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"cvd" 검색결과 1-20 / 2,378건

  • 판매자 표지 자료 표지
    성인실습) coronary artery disease(3VD) 사례보고서
    ............................................................. 35▶ 관상동맥질환(coronary artery disease, CAD(3VD)) 환자 간호사례 보고 ... REPORT과목명: 성인간호학실습Ⅲcoronary artery disease(3VD) 환자 사례보고서목차Ⅰ. 서론 ... 에 대한 적절한 대응과 간호중재가 필요한 실정이다. 본인은 최근 증가하고 있는 관상동맥 질환 환자 간호에 대해 연구하고자 한다.Ⅱ. 문헌 고찰관상동맥질환(coronary artery
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 35페이지 | 3,000원 | 등록일 2025.11.09
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  • 자료 표지
    cvd
    transistors that can be placed on an integrated circuit has doubled every two years. - Intel 공동 창업자 , Gordon ... 조절hallow junctions - Conformal step coverage - Low process-induced defects - 높은 처리량 So…. 박막 증착 공정 기술중 ... 분석 기기 - 박막 관 련 분야 시장 동향 Ⅱ. Subject Ⅲ. Conclusion Substrate D B C A A C B A C B A B A B Ⅰ
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 59페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17
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  • 자료 표지
    plot measured data, parameter extraction : threshold voltage (Id-Vd curve)
    - plot measured data* Id-Vd curve (output characteristic)* Id-Vg curve (transfer chracteristic) ... - parameter extraction: threshold voltage*Id-Vd curveVd가 증가함에 따라 Vt값이 변하여 정확한 값을 알기 어렵다. 이상적인 curve라 가정 ... 하였을 때 0.5V의 경우, pinch-off에서 Vd=1.4이므로 Vd(sat)=Vg-Vt임을 이용하여 Vt=-0.9V를 얻을 수 있다.*Id-Vg curveVd=0.5V의 경우
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 1페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.03.02
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  • 자료 표지
    cvd
    ×1019 분자/cm3 보다 적은 상태를 의미진공의 단위한국공업규격(KS) Torr와 Pa로 규정 . Torr는 mmHg 와 동일 1atm=760Torr(mmHg) =76cmHg ... , 천 피혁 탈수 및 건조 (먼지 제거, 어장, 산소 투입 등)진공의 특성진공에서는 chamber라는 부피공간 내 공기 및 기체가 제거, 외부의 공간과 분리 진공펌프를 이용해 c ... hamber내의 공기를 제거 또는 응축, 흡착 또는 형태를 변형 고진공일수록 chamber 내의 공기나 기체들이 적게 존재함진공의 이용Rough vacuum 760Torr(1atm
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    | 리포트 | 50페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.11
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  • 자료 표지
    cvd
    함으로써 상당히 깨끗한coating을 이룰 수 있다. 대표적인 몇 개의 thermal decomposition 반응의 예는 다음과 같다.◎ Reduction 반응halides ... 의 증착속도 변화에 따른 우선방위의 변화에 대해서 간단히 소개하였다.각각의 박막의 증착속도는 오른쪽과 같다.(a) 3.0 ㎛/hr. (b) 7.0 ㎛/hr. (c) 25 ㎛/hr ... 의 종류 및 양을 분석해내는 표면 분석 장비이다. 최외각 깊이분석(depth profiling)에 의하여 각 원소의 원자비율(atomic concentration)을 측정한다.5. 표면
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    | 리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16
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  • 자료 표지
    cvd pvd
    - 고순도 유지- 미세 패턴의 형성이 가능할 것(step coverage)▷ CVD를 이용한 증착 과정1. 박막의 증착2. 후열처리증착된 박막들에서 증발현상을 막기 위해 열처리를 해야 ... profiling)에 의하여 각 원소의 원자비율(atomic concentration)을 측정한다.5. 표면 및 단면 분석증착막은 증착방법과 증착조건 증착속도, 기판 온도,기판 압력 등 ... 층의 성분 조절 가능- 미세 구조 조절 가능- 복작한 형태위에 균일한 coating- Dense한 증착층, purity 조절 가능② 단점- Coating 반응에 대한 s
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.17 | 수정일 2015.11.03
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  • 자료 표지
    pvd와 cvd
    PVD (물리증착법 : Physical Vapor Deposition)PVD에 의한 코팅방법물리 증착법 (Physical Vapor Deposition)은 코팅될 물질이 기체 상태로 변환되어 물리적 작용에 의해 모재위에 피복되는 방법이다.PVD에 의한 코팅법 종류PVD..
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.09.28
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  • 자료 표지
    pvd,cvd의 종류와 원인 분석, 펌프와 진공펌프의 종류,원리 분석
    pvd,cvd와 진공공정에 필요한 pump배경지식-Deposition (증착) ; 반도체 웨이퍼 표면에 얇은 막을 씌워 전기적 특성을 갖도록 만드는 공정으로 deposition ... diffusion) ⒡ 결정 격자의 형성 반응(Incorporation into the crystal lattice)⒢ 반응 생성물의 탈착 반응(Desorption) ⒣ 기상
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    | 리포트 | 21페이지 | 3,500원 | 등록일 2017.01.31
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  • 자료 표지
    pvd,cvd
    PVD (Physical Vapor Deposition)PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Mol..
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.09
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  • 자료 표지
    화학기상증착(cvd)
    tep coverage가 좋다.9. 기판을 in-situ etching 가능-CVD의 단점1. 반응 변수가 많다.2. 위험한 가스의 사용3. 장치가 복잡하다.*박막형성방법CVD 공정 ... (APCVD )o 대기압 공정o Particle contaminationo 제작용이, 박막 형성이 빠름o step coverage 불량CVD 공정의 초기 형태이며 Silicon 산화막 ... 보다 증착률이 높다.o 좋은 접착도, 적은 핀홀 밀도, 좋은 단차피복성(step coverage)o substrate 지지판 전극은 Ground (300~350C 가열)o 사용 주파수
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.28
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  • 자료 표지
    건식도금(pvd, cvd)
    하는 전류량이 충분히 증착재료에 전달될수 있도록 증착 source 면적과 열적접촉 (thermal contact)을 크게 하는것이 바람직하며, 이 방법은 다양한 크기와 형상의 증착 s ... 스퍼터링의 장ㆍ단점장점단점a. 넓은 면적의 target을 사용할 경우 wafer 전 면적에 걸친 고른 박막의 증착이 가능.b. 박막의 두께 조절이 용이.c. 합금 물질의 조성 ... ) 증착 속도 가 매우 느림.c. 유기물 고체인 경우 ionicbombarment를 저해시키거나품질이 떨어짐.d. 공정이 저진공상태에서 수행되므로 다른 불순물에 의한 오염 가능
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    | 리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.10.17
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  • 자료 표지
    cvd 와 pvd의 특징과 비교
    olid Deposition를 이루는 합성 공정을 말한다CVD System의 활용 범위① Diamond thin film으로 coating된 향상된 음향성질의 speaker ... diaphragm Plasma CVD② 향상된 마모 저항성을 지닌 bushings(관내에 끼우는 물질)과 textile 구성요소를 생산하기 위한 Diamond-like carbon c ... oating. Plasma CVD③ Uncoated toll 보다 크게 우세하고 산업에의 적용성이 빨라진 Titanium carbide와Titanium nitride CVD-coated
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.14
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  • 자료 표지
    update on cvd prevention in women(갱신된 여성들의 심혈관질환 예방책) 논문 번역본
    mmHg, 이완기압(DBP)≥80 mmHg, 또는 치료된 고혈압총 콜레스테롤≥200mg/dL, HDL-C(고지질단백질)
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.05.29
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  • 자료 표지
    [금속] cvd와 pvd
    때문에 특히 배기가스처리에 많은 신경을 써야 한다. 대개 cold trap에 의한 제거. 흡수나 scrabber(가스세정기)등을 통해서 수세 중화 등을 하게 된다.2. PVD ... 적 증발도금이라고도 말하고 세 가지로 분류할 수 있다.. 1)진공증착법(vacuum metallizing):뒷면은 도금이 되지 않으므로 기판을 회전시켜야 한다2)음극스퍼터링(c ... (또는 진공도금법, vacuum metallizing)이라고 한다. 도금물체는 금속이든 비금속이든 좋으며, 그 작업조작은 장치만 완전하면 매우 간단하다.【2】음극스퍼터링(c
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.12.06
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  • 자료 표지
    [재료공학실험] 진공과 pvd, cvd
    때 그릇 속의 수은표면에서 유리관 속의 수은 표면까 지의 높이가 항시 76cm임을 알아내었다.. 진공의 분류 (진공 정도를 표현하는데 있어서는 사용하는 집단에 따라 약간씩 다르 ... 가 진공용기의 크기 보다 긴 상태이기 때문에 분자간의 충돌보다는 진공용기 내벽과의 충돌이 많다. 진공관 제작, CRT(cathode ray tube), 이온주입(ion ... 의 진공상태로 일반적으로 공기 속에서 는 1cm3당 2.7×1019개의 기체분자가 서로 부딪치면서 날고 있다. 이 분자수(分子數)를 적게 한 상태가 진공이다. 진공상태는 압력으로 표시
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.15
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  • 자료 표지
    [재료공학] cvd(Chemical vapor deposition)
    하는 것을 열 CVD라고 한다.○열 CVD의 특징장점: a) 원료 가스나 반응계(장치, 공급ㆍ배기)ㆍ조건의 설정에 따라 고순도의 박막이 형성된다.b) 피복성이 좋다.c) 플라즈마 CVD ... 가 1011cm-3의 플라즈마를 이용하여 치밀하고 고속의 성막과 고밀도의 패턴간을 충전하는 성막, 바이어스의 인가로 평탄한 막을 형성할 수 있는 CVD 기술응용 기술ECR 플라즈마, 유도
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.13
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  • 자료 표지
    [전자재료, 반도체, 반도체공정]pvd와 cvd의 조사
    1. CVD란?CVD기술의 원리는 “형성시키려고 하는 박막재료를 구성하는 원소로 된 1종 또는 그 이상의 화합물, 단체의 가스를 기판위에 공급해 기상 또는 기판 표면에서의 열분해, 광분해. 산화환원, 치환 등의 화학반응에 의해서 소망하는 박막을 형성시키는 방법”이라고 ..
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    | 리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.01.08
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  • 자료 표지
    [재료공학실험] 진공, cvd, pvd
    ■ 조사 사항● 진 공1. 토리첼리의 실험1643년 이탈리아의 물리학자 토리첼리는 유리관과 수은을 사용하여 다음과같은 실험을 하였습니다. 즉, 단면적1cm인 한쪽 끝이 막힌 길 ... 이 1m의 유리관 안에 수은을 가득 채운 다음, 수은이 담긴 그릇 안에 거꾸로 세우면, 유리관 안의 수은주는 그릇에 담겨 있는 수은의 표면으로부터 76cm의 높이를 항상 유지 하 ... 게된다는 것입니다.이때 유리관 위쪽에는 진공상태가 되는데 이를 "토리첼리 진공"이라 합니다.유리관 안의 수은주가 76cm가 되는 것은 수은주의 무게가 그릇에 담긴 수은의 표면에 작용
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    | 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.11.11
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    [재료공학실험] 박막증착실험(진공, pvd, cvd)
    /cm3보다 적은 상태를 의 미한다. 또 진공으로 한 용기 내에 남아 있는 기체의 압력을 그 때의 진공도라 한다. 진공 은 진공펌프를 써서 용기 속의 기체분자를 뽑아내어 얻게 되 ... +(cryo trap, baffle)+확산펌프(diffusion pump)- 저진공펌프(mechanical pump)+(micromaze trap)+터보분자펌프 ... 기체가 reaction chamber안으로 유입된다. 이 기체 혼합물은 증착 표면에 이르기까지 가열되고, 대류 또는 증착 표면의 가열에 의해 계속 열을 공급받는다. 여러 가지 공정
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    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.15
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  • 자료 표지
    반도체 박막 증착 공정의 분류 보고서 (3P)
    (chemical vapor deposition) 증착 공정(Fig.3)으로 크게 1) APCVD(atmospheric cvd), 2) LPCVD(low pressure cvd), 3 ... ) PECVD(plasma enhanced cvd) 4) HDPCVD(high density plasma cvd)으로 분류된다. 먼저 APCVD 공정은 열에너지를 활용하는 가장 기본적인 ... 적 특성을 갖도록 유도하기 위한 증착(deposition) 공정에 대해 알아보고자 한다.Fig. 1 PVD 증착 공정 형태 Fig. 2 step coverage반도체 제조에 사용
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    | 리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.03.14
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2026년 01월 07일 수요일
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