"집적회로공정"의 검색결과 입니다.

기간
- 전체
- 3개월
- 6개월
- 1년
- 2년
- 3년
- 5년
직접입력

적용
연관순
- 연관순
- 최신순
영역
- 전체
- 제목
- 본문
- 태그
페이지 수
- 전체페이지
- 1 페이지 ~ 5 페이지
- 6 페이지 ~ 10 페이지
- 직접입력 페이지 ~ 페이지 적용
확장자
- 전체
- 한글
- PDF
- MS워드
- MS엑셀
- MS파워포인트
- 압축파일
- 기타
할인자료 보기

연관검색어

집적회로공정 반도체 공정 MEMS 반도체 공정실험 mos capacitor 제작 리소그래피 학사편입

판매자 표지는 다운로드시 포함되지 않습니다.

"집적회로공정" 검색결과 881-900 / 1,432건

반도체 종류 및 원리

하여 마 제어회로를 내포해 명령을 해독한 후 연산·제어동작을 실행하는 연산 장치다. (연산처리장치 외에 메모리나 입·출력 인터페이스회로 등을 한개의 LSI에 집적한 싱글칩 마이크로 ... 회로등을 집적시킨 것이며, 세탁기, 냉장고, 자동차, TV 등에 사용됨다) DSP (Digital Signal Processor)아날로그 신호를 디지털로 변환한 후 디지털 데이터 ... 으면 기억된 내용이 없어지는 메모리이다. 이처럼 DRAM은 REFRESH를 계속 해주어야한다. 그러나 Memory cell(기억소자)당 가격이 싸고 집적도를 높일 수 있기 때문에 대용량

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.02

다운로드 장바구니
반도체 레이저 다이오드

반도체레이저 소자 혹은 부품을 제작하는 경우의 기본공정은 아래 공정 흐름도와 같다.이러한 기본 기술의 많은 부분은 집적회로(IC)의 기본기술에 의존하지만, 혼정 결정성장기술, 원자 ... 고려해야할 기본적인 품질로 매우 중요하며, 사양 등에도 엄격하게 규정되어 있다.- 첨가물 활성화율: 격자 사이에 들어간 첨가물 원자는, 그 다음 공정에서 이동하기 쉬우므로 활성 ... 층으로, 에너지 갭이 작은 재료를 선택한다.예) InGaAsP(활성층)/p형 InP(클래드층)/p형 InGaAsP(캡층)/p 전극과 같은 구성.(2)간략공정 및 소자구조1.간략공정

리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.10.19

다운로드 장바구니
MEMS의 정의 및 기술을 이용한 센서 향후 기술전망

되는 마이크론(㎛)이나 ㎜크기의 초소형 정밀기계 제작기술을 말한다. 다시 말하면, 마이크로 단위의 기계적 구조물(Mechanical Structure)과 전자회로가 집적화 되어 결합 ... 란?멤스(MEMS: Micro Electro Mechanical Systems)란 미세전자기계시스템, 미세전자제어기술 등으로 불리는 것으로, 반도체 공정기술을 기반으로 성립 ... 적으로 모재와 무관하게 이루어지므로 모재를 변경시키는 가공 기법에 있어서는 쉽게 적용할 수 있고 그 예로써 전용 제어 회로가 있다. 이것은 기본적으로 얇은 장치에 사용할 수 있고 이것

리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.07

다운로드 장바구니
[실리콘밸리][실리콘밸리 역사][실리콘밸리 경영전략][실리콘밸리 유명기업][실리콘밸리 시사점]실리콘밸리의 역사와 실리콘밸리의 경영 전략 및 실리콘밸리의 유명 기업 그리고 실리콘밸리의 시사점 심층 분석

) 인텔 마이크로프로세서 공정 기술의 발전1968년 집적 회로 생산을 위한 인텔의 공정 기술은 갈수록 고도화되고 정밀해지고 있다. 인텔은 마이크로프로세서 설계의 고도화에 맞춰 혁신적인 ... ) 인텔 마이크로프로세서 공정 기술의 발전2) 인텔의 조직3) 협력 관계 및 기술 개발 프로그램2. HP의 연혁3. 하니웰1) 개요2) 사업분야3) 해외망4. 배덤1) 기술 개발2 ... 첨단 제조 공정을 개발해 왔다.최초의 마이크로프로세서는 10 마이크론 공정 기술로 생산되었다(1 마이크론=1백만 분의 1미터). 인텔 486섵X 프로세서는 처음에는 1

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2009.07.16

다운로드 장바구니
플라즈마, glow방전, 진공증착법

초미세 가공초고집적 회로를 만드는데 필요한 공정은 대단히 복잡하나 이중 가장 중요한 공정중의 하나가 초미세 형상의 가공기술이다. 250 M DRAM 과 같은 초고집적 회로 ... 하면 색의 계조를 구현하기가 쉬우며, 특히 제일 큰 장점으로 제조공정의 특성상 대화면으로 제작이 용이하다.2. 핵융합 발전핵융합에너지는 원료로 이용되는 중수소와 삼중수소가 지구 ... 의 제작에는 폭이 0.25 m 되는 미세형상이나 aspect ratio 가 7-8 이상이 되는 깊은 구멍을 가공 할 수 있는 기술이 필요하며 집적도가 더 높아져 4G DRAM 정도가 되

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.04.04

다운로드 장바구니
자동제어실험 틸트(기울기)센서 예비보고서

이 뛰어나며 특히 산업용으로 사용하도록 설계되었다. 본 센서는 집적회로가 내장된 전자식 액체충전방식으로 설계되었고 매우 낮은 소비전력으로 사용할 수 있으며 뛰어난 정밀도, 매우 우수 ... 이 있었다. 최근에는 MEMS 공정을 이용하여 고정되어 있는 전극과 기울기에 따라 움직이는 전극을 배치하여 양극 사이에 용량 변화량을 측정하는 방식으로 기울기를 측정하는 센서가 출시

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.03.20

다운로드 장바구니
차동증폭기 실험

용과 결합용 커패시터가 필요없기 때문이다 그런데 집적 회로 기술로는 용량이 큰 커패시터를 작은 비용으로 제작할 수 없기 때문에 집적회로에서는 차동 증폭기가 단일 출력 증폭기보다 더 많이 ... 1. Introduction차동 쌍 또는 차동증폭기는 아날로그 직접회로에서 가장 폭넓게 사용되는 빌딩 블록 회로이다. 차동증폭기가 단동증폭기보다 더 많이 사용되는 이유에는 두가지 ... 성능 입력저항 차동증폭기에 부하를 주는 방법들을 배웠고. BJT의 공통모드 제거 기능과 개선된 회로의 직류상태와 차동 증폭을 하는 방법 그리고 공통모드를 제거하는 방법들을 배우게 되

리포트 | 14페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.12.27

다운로드 장바구니
MEMS

때문에 초소형 제작 및 대량 생산 가능. 2. 기계부품과 센서, 전자회로 등을 한 칩에 집적하여 높은 신뢰도를 얻을 수 있다. 3. 작은 소자를 이용하여 미량의 물질을 다루 ... MEMS목 차1. MEMS 의 정의 2. MEMS 의 장점 3. MEMS 의 역사와 정의의 변화 4. MEMS 실용화의 어려운 점 5. MEMS 제조 공정 기술 6. 재료 공학 ... 지만 현재 선도 기술 사업으로 진행되고 있는 기술 개발 과제명은 초소형 정밀기계 기술개발이라 부르고 있다.성냥개비 보다 작은 MEMS2. MEMS의 장점1. 반도체 제작 공정을 이용하기

리포트 | 29페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.05.09

다운로드 장바구니
[공학]나노임프린터 공정과 연구동향

회로선폭의 간격이 좁아질수록 동일한 크기의 다이에 더 많은 트랜지스터를 내장해 반도체 집적도를 높일 수 있기 때문이다. 또한 트랜지스터의 간격이 좁아질수록 전자이동이 빨라져 동작 ... 나노임프린터 공정과 연구동향● 나노 기술 (Nano Technology)최근, 21세기를 이끌어나갈 3대 기술을 꼽으라면 정보기술 (Information Technology ... 로써 이를 이용하면 반도체 기술에 대혁명을 가져올 것으로 예상된다. 미세회로선폭기술은 모든 반도체에 필수적으로 내장되는 트랜지스터의 간격을 얼마만큼 줄일수 있느냐를 결정한다. 미세

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.09.21

다운로드 장바구니
Ubiquitous + Sensor (MEMS, NEMS)

면 지난 26년간 3200배가 증가되어 거의 정확히 들어맞아 왔다. 그러나 이 같은 추세를 계속 지키기 위해서는 집적도를 더욱 향상시켜야 되고 그 경우 2010년경에는 회로의 최소선폭 ... 와 같은 마이크로 로봇을 인공적으로 만들어서 미소한 운동이나 작업을 시키려고 하는 것이다. 즉 개미의 눈이나 촉각에 해당하는 각종 센서, 뇌나 신경에 해당하는 논리 회로, 팔과 다리 ... , inductor, Switch (RF에서는 여러가지 초소형 RF 장비로의 연구개발이 이루어지고는 있으나 공정의 난점이 많아서 상용화가 더딘 편이다.)4. MEMS의 특징

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.26

다운로드 장바구니
[재료공학]리소그래피

?리소그래피(X-ray Lithography)집적회로를 만들 때 중요한 부분에 사진기술이 사용된다. 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 부품의 패턴을 빛으로 촬영하고 그것이 감광 ... 는 장래에 국방 등에 쓰이는 대규모초집적회로 또는 지능기계의 기초가 되기 때문이다.?리소 그래피의 이용 (기사인용)반도체 업계에서는 10GHz 칩을 만들 수 있는 공정 기술 개발 ... 에 많은 노력을 기울이고 있다고 한다. 한 예로 Extreme Ultraviolet사는 초자외선(EUV) 리소그래피 공정 기술 개발에 상당한 진전을 보이고 있으며, 최근 제조 장비

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.06

다운로드 장바구니
고용체 경화와 석출경화

에 따라 변하지 않는 조건 유지.7.5 저항재료-집적회로의 수동부품인 저항은, Si, GaAs로 만든 기판 그 자체의 저항을 이용-온도에 민감한 저항체(서미스터), 전입에 민감한 저항 ... 지만, 실온에서는 녹아들지 않는 합금원소를 첨가한 것? 다음과 같은 제조공정을 거쳐서 합금원소의 석출상을 형성시킴.고온 고용상태? 급냉 (Quench) (물 또는 기름 속에 빨리 담근다

리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.06.09

다운로드 장바구니
[기계공학]노광기

에 전사하는 공정으로, 반도체 제조 공정에 있어서, 회로의 미세화와 집적도를 결정짓는 핵심 공정이다. 감광재료에 옮겨놓은 패턴들은 다음단계의 식각과정때 웨이퍼 표면과 감광재료 사이 ... Lithography, 극단파 자외선 노광장비) 기술? moore's law - “반도체 칩 내의 집적도는 매 18개월마다 2배씩 증가한다. “? 리소그래피 - 제작하고자 하는 회로 ... [프로젝트 5]CPU 메모리등의 고집적 초미세 반도체 제조공정에서 중요한 노광기 제작에 요구되는 필수적인 기술에 대하여 조사하고 노광기의 동작원리와 7세대 LCD제작에 사용할 수

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.05.26

다운로드 장바구니
Vacuum pump(진공펌프) 와 gauge

되며, 비타민을 파괴하지 않고도 식품을 건조시키는 기술도 개발되어 임상의학?약품공업?식품공업에 크게 이바지하고 있다. 트랜지스터나 집적회로(IC) 제조 등의 전자공업에도 중요 ... 동작한다. 만일 공정 압력과 시스템이 요구하는 기본 압력이 둘다 러프진공 범위에 있다면 하나의 러핑펌프로 충분하다. 아래 그림은 펌프의 전형적인 작동 범위를 나타낸 것으로 그전체 ... 적 펌프에 인해 포라인을 밖으로 펌프된다.- 분류법어떤 확산 펌프들은 응축된 오일을 정제 할 수 있도록 간단한 분류 공정을 이용하게끔 설계되는데 이공정이 본류법이다. 응축된 펌프오일

리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.03.23

다운로드 장바구니
기업과 혁신-삼성반도체 행운인가 전략적 직관인가

메모리 1등 신화의 성공 요인黃의 법칙- 국제반도체회로학술회의(ISSCC) 총회 기조연설 中 ('02.2)“반도체 집적도는 1년에 두 배씩 증가한다”Hwang's LawPart 3 ... , 소프트웨어와의 조화 - 기계의 전자회로 수요 다양- 소품종 대량생산 - 대규모 투자집중 추구 - 공정의 극한기술 극복 - 대기업형 사업구조- 다품종 소량생산 - 제품의 칩세트 ... 고 있다. ③ 설계 기술보다는 공정기술이 중요하다. ④ 대량생산제품이므로 투자 회수기간이 짧아 재투자의 여력이 높다.3. 반도체 시장은 빠르게 변화 (DRAM 대체재)☞ 삼성 “타이밍

리포트 | 36페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.15

다운로드 장바구니
우리나라를 대표하는 10가지 품목에 관한것

.반도체는 다이오드와 트랜지스터 등으로 이루어진 집적회로소자 이외에도 열전자방출소자, 전자식 카메라의 전하결합소자(CCD; charge coupled device) 등 첨단 전자산업 ... 가 형성된 2장의 유리기판, 유리기판 사이에 채워넣은 액정, 광원인 백라이트유니트(back light unit:BLU)로 이루어졌다. 매우 얇은 유리기판 위에 반도체 막을 형성한 회로 ... 하는 기능을 한다.제조공정은 유리 위에 마지막 산출물을 도포(塗布)하는 증착(蒸着), 유리판의 이물질을 제거하는 세정(洗淨), 유리판 위에 감광물질(Photo Registor)로 된

리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.08.18

다운로드 장바구니
삼성반도체 전력경영, 메모리시장에서 비메모리 시장으로

지하로 들어가면 회로가 보이지 않아 공정이 까다롭고 경제성이 떨어지는 면이 있었고, 반면 스택 방식은 작업하기가 다소 쉽고 경제적이지만 품질이 불안정했던 것이다.이러한 기술 선택 ... /capacitor)구조를 만드는 데 트렌치(trench)와 스택(stack) 방식 -트렌치 방식은 웨이퍼 표면을 파내어 지하층을 만들어 셀을 더 많이 집적시키는 것이고, 스택 방식 ... 을 하기 때문에 고도의 회로설계기술을 필요로 한다. 메모리 반도체는 기능이 단순한 반면 수요가 많아 대규모 투자를 바탕으로 대량생산 방식이 가능하지만 비메모리 반도체는 소량 다품종

리포트 | 31페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.05.01

다운로드 장바구니
반도체의 역사와 전망

. 반도체 산업 분야1) 메모리 반도체2) 비메모리 반도체3) 반도체 장비3. 반도체의 역사.1) 트랜지스터 탄생과 성장2) 반도체 집적 회로.3) 시대별 발달 과정4. 한국 ... 에 비해서 제법 떨어지는 편이어서 기기의 주기억 장치로는 쓰이지 않고 그야말로 순수한 Data 저장의 목적으로 쓰이고 있다. 메모리의 집적도 면에서는 NAND FLASH가 NOR ... FLASH보다 동일한 공정을 사용한다고 하면 8배 가량 뛰어나지만, read / write 속도에서는 NOR FLASH쪽이 뛰어나다. FLASH 메모리는 그것을 구현하는 물리적 원리

리포트 | 26페이지 | 10,000원 | 등록일 2007.06.25

다운로드 장바구니
삼성반도체 경쟁전략과 사례분석

-신제품 개발의 속도전신제품 개발의 속도전 적극적인 연구개발 투자 공격적인 '병행개발(concurrent development) (D램 기술의 발전) 자료:삼성전자회로집적도256K ... -생산비용의 절감생산비용절감은 경쟁우위 확보에 중요 반도체의 경우 후반기에 가격이 급락 → 불황기 극복이 투자 여력의 관건 삼성반도체는 각종 공정혁신을 통해 가장 경쟁력 있는 생산

리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.11.16

다운로드 장바구니
[반도체공정] 새의 부리현상

반도체 집적회로 공정학번 이름문제 제기? 당시 반도체 회로의 선폭을 머리카락 두께인 1㎛ 이하로는 만들지 못했다. 반도체의 성분인 실리콘이 산소와 반응하면 ‘새의 부리’ 모양 ... , 표면의 평평도, 집적도의 향상, 기존 공정 기술들과의 호환성과 VLSI 회로의 능동 소자들을 분리하는데 잇점을 갖고 있다.다음은 “LOCOS 공정에서 새의 부리 현상을 감소하기 위한 ... 부리 현상이 생겨서 이것이 능동 영역을 잠식하게 되어 회로의 신뢰성 문제를 야기시키며, 집적도를 저하시킨다. 따라서 칩 크기를 작게하고 고집적화가 이루어짐에 따라 새부리 현상

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.01.26

다운로드 장바구니

이전10개 40 41 42 43 444546 47 48 49 다음10개

파워링크

신청하기