"집적회로공정"의 검색결과 입니다.

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반도체 공정 집적회로 반도체 제조공정 MEMS 반도체 공정실험 mos capacitor 제작 리소그래피 학사편입 photoresist

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"집적회로공정" 검색결과 921-940 / 1,412건

삼성반도체와 하이닉스반도체 성공사례에 관한 비교

이 도체와 부도체의 중간정도 되는 물질 집적회로 (IC; Integrated circuit) 한 개의 반도체칩위에 여러 부품과 연결선을 모아서 축소한 것Main Product D ... , ’ 01 년 1G, ’ 02 년 2G, ’ 03 년 4G, ’ 04 년 8G 를 개발함끊임없는 도전 HYNIX Blue Chip Project 최소규모 투자로 최첨단 공정을 구현 ... / 트랜치 방식중 스택 방식 선택 그리고 성공 6 인치 웨이퍼 8 인치 웨이퍼 세계 최초 시도로 신규시설 투자 , 공정개발 , 개선 필요 투자비용 35% 증가 그러나 생산량 78

리포트 | 36페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.06.04

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정밀절삭가공의 이론과 실제(MEMS)

자.1. MEMS의 정의MEMS는 Micro Electro Mechanical System의 약자로 초소형 전자회로와 기계부품이 같은 칩 위에 집적된 시스템을 말한다. 이를 제작 ... 에 따른 저항값의 변화로 유량을 측정한다. MEMS 기술을 적용하여 제작된 유량 센서의 경우 수 nl/min의 유량을 측정할 수 있다.대부분의 유량 센서는 제작 시 증폭회로를 동일 ... 는 많은 수의 칩을 생산할 수 있다.③ 반도체 및 MEMS 제조 공정에서 사용되고 있는 사진 식각 기술(photolithography)을 사용하여 수만개의 다른 염기들을 하나

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.11

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포토리소그래피(Photolithography)

, 인쇄 분야, 인쇄 회로기판분야 및 정밀 가공 금속 제품이나 유리 제품의 제조 등 산업 전반에 널리 이용된다.반도체 또는 LCD 제조공정에서의 Photo Resist는 빛에너지 ... Resist보다 먼저 상업화되어 사용되었다.?현재에도 강한 부식액을 써야 하는 공정이나 집적도가 낮은 반도체 제조시에 이용되고 있으나, 현상(Development)시 Pattern ... 1. Photolithography란?ㆍ정의Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.10.28

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[재료실험][DH실험] 반도체단위공정, 증착, 식각

어 둔 다음, 히터에 전류를 흘러서 가열함으로써 그 금속입자를 증발시키면, 차가운 물체 표면에 응축해서 부착하는 것을 이용하여 표피를 붙이는 방식이다.반도체 소자나 집적회로의 제작 ... (반도체단위공정, 증착, 식각)조학부 :학번 :분반 :이름 :차 례1. Semiconductor Unit Process2. Deposition(증착)3. Etching(식각)1 ... Deposition )가 많이 사용 되고 있다.1) PVD (Physical Vapor Deposition): PVD(물리 기상 증착) 공정의 정의는 생성하고자 하는 박막과 동일한 재료

리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.05.11

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[스마트카드] 롯데 스마트카드 사업 진출로 인한 영향과 향후 전망 PPT자료

는 플라스틱에 마그네틱을 부착하는데 스마트 카드에는 플라스틱에 집적회로(IC) 칩을 넣는다. 마그네틱 카드보다 100배 이상 정보를 저장할 수 있는 데다 칩 성격에 따라 양방향 통신 ... 을 누릴 수 있게되고 롯데는 보다 많은 수익을 확보할 수 있게 된다.Ⅶ. 시너지 효과 창출최근 롯데는 공정거래위원회에서 마이비와 이비카드 결합 승인을 받았다. 이에 본격적으로 시너지

리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.09.28

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[반도체]반도체 소자의 발달사

< 목 차 >서론본론1. 반도체의 특성2. 반도체 발달의 흐름3. Diode 와 Transistor 발달4. Si 반도체와 집적회로 발달5. Microprocess6. 반도체기억 ... 는 트랜지스터를 집적시킨 256M 디램을 개발하였다. 위에서 집적회로의 기술의 변천사를 따로 살펴 보편 IC 또는 SSI (Integrated Circuit or Small Scale ... 1951년포토레지스트 기술이 트랜지스터공정에 처음으로 사용됨1954년상업적으로는 처음으로 실리콘 bipolar transistor가 사용됨1958년Jack Kilby of TI 집적

리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.12.11

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[전자회로실험] FET 바이어스 회로

의 PN 접합으로 이루어짐. BJT보다 발생잡음이 적고, 온도에 대하여 안정MOSFETBJT보다 작은 공간에 회로를 집적화(IC)가 가능. 제조공정이 비교적 간단. 전력소모가 적 ... 전기전자회로실험 실험 2. FET 바이어스 회로실험 목적여러 종류의 FET바이어스 회로 동작을 이해. JFET의 전압 분배기 바이어스 회로의 동작점을 결정. 공핍형 MOSFET ... 의 Zero바이어스 회로의 동작점을 결정. 증가형 MOSFET의 Drain 궤환 바이어스 회로의 동작점을 결정. 바이어스 동작점의 안정성을 이해.FET (전계 효과 트랜지스터)FET

리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.09.14

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[cnc공학]수치제어 장치의 발달 과정

, Digital 회로[1965년] IC(집적회로)부품, Digital 회로[1970년] LSI(대규모 집적회로), MSI(중규모 집적회로) 사용 Mini-Computer 내장[1974년 ... 과정; 성능의 발전과정을 NC 장치의 개발경과로 개략적으로 정리하면[1954년] 진공관, Relay, Analog 회로구성[1959년] Transister등 개별 부품구성 ... 은 의미에서는 제품을 만드는 실제에 있어서 생산공정 또는 계측·제어의 자동화 혹은 설계 자동화 등의 국부적인 자동화를 뜻하고, 넓은 의미로는 제품의 수주에서 출하까지 일체의 생산활동

리포트 | 50페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.02.23

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모방에서 혁신으로를 읽고,,,

가 및 64메가 시대에는 일본을 앞지를 것으로 전망되며 보다 수익성이 높은 특수용도의 집적회로 분야에도 진출하려고 한다. 라고 예측하였다 한다. 우리나라 기업은 10년 만에 무 ... 의 기업들이 재정적으로 어려움을 겪고 있던 미국의 소규모 반도체 생산 기업으로부터 설계 및 공정 기술을 사들여 이를 기반으로 초고밀도 집적 회로 생산을 시작하고 이때부터 3개 재벌기업

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.09.07

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[스마트카드] 롯데 스마트카드 사업 진출로 인한 영향과 향후 전망 보고서

……………………………………9Ⅰ. 롯데의 스마트카드 사업 진출스마트카드는 신용카드나 현금카드는 플라스틱에 마그네틱을 부착하는데 스마트 카드에는 플라스틱에 집적회로(IC) 칩을 넣 ... 는 보다 많은 수익을 확보할 수 있게 된다.Ⅶ. 시너지 효과 창출최근 롯데는 공정거래위원회에서 마이비와 이비카드 결합 승인을 받았다. 이에 본격적으로 시너지를 창출하는 작업에 착수

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.09.28

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플라즈마와 RF

에 대한 측정 방법으로 금속-안테나 구조를 이용, 전하축적에 의한 산화막의 파괴특성을 평가하는 것이 일반화되고 있다.②플라즈마 CVD얇은 박막들은 현 VLSI회로 제조 공정 ... 들이 플라즈마 상태라고 하면 이해하기가 쉬울 것이다. 이중 공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 공정에서 플라즈마 식각(Plasma Etch) 및 증착 ... (PECVD: Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), 금속이나 고분자의 표면처리, 신물질의 합성 등에서 이용되고 있으며, 공정의 미세화, 저온

리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.05.23

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[국제경영]IBM 글로벌경영 현황과 중국시장 진출전략

의 전신 1924년 IBM으로 상호 변경 1933년 최초의 전자타자기 개발 1949년 IBM월드트레이드사 발족 1960년 제2세대 트랜지스터 계산기 개발 1964년 집적회로(IC ... ) 사용의 제3세대 기(機)의 시스템/360을 발표1970년 대규모 집적회로(LSI) 사용의 대용량· 고성능의 시스템/370 1978년 64킬로비트의 초(超)LSI를 사용한 신기종 ... 을 차지20005년 기준으로 자본금 255억 원에 2400명의 직원을 거느리고 있음기업소개사업 확장생산량 극대화시장 장악높은 제품 기술력 + 공정기술 ↓ High-end 제품에서 원가

리포트 | 27페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.01.21

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MEMS 사례발표(DLP)

DMD의 종류3.4 DMD화소의 구성3.5 DMD의 작동원리3.6 DMD의 제작법3.6.1 IC와 MEMS와 DMD 제조 공정의 비교4. DMD의 다른 적용 사례5. DMD의 기술 ... ㎛ 크기의 미세한 거울을 하나의 칩으로 집적한 제품이다. 미세한 거울을 ± 10도의 각도로 10㎲의 속도로 회전시켜 컨트롤한다. 이 때문에 표시되는 영상은 아주 밝고 유연하며 놀라울 ... 의 반사효과를 위해 알루미늄으로 만들어진다. 이 거울들은 최대의 집적율(90%)을 위해서1um의 간격으로 정렬된다. 높은 용적률은 화소의 빛 사용율과 매끄러운 투사 형상을 생성

리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.07.06

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마이크로프로세서

의 단순한 칩들로 이루어진 논리회로를 대체할 수 있는 가능성이 발견되어 마이크로프로세서의 시장가능성을 처음으로 보여주어 컴퓨터 산업으로의 길이 열렸다. 4004 CPU는 메모리 ... 형태를 띠었다. 또한 이것은 108KHz, 4Bit, 10미크론 공정으로 비지콤(Busicom) 계산기에 사용되었다.Data Bus I/O : 양방향 데이터 버스로 모든 주소 ... 적으로 내부 집적도가 떨어지게 되며 주문자에 맞게 제조되는 소량 생산 제품들에 보통 사용된다.③ EPOM (erasable programmable read-only memory)EPROM

리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.05.03

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[인터넷 윤리] - 개인정보와 지식재산권

- 교육* 정태 정보 : 학력, 학교성적* 동태 기록 : 상벌 기록3) OECD의 개인정보 보호 원칙- 수집제한의 원칙 : 어떠한 개인정보도 합법적이고 공정한 절차에 의해 수집 되 ... (고안)* 의장권(공업디자인)* 상표권(상품마크와 서비스마크)- 저작권* 합의의 저작권(문학, 예술)* 저작인접권(실연가, 음반제작가 등)- 신지식재산권* 천단산업저작권(반도체 집적 ... 회로 배치 설계 등)* 산업저작권(컴퓨터 프로그램, DB 등)* 정보재산권(영업비밀, 멀티미디어 등)2) 창작물의 특징- 독창성* 창작물에는 독창성이 있어야 한다.* 창작자 자신

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.17

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삼성과 엘지의 기술적비교

니트(nit) 이상의 고휘도를 실현, 탁월한 영상 생동감을 구현 기존 제품에 PMOS 공정과 스캔 구동 집적화 등을 적용 TFT 기판 제조 기술을 바탕으로 독창적인 AM OLED ... 라인에 블루LED 조명을 적용했으며, 틸트 기능을 적용해 사용자의 눈높이에 맞게 모니터 기울기를 조절 독자 회로기술인 'DFC(Digital Fine Contrast) 기술'을 적용 ... 도와 250 칸델라의 휘도, 1만 대 1의 명암비를 구현 LCD 개발 및 생산을 통해 축적한 LTPS 방식을 채택하는만큼 고해상도 구현은 물론이고 각종 부품과 회로를 패널에 내장

리포트 | 63페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.12.11

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자성나노입자

IBM은 ‘사이언스’에 한 겹의 탄소나노튜브로 완전한 전자집적회로를 만들었다고 발표했다. 개발된 집적회로는 머리카락 굵기 5만분의 1 정도인 탄소나노튜브를 팔라듐과 알루미늄으로 만든 ... 때문에 세포에 손상을 주지 않고 정확한 신경신호를 포착해낼 수 있었다.② 탄소나노튜브 전기회로나노기술에서 가장 주목받고 있는 소재는 탄소나노튜브(CNT, Carbon Nano ... 12개의 트랜지스터가 감싼 형태다. IBM은 탄소나노튜브 집적회로가 아직은 기존 실리콘 칩보다는 수백 배 느리지만, 이전에 개발된 탄소나노튜브 소자보다는 10만 배나 빨라 가능

리포트 | 18페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.10.26

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[공학]반도체 집적소자 제조 단위공정 실험

1. 실험제목-반도체 집적소자 제조 단위공정 실험2. 실험목적-반도체 전자소자 집적회로 공정공학(process engineering)개념이해를 위한 기본 단위공정 ... 사진 현상 및 식각 기술을 이용하여 deposition되어 있는 film을 미세 회로 형상으로 구현하는 일련의 과정을 뜻한다. 이 외에 부가적인 공정으로는 plating(도금 ... 공정1-세정공정(Cleaning process)-금속막(Cu, Al etc.)증착을 위한 Soda-Lime glass기판(Substrate)의 세정. 기판표면의 오염을 최소

리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.11.07

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[반도체] photolithography

(Integrated Circuit, 집적회로) 제작의 성공은 deep uv source와 optical projection system의 정확성, masking layer사이 ... [Photolithography]그림. Positive Resist와 Negative Resist를 이용한 Lithography복잡한 회로소자와 같은 pattern ... hip 또는 die에 해당하는 pattern을 포함하고 있다. wafer 전체에 대한 pattern을 포함하고 있는 경우 mask라고 부른다. reticle은 회로 설계 데이터

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.04.01

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[일반화학]물과 오염의 화학

ppb 이하로 제한하고 있다.최근 조사에 의하면 ⅠC(집적회로)산업, 금속 기계부품의 세정제, 드라이크리닝의 용제로 널리 쓰이고 있는 trichloroethylene ... 이 유지될 수 없다. 물은 사람의 생명을 유지하는 것 이외에 모든 인류에게 음식물을 제공하는 농업에 대단한 역할을 하고 있다. 또한 모든 공업에 있어서도 그 공정에 반드시 막대한 양 ... 냄새부족이 가장 심각한 문제가 된다.② 화학 폐기물화학 폐기물의 주요한 발생원은 다음 세 가지로 설명할 수 있다. 첫 번째 발생원은 폐기물을 발생시키는 화학제품 제조공정이다. 예

리포트 | 21페이지 | 6,000원 | 등록일 2009.07.05 | 수정일 2020.07.26

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