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"스퍼터링 펌프" 검색결과 141-153 / 153건

  • 전자주사현미경(Scanning Electron Microscopy)
    이나 고분자 등의 부도체시료는 탄소막의 진공증착이나 금-팔라듐을 스퍼터링(sputtering)하여 전도성 코팅을 하여야 한다. 시편 홀더는 X, Y와 Z축 방향의 이동과 회전 및 ... 위한2차 전자에 따라 증폭하여 CRT에 보내게 된다. 신호 증폭율은 광전자 증배관(PM)의 광모듈을 가변하여 대조를 조정하므로써 조정하게 된다. 그 밖에 진공을 위해 펌프등을 사용
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.03
  • cvd 와 pvd의 특징과 비교
    는 PVD보다 일반적으로 훨씬 고온의 환경을 요구합니다.먼저 PVD에 대해 언급하면, PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam ... 가를 가지고 있다. 반응생성물과 사용되지 않은 기체들은 진공 Pump로 반응로 바깥으로 배출(배기)된다. 수직으로 놓인 Wafer의 간격은 잘 조정되어야 한다. 질량 전달 한계
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.14
  • [박막] 진공 증착법에 의한 박막 제작
    : AL고리,Mo 보트, 슬라이드 글라스, 면도날, 알루미늄 호일 등(2)세척 기구: 이소프로필 알코올, 아세톤, 증류수 등(3)진공 장치: 진공조, Rotary vaccum pump ... , Oil dirrusion pump, 가이슬러 게이지, 이온화 게이지 등(4)기타: 핀셋, 보관상자, 전원장치 등3.이론(1)진공의 개념①진공의 정의진공이라고 말하는 것은 개념 ... 에서 초고진공까지를 측정할 수 있는 진공 게이지는 아직 없다. 따라서 진공 펌프의 경우처럼 진공 영역에 따라 2~3개의 게이지를 병용해 사용해야 한다.②. 기체의 이온을 이용
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.15
  • SBT 박막제조와 누설전류, 정전기용량 측정 결과 보고서
    의 DC, 1개의 RF)Ti 증착 : DC Sputtering 두께 400Å 상향 스퍼터링 (접착제 및 Pt 확산 방지)SBT 증착 준비SBT 증착 준비SBT 시편※ 진공을 만드 ... 에 따라 증착을 실시하게 되는데.. 증착의 원리를 간단하게 알아보면 박막사이에 불순물 기체로 인한 Defect를 없애기 위해 두 개의 펌프를 이용하여 장비 내를 고진공으로 만든
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.20
  • [전자재료실험]e-beam evaporator에 대하여
    . 손상은 대개 후속 공정단계에서 소둔되어 사라질 수 있다. 그러나 복사효과는 MOS 공정 설계자에게는 매우 중요하다. 스퍼터링이 많은 공정단계에서 전자선증발법을 대신하고 있다.e ... 이 진행되는 동안 진공의 공간은 진공 펌프계의 역할로 계속해서 진공이 유지가 된다. 빔이 조사되는 도가니는 냉각수로 수냉된 도가니로서 증발체와 도가니의 반응이 억제되어 불순물이 증발
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.10.22
  • [재료공학실험] 진공과 pvd, cvd
    수진공도는 진공계로 측정 하며, 진공펌프로는 기름의 증발 등 오염물질을 내지 않는 스퍼터 이온펌프·터보분자 펌프·크라이오펌프 등이 사용된다. 진공용 기재료(초고진공용 재료라고 ... 론, 반응성 증발, 아크방전등 여러 가지가 있으며, 일반적으로 증기상 증발 (vapor evaporation), 이 온 스퍼터링 (ion sputtering), 이온도금 (ion
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.15
  • 박막의 증착 실험
    도금법, vacuum metallizing)이라고 한다. 도금물체는 금속이든 비금속이든 좋으며, 그 작업조작은 장치만 완전하면 매우 간단하다.B. 음극스퍼터링(cathode s ... 다.1 직류스퍼터링(DC sputtering)직류전원을이용한 sputtering 방법으로 구조가 간단하며, 가장 표준적인 sputter 장치이다. 성막속도가 여러 종류의 금속 ... 되어 고속의 이온이 되며 상기와 같이 기판을 충격시키게 된다. 이 때 진공펌프로 계속 배기하고 있기 때문에 아르곤 가스는 거의 없고 증발원자의 이온이 압도적으로 많아지게 된다. 즉
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.09.29
  • [공학]인공장기 생체재료
    와 비슷한 특성을 주기 위해 여러 가지 진공기술-스퍼터링, 화학증착, 이온주입 등을 이용해 표면을 변화시켜 인공장기의 표면특성을 우리 몸과 잘 적응하게 하는 방법이다.인공장기의 제품화 ... 는 생체에 대한 안정성이 좋기 때문에 인공혈관, 심장벽 대용물, 인공흉벽, 복수펌프 등 넓은 범위에서 사용되고 있다.5) 폴리에틸렌(PE) , 폴리프로필렌(PP)일반적인 폴리에틸렌
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.26
  • CRYOGENIC PUMP(크라이오 펌프)
    CRYOGENIC PUMP1. 펌프의 구성가. PUMP MODULE나. COMPRESOR MODULE2. 펌프의 동작원리가. 크라이오 응축 (Cryocondensation)나 ... . 총괄 (진공 시스템 이용)가. 진공펌프의 종류와 압력 범위나. 크라이오 펌프의 총괄CRYOGENIC PUMP━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━『크라이오 펌프는 기체 ... .펌프의 구성가. 펌프 모듈 (PUMP MODULE)1) 구성 : 팽창기 모듈, 1,2단계 크라이오 어레이(cryoarray), 펌프몸통, 2단계온도 모니터(moniter), 압력
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2001.09.13
  • 진공
    고 구조도 간단하다.◈ 고진공 이상의 펌프섭션펌프, 오일확산 펌프, 스퍼터 이온 펌프, 게터 펌프, 터보 분자 펌프,크라이오 펌프등이 있다.☞ Mechanical Pump초기 ... 의 진공펌프는 증기기관을 역으로 하는 모양과 유사하였다. 실린더에서 힘을 받는 피스톤은 상자 안으로부터 공기를 흡수한다. 보다 최근에 개발된 것은 Rotary Oil-Seal Pump이 ... 어 있는 밸브를 통해서 밖으로 밀려난다. 회전축과 밸브는 오일로 봉해져 있다. 매 회전은 고정된 체적을 쓸고 지나가므로 상수 변위 펌프라고도 한다. Rotary Blower Pump
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2000.12.03
  • 금속의 표면처리
    표면을 경화 또는 기타의 방법으로 물리적 성질을 향상 시키는 방법1.4 표면처리 기술의 분류 이용전해연마건식에칭(스퍼터링)습식에칭식각법화성처리양극산화(주로 알리미늄)표면가공전착 ... 도장도장기상도금진공증착(PVD) 진공증착(스퍼터링, 이온플레팅 등)용융도금무 전해도금전기도금박막형태표면처리기술분류1.5 금속표면처리 과정탈지 공정수세제청작업화성피막처리 공정2.1 ... /항공-브레이크, 보디, 배관, 엔진 등 전자 부품 산업-커넥터, 세라믹패키지, 저항체 등 전자 OA 부품-하드디스크, 프린터, 스핀들 등 산업 기계-펌프, 밸브, 반응 조, 열 교환
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 27페이지 | 3,000원 | 등록일 2002.09.10
  • [공학]DRY ETCHING
    Laser interferometry and reflectance8. 식각 특성8.1 식각 Profile1.등방성 식각2.비등방성 식각(1) 스퍼터링에 의한 반응 생성물의 탈착(2 ... hamber와 pump사이를 연결하여 주는 valve를 말한다. 즉 이 밸브가 열리면 chamber안이 진공이 잡히는 것이고 이 밸브가 닫히면 대기압으로 되는 것이다. 이 밸브의 움직임
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 65페이지 | 1,000원 | 등록일 2000.09.15
  • Ultrasonic spray pyrolysis 장비를 이용한 TCO 증착(Al-doped ZnO제작)
    에 의하Sputtering 법이다.이러한 스퍼터링 장치에서 음극은 타겟이 대신하고 있으며 그리고 방전을 시켜주기 위한방전용 가스로 보통 Ar 가스를 사용하고 있다..-Deposition ... overage와 uniformity를 가지고 있다. 또한 Pump 사용으로 압력을 낮춤으로써 반응 Gas의 확산속도를 현저히 높일 수 있고 가격이 싸다는 점도 있다. 단점
    Non-Ai HUMAN
    | 논문 | 26페이지 | 8,000원 | 등록일 2017.09.28
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