등의 조작이 가능하다. 예를 들면 바이폴러집적회로를 만드는 경우 먼저 p형기판 위 ... (epitaxy) 공정은 단결정실리콘 위에 각종 반도체 관련 재료들을 올려놓기 위해 일종의 얇은 필름으로 실리콘의 표면을 덮는 코팅공정으로 각 재료들이 특정 위치에 정확히 위치할 수 있 ... 를 이용하여 BO3­x를 각각 증착하고 각각을 하나의 단위로 하여 비율을 조절하여 공정을 진행할 수 있다. AOx 및BO3­x의 각각 증착 속도는 보통 서로 같지 않으며 이와 같
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.07.01
  • [반도체공정설계] Silvaco사의 T-CAD를 이용한 C-MOS Inverter설계 (CMOS Inverter)
    일)2010년 5월 10일 ○○○, ○○○, ○○○, ○○○○○대학교 전기전자공학부 반도체공정설계목 차Ⅰ. CMOS-Inverter1. 설계주제12. 설계 제한 조건13. 배경이론 ... 의 특징은 소비전력이 매우 작고, 전달 특성이 우수하며 집적도가 좋다. 또한 입력임피던스가 높고 동작 전압 범위가 넓다.2) CMOS-InverterCMOS 인버터 소자란 p ... 형 반도체 채널과 n형 반도체 채널을 가진 두 개의 트랜지스터를 직렬로 연결해 증폭기 등의 아날로그 회로나 전자계산기 등의 디지털 논리회로를 구현할 수 있는 필수 단위 소자이다.3
    리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.12
  • A+[기술경영학] 삼성 반도체 사례분석!!
    을 발명1959년• Texas Instrument 와 Fairchild 회사가 집적회로 특허권 신청 • 미국인 Gordon과 Robert가 Intel 사 설립1970년• 16K ... 제품인 전자손목시계용 칩 생산1977년• 트랜지스터 생산1978년• 집적회로 생산하여 삼성전자에 납품1979년• 오일쇼크에 겹치면서 경영 악화1982년• VLSI 시장진입을 위한 ... • 1G DRAM 최초 개발2001년• 4G DRAM 최초 개발2004년• 9월 삼성전자는 세계 최초로 회로 선폭 60 나노미터에 8Gb 용량의 Flash Memory생산 성공
    리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.08.22
  • 반도체공정기술
    {반도체 공정 용어1.공통용어·SEMICONDUCTOR:전기적 저항특성이 있어서 도체와 부도체의 중간적성질을 갖는 물질 주기율표상 4족 원소를 말함.·MOS:Metal-Oxide ... -Semiconductor의 약어·CMOS:NMOS와 PMOS를 동일 기판 위에 형성하여 만든 IC회로·CELL:기억소자내 DATA를 저장하기 위해 만들어진 최소한의 소자집합 ... Device·LOT:Wafer의 공정단위·MODULE:기억용량의 증가를 위해 일정용량의 기억소자를 PCB상에 조합한 제품·PAD:Lead Frame과 Wire를 연결할 수 있도록 소자
    리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.09.12
  • 삼성반도체 분석 PPT
    .5년2년3년선발기업과의기술 격차20011996199419921990198819861984개발연도4G1G256M64M16M4M1M256K회로집적도D램 기술의 발전과 삼성전자 ... - 기술적인 문제를 개발기간에 미리 발견 - 공정속도의 개선 효과 신규라인 설계 시 기존 엔지니어 투입을 통한 기존/신규라인간 정보 공유 - 기술적인 실수의 반복 줄임 - 공정 ... 향상을 위한 지식 확보33,6008,4002,*************저장용량 (신문쪽수)0.13㎛0.18㎛0.26㎛0.35㎛0.4㎛0.5㎛0.7㎛1.1㎛회로선폭선행선행선행선행동일0
    리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.09
  • FRAM의 특성과 응용
    해야 할 과제Memory 란…Memory 란 집적회로기술을 사용하여 아날로그 정보를 저장하는 장치로 반도체(Semiconductor)를 이용하기 때문에 “반도체 기억장치” 라 ... ) Capacitor 의 입구를 열었다 닫았다 하는 역할 Refresh Capacitor 에 저장되어 있는 전하에 손실이 생겨 계속해서 전하를 보충 해야함. 제조 공정이 간단해서 대용량화에 유리 ... 이 커짐. 그래서 반도체를 작게 만들고 집적도를 높이는 데 한계가 있음. 전원을 꺼버리면 정보가 모두 없어지는 휘발성 임.차세대 반도체의 필요성Flash Memory 의 문제점 동작
    리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.08.29
  • amd 와 인텔의 cpu 전략 유형 및 경쟁,시장상황
    인 M6800을 발표하게 이른다. 약 5,400개의 트랜지스터를 집적한 것으로서 Intel의 CPU와는 달리 자주 사용하는 명령어만을 칩내에 내포하고 있어 외부에 따로 제어회로 ... 과의 기본적인 차이를 간단하게 들자면 Intel의 CPU가 계산기에서 출발한 것에 반해 Motorola는 애초부터 컴퓨터의 미니화를 위한 기존 컴퓨터 회로의 원칩화를 위한 목표로 정했 ... 에 68,000개의 칩이 집적되어있다는 것으로부터 유래되었다. 68000은 아주 뛰어난 성능을 인정받으며 1980년에 NASA의 프로젝트에 참여했던 Apollo사의 Work s
    리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.25
  • MEMS 란
    에 의한 대량생산이 가능하다. 이로써 소자의 크기와 단가 및 소비전력을 크게 낮출 수 있다.2) 기계부품과 센서, 전자회로 등을 한 칩에 집적하여 높은 신뢰도를 얻을 수 있다.3) 작 ... 해 개미와 같은 마이크로 로봇을 인공적으로 만들어서 미소한 운동이나 작업을 시키려고 하는 것이다. 즉 개미의 눈이나 촉각에 해당하는 각종 센서, 뇌나 신경에 해당하는 논리회로, 팔 ... discharge micromachining)* MEMS 의 장점1) MEMS공정은 반도체 제작 공정을 이용하므로 초소형(수 μm~수백 μm크기)으로 제작할 수 있으며, 일괄 공정
    리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.09.11
  • [전자회로실험]MOSFET CS Amplifier_예비보고서
    고 제조공정이 비교적 간단하다. 그리고 MOSFET만을 사용하여 디지털 논리기능과 메모리 기능을 실현할 수도 있다. 이런이유로 현재 대부분의 초대규모집적회로(VLSI)는 MOSFET ... 으로 만들어진다. 또한 MOSFET은 아날로그 집적회로설계에도 많이 이용되고 있다.■ FET의 CS / CD / CG▲ Common source 증폭기- 소스 공통(common s ... 전자회로실험II 예비보고서 (MOSFET CS Amplifier)전자정보공학전공 20015110 이준호실험 목적MOSFET 증폭기의 바이어스 방식을 공부
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.25
  • [기술경영학] 삼성반도체의 기술혁신 전략!!
    독자접 집적회로 특허 신청 1971년 1024bit 메모리를가진 1K RAM 개발 1970년 초반에 4K DRAM 소개 1970년대 이후에 16K RAM 소개 1980년대 256 ... K DRAM 출시 이후 1M DRAM 4M DRAM 2001년 4G DRAM 삼성전자에 의해 세계최초 개발집적도에 따른 분류방식 SSI / MSI / LSI / VLSI • 기능 ... ), 메모리 1위 업체 ('93) 국내 단일 업종 최초로 100억불 달성 ('95)세계 최초 4GD램 공정 기술 개발 ('01) 반도체 시장 순위 2위 예상 ('02)1984~1986
    리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.08.22
  • RRAM 페로브스카이트 동작원리 Resistance Random Access Memory
    로 발전해 왔고 이에 따른 제품의 소형화 및 초고집적화가 이루어짐에 따라 박막 제조 공정 기술과 박막 재료의 특성평가에 대한 연구 또한 활발히 이루어지고 있다. 그러나 현재의 저장장치 ... 중에서 휘발성 메모리의 성장은 그 한계에 다다랐다는 분석과 이를 대체할 차세대 메모리의 개발에 박차를 가하고 있다. 이러한 경제/산업적인 고용량 정보 저장에 필요한 초고집적화 ... accessmemory)공정은 1-Transistor/1Capacitor(1T1R)구조의 단위cell을 이루고 있는데, 소자의 크기가 작아짐에 따라,capacitor공정의 난이도가 점점 더 올라가
    리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.31
  • photolithography
    에 전자회로 새기는 '필름'반도체ㆍLCD 공정에 필수로 사용되는 핵심 소재인 포토마스크는 엔지니어가 설계한 전자회로를 노광시스템(Manufacturing Beam Exposure ... 을 쪼이면 빛이 통과해 닿은 부분만 화학반응이 일어나면서 반도체 칩과 LCD 유리기판 위에 회로 패턴이 형성되죠.노광(exposure)공정으로 불리는 이 과정은 기본적으로 사진 ... 은 역할을 하는 것입니다. 그렇기 때문에 포토마스크의 품질은 반도체 집적도와 LCD 해상도 등을 좌우할 만큼 매우 중요합니다.포토마스크에 새겨진 회로선폭은 미크론(㎛, 백만분의 1
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.24
  • e-beam lithography
    Nano scale의 초미세 pattern의 전자회로배선을 형성시킨 기술 Input lithography의 한 갈래 복잡한 노광 부품이 필요 없고, 집적도도 획기적으로 향상 현재 6 ... lithographyLithography란?Lithography의 어원 Litho(돌) + Graphy(인쇄) 의 합성어 석판인쇄술에서 시작(1798년 독일) 반도체 제조공정 및 현미경, 사진 ... `Lithography의 응용(2/4)Photo Lithography 초고밀도 집적회로의 제조에 중요 핵심기술 Rigid Photomask 사용 Optical Diffraction
    리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.06.25
  • 리소그래피
    으로 기판인 웨이퍼 위에 원하는 패턴을 구현하는 기술이다. 반도체와 LCD공정에 이용되는 것이다. 반도체에서는 메모리의 집적화를 위해서 더 얇게 그릴 필요가 있고, LCD에서는 더 ... 의 역할, 글자를 판 도화지가 mask의 역할을 합니다. 그게 미세한 회로 단위로 작아졌다 보면 된다.(2)소프트 리소그래피 : 기존의 photo(광학) 공정이 고가인데다가 ... 얇게 그리기 보다는 가격을 낮추기 위해서 어떻게 하면 값싼 공정으로 이어질 수 있을까 고민하는 것 이다.빛으로 모양을 그릴 때 빛을 받은 부분이 굳어지고 다른 부분이 현상(녹음
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.07.19
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2025년 07월 05일 토요일
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