*철* 스토어

*철*

개인

팔로워0 팔로우

소개

등록된 소개글이 없습니다.

전문분야 등록된 전문분야가 없습니다.

판매자 정보

학교정보

입력된 정보가 없습니다.

직장정보

입력된 정보가 없습니다.

자격증

입력된 정보가 없습니다.

판매지수

판매중 자료수

2개
전체 판매량

3개
최근 3개월 판매량

0개
자료후기 점수

-
자료문의 응답률

-

전체자료 2개

[반도체공정]반도체 기초공정

1. Ultra-High-Vacuum?실험실에서 얻을 수 있는 약 10-8㎩의 진공상태를 말한다. 일반적으로 공기 속에서는 1㎤ 당 2.7×1019개의 기체분자가 서로 부딪치면서 날고 있다. 이 분자수를 적게 한 상태가 진공이다. 진공상태는 압력으로 표시하며, 단위는 ㎩(파스칼)이다. 1atm은 약 105㎩인데, 보통 10-5㎩ 이하의 압력이 초고진공이다. 또 10-9㎩ 이하의 압력은 극고진공(extra-high vacuum)이라고 한다. 초고진공 상태에서는 1㎤ 중의 기체분자가 266만 개로 적어지며, 고체 표면을 1분자층만큼 덮는 데 4시간이 소요된다.초고진공에서는 기체분자끼리의 충돌이 적어지고, 기체분자가 서로 붙지 않은 깨끗한 고체 표면을 얻을 수 있다. 따라서 불순물이 매우 적은 박막재료(薄膜材料)를 만들 수 있다. 우주공간은 초고진공으로 되어 있는데, 지구상에서 초고진공을 만들기 위해서는 진공펌프와 진공용기가 필요하다. 진공도는 진공계로 측정하며, 진공펌프로는 기름의 증발 등 오염물질이 발생하지 않는 스퍼터이온펌프 ·터보분자펌프 ·크라이오펌프 등을 많이 사용한다. 진공용 기재료(초고진공용 재료라고도 한다)로는 스테인리스강(鋼) 계통을 많이 사용하며, 질화티타늄을 피복한 알루미늄합금도 사용한다. 진공계로는 초고진공용 이온화진공계나 초고진공마그네트론진공계를 이용한다.2. Wafer cleaningCLEANING (DEWAXING)이 공정은 PRE CLEANING 또는 DEWAXING 공정이라고도 부르며 POLISHING 공정을 거치면서 오염된 WAFER의 표면을 화학약품 또는 물리적인 세정을 통하여 다음공정에서 발생할 수 있는 장비의 오염등 문제 발생을 1차 세정하여 막는데 있다. POLISHIED WAFER의 앞, 뒷면에 무기물, 유기물, 금속이온 등의 오염물질을 각종 화학약품 및 물리적인 세정능력을이용하여 CONTAMINATION FREE WAFER를 생산한다.SPIN DRYPRE CLEANING 후 WAFER 표면에 묻어있는 수분을 제거하기 위해서 원심력을 이용한 장비를 빠른 속도로 회전지켜서 WAFER 표면의 물기를 제거한다.DSS(DOUBLE SIDE SCRUBBER)청정한 작업환경이 요구되어지며 청정실 내에서 컴퓨터로 제어된다. 이전 공정에서 넘어온 WAFER가 이 장비에서 암모니아 원액 및 초순수로 불순입자를 씻겨나가게 한다.ASIC레이져 빔을 이용하여 육안으로 식별되지 않는 미세한 불순입자의 개수와 분포를 검사하여 WAFER의 합격, 불합격 여부를 판정한다MIS레이져 빔을 이용하여 육안으로 식별되지 않는 미세한 불순입자의 개수와 분포를 검사하여 WAFER의 합격, 불합격 여부를 판정한다3. Metal Deposition알루미늄이나 금 혹은 텅스텐 등의 금속은 소자에 전도층을 형성하는데 사용된다.일반적으로 금속은 이베포레이션(Evaporation:증류)과 스퍼터링(Sputtering)등의 두 가지의 다른 방법으로 주입되는데, 이것들은 박막 증착법의 범주에 속하는 것이다..외부로 부터 소자 구조를 연결시키기 위해서는 금속층의 증착과 패터닝이 요구되는데, 복잡한 IC는 전기적으로 고립된 3개 때로는 4개의 금속화된 층을 가지고 있다. 금속층의 성장시 유전층과 점착성이 좋아야 한다. 박막은 물질의 상호 확산을 막고 오염으로 부터 회로나 소자를 보호하기 위해 증착되게 됨이베포레이션은 금속재료를 증착시키기 위해 고진공(5x10-5 ~ 1x10-7torr)에서 전자빔이나 전기 필라멘트를 이용해 보트를 가열하여 보트위에 금속을 녹여 증류시키는 것. 이때 증류된 금속은 차가운 웨이퍼 표면위로 응축되는 것이다.그림에서와 같이 금속은 저항 가열 소스 홀더(보트)위에 놓여지게 되는데, 증착되는 부분은 이 보트의 위치에 맞게 정해지게 된다. 챔버내에 진공을 만들고 원하는 진공상태에서 보트에 전원이 공급되면 금속이 증발하게되는 것이다.Sputtering스퍼터링에서는 이온을 생성하기 위해 플라즈마를 사용하는데, 플라즈마 내에서 생성된 이온들로 하여금 웨이퍼에 달라붙게 공정으로우선 플라즈마를 생성하기 위해 아르곤(Ar)가스 분위기에서 캐소드 쉴드를 사용한다. 소스 물질과 기판은 그림에서와 같이 고전압 전원에 연결된 반대편의 평행판 위에 놓여지게 되는데 증착되는 과정은 먼저 챔버를 진공으로 만든 다음 낮은 압력의 스퍼터링 기체, 보통 아르곤을 챔버내로 흘려주고 전극에 전압을 가해주게 되면 아르곤기체(Ar+)를 이온화하게 되고 플레이트 간에 플라즈마가 발생한다. 소스 물질로 덮여있는 플레이트는 기판에 비해 음전위로 유지되므로 아르곤 이온은 소스물질이 덮여있는 플레이트로 가속되게 되는데 아르곤 이온의 충격으로 소스원자와 분자들은 플레이트로 부터 방출되어 웨이퍼로 날아가 증착이 되는 원리이다.금속증착에는 DC전원을 절연체의 증착에는 RF를 사용한다고 하는데 금속 증착시에도 RF스퍼터링을 이용한다.3. Photolithography1) PR CoatingPR Coating이라 함은 분사된(Dispense) Liquid(액상) PR을 높은 회전수로 회전시켜 균일한 얇은 막의 형태로 기판 전체를 도포시킨 후 일정온도에서 Baking하여 PR의 용제(Solvent)를 기화?제거시켜 단단하게 만드는 과정을 말한다.PR(Photo Resist)이란 특정 파장대의 빛을 받으면(노광: Photo Exposure) 반응을 하는 일종의 감광 고분자 화합물(Photosensitive Polymer)이다. 이때 반응이라 함은 PR의 일정 부분이 노광 되었을 때 노광된 부분의 Polymer 사슬이 끊어지거나 혹은 더 강하게 결합하는 것을 의미한다.일반적으로 노광된 부분의 Polymer 결합사슬이 끊어지는 PR을 Positive PR이라 하며 그 반대의 경우를 Negative PR이라 한다. 또한 그 형태에 있어서 액상(Liquid) PR과 Film Type으로 구분한다. 일반적인 Thin Film Process에서는 반응성(Sensitivity, Contrast 등)의 우수함으로 인해 AZ 계열의 Positive Liquid PR을 사용한다. 그러나 특수한 경우, 예를 들어 Cyan Type Gold Plating 공정에 있어, Ca(Chemical Amplification; 화학증폭) Type의 Negative PR을 사용하기도 한다. Thin Film Hic 공정에서는 Resistor Patterning 등에는 Positive PR을, 도금 공정에는 Negative PR을 사용한다. 또한 Liquid Type의 일반 PR이 아닌 Film Type의 Dry Film을 사용하기도 하며 이 경우 Spin Coating 대신 Laminating 공정을 통해 PR을 Coating 한다.?2) Exposure(노광)노광이란 Photo Mask를 통해 자외선 영역의 빛을 조사(照射)함으로서 Mask상에 형성된 미세회로 형상(Pattern)을 Coating된 PR에 전사(轉寫)하는 과정을 말한다. Mask의 Pattern은 얇은 Cr 막으로 형성되어 있으며 Cr Pattern 위에 조사된 빛은 반사되어 PR을 감광시키지 못하며 Cr이 없는 부분은 투과하여 PR을 감광시킴으로써 Coating된 PR에 미세회로 형상을 전사시킨다.PR의 종류에 따라 Mask 또한 Negative 혹은 Positive로 분류되며 Positive PR에 Positive Mask를 사용하거나 Negative PR에 Negative Mask를 사용하면 PR에는 원상(Original Image)이, 그 외의 경우에는 역상(Reverse Image)이 형성된다.노광과정에는 Mask Aligner라고 하는 노광장비가 사용되는데, Aligner라고 부르는 이유는 미세회로 형상의 위치를 정밀하게 제어하는 것이 중요하기 때문이다.?3) Develop(현상)현상이란 노광 과정을 통해 상대적으로 결합이 약해져 있는 부분의 PR을 용제를 사용하여 녹여내는 과정을 말하며 이러한 과정을 통해 형성된 PR의 형상을 PR Pattern이라 한다. Positive PR의 경우 감광 작용에 의해 풀어진 고분자 사슬 부분이, Negative PR의 경우 감광 작용에 의해 결합이 강해진 부분에 비해 상대적으로 결합이 약한 부분(노광되지 않은 부분)이 녹아 없어진다. 현상액으로는 크게 염기성의 수용액과 Solvent류가 있다. 대부분은 KOH 수용액과 같은 염기 수용액을 사용하지만 Su Series와 같은 Negative PR은 아세톤이나 특정 Solvent를 사용한다.?현상이 끝나면 현상과정에서 풀어진 Polymer 조직을 단단하게 만들기 위해 Baking(Hard Baking)을 한다; Baking 공정은 Photolithography 과정에서 자주 행하는 공정인데, 크게 PR Coating 후의 Soft Baking, 노광 후의 Post Exposure Baking(PEB), 현상 후의 Hard Baking이 있다.4. Ecthing식각공정은 궁극적으로 기판 상에 미세회로를 형성하는 과정으로서 현상공정을 통해 형성된 PR Pattern과 동일한 Metal(혹은 기타 Deposition된 물질) Pattern을 만든다. 식각공정은 그 방식에 따라 크게 Wet Etching과 Dry Etching으로 구분하는데, Wet Etching이라 함은 금속 등과 반응하여 부식시키는 산(Acid) 계열의 화학 약품을 이용하여 Thin Film Layer의 노출되어 있는(PR Pattern이 없는) 부분을 녹여 내는 것을 말하며 Dry Etching이라 함은 Ion을 가속시켜 노출부위의 물질을 떼어냄으로써 Pattern을 형성하는 것을 말한다.

공학/기술| 2006.02.02| 7페이지| 1,500원| 조회(2,580)

반도체, 공정, 기초공정

미리보기

닫기
[예술론]독립영화를 보고서

예 술 론19911521 박철현당신의 여자친구(Your Girl Friend)마주보는 두 벽면을 향한 이미지들은 평상복 차림의 여자가 스쿼시를 치는 장면이 나타나고 여성의 이미지는 여러 개체로 분산되었다가 다시 하나로 모아지기를 반복한다. 벽면과 스쿼시 채에 부딪히는 공의 소리는 그녀의 독백에 묻혀지기도 하고 드러나기도 하며 여러 채널을 갖기도 한다. 이미지와 소리를 재구성, 재배치함으로써 자신의 시선과 보는 이의 시선이 대립하는 공간들을 열어두었다.감상 후기가장 난해 했던 부분은 작가 혹은 감독이 뭘 얘기 하고 싶은 건지 예 술의 문외한인 나로서는 이해할 수 없었다는 것이다. 도입부에 숲 속의 이미지에서 작은 글씨들이 타자로 표현 되며 다시 지워지고 반복되고 이미지적으로 강한 인상을 남겼다. 하지만 문을 열고 두 사람이 스쿼시를 치며 잔영이 보여지고 다시 그 잔영이 보여지고 다시 합쳐지고 다시금 독백을 하고 다시 스쿼시의 사 운드 속에서 독백이 이어지고 정말 주관적인 견해로는 반복 속의 강조 보다는 지루함의 더 느껴졌다. 인디(indie)라는 말로 구성의 단순함이나 관객의 집중을 흐린다는 것은 상업영화에 익숙해진 나로써는 그냥 지나칠 수 없는 부분이였다. 예술에 대한 백지상태인 내가 만약에 재구성한다면? 이란 모티브 제작을 할 수 있다면#1 대립, 공존(도입부)갑자기 들어온 두 사람들 보다는 보다 연 계감을 주기 위한 두 사람의 연관성을 부 각시키는 장면을 삽입 함으로 공존과 대 립의 연관성을 부각시킨다.체육관에 입장하기 전 장면에 남자와 여 자의 공유된 시간과 연계성을 부가하는 장면을 삽입함으로써 이어질 독백과 사운 드의 객체를 보다 분명히 얘기한다. EX) 서로간의 애정의 장면 서로간의 다툼장면#2 대비같은 공간이지만 색체, 명암 대비를 통한 극명한 대비를 줌으로서 보다 대립적인 표현 을 추구하는 건 어떨까? 여자의 부분에서 조금은 유채적으로 그리고 남자의 부분에서 무채적으로 그 반대로 대비를 시켜 진행함으로써 같지만 다른 느낌을 주는 것이 다른 입장의 대화를 보다 효 과적으로 표현할 수 있을것이다.#3 모놀로그[monologue]혼자 말하는 부분에서 여자는 여자의 말대로 남자는 남자의 말대로 혼자 말하며 서로의 대한 사건보다는 자신의 말들을 더 말하고 있다. 그 장면 중 서로 다투는 부분을 오버랩[Overlap]시킴으로 그 사건에 대한 여자의 생각과 남자의 생각을 극명하게 갈라준다. 서로의 다툼 장면을 서로 다른 시각[남자시각(1인칭)에서 여자가 보는 장면/여자의 시각(1인칭)에서 찍고 그 장면을 기본 구조인 스쿼시 치는 장소에 삽입하고 다시 전환 #1 스쿼시 치는 장면 #2 여자부분과 남자부분의 다른 시각의 독립부분의 장면의 재삽입 #3 다시 스쿼시 치는 장면을 삽입 #4 같은 사건의 다른 독백으로 구성#4 장면 연계/비교가장 이해하기 힘든 부분 중에 하나였던 반복의 지루함이다. 일률적인 것을 의도했다면 할말은 없지만 그로 인한 획일적인 구성은 지루하다는 느낌을 지울 수 없었다. 태생적 가치는 어떨까?라고 생각했다. 같아 보이는 일상 속에서 느끼는 두 남녀의 차이점 #1 어릴 때의 같은 시기의 남자와 여자의 사진 #2 더 자라감에 따른 같은 시기의 순차적인 남자/여자간의 사진들을 빠르게 진행시키며 점차 달라지는 남자와 여자의 이질감 #3 만남의 장면 - #4 친구들과 만남에서의 남자와 여자들의 만남을 토로하며 술을 마시는 장면을 삽입 #4 다시 스쿼시 장으로 전환 – 이어지는 남자 독백과 여자의 독백# 이러한 사진들을 연속적으로 계속 삽입한다.#5 결말(스쿼시장에서)지쳐버린 남자 스쿼시 장 구석에 앉아 여자에게 문자를 보내며 여자의 반응 기다리고 여자는 문자를 보는 순간 다른 곳에 전화가 와서 전화를 받으며 퇴장 남자가 뚫어지게 보는 휴대폰 라켓으로 공을 신경질적으로 한번 치며 퇴장 여자 – 벨소리 (밝은 사운드) 남자와 여자의 다른 톤 같은 말 – “내 여자(남자)친구는….”#후기어이 없는 컨셉일 수 있지만 이렇게 하면 보다 함축적이며 연계적인 발상을 하지 않을 수 있을까? 해서이다. 거듭 강조하지만 난 문외한이다.예술은 정의 내릴 수 없는 명제라지만 딱히 떠오르는 것 역시 없는 백지상태의 사람이지만 나름대로 이렇게 하면 좋지 않을까? 상업영화에 철저히 길들여진 사람이 생각한 것이라 뭔가 틀에 맞출려는 의도를 배제 할 수 없지만 예술은 자신을 표현하는 수단이면서 남에게 보여지는 수단이라 생각한다. 바스키아의 한장면 중 “너를 평가해주는 대중은 아직 태어나지도 않았어.” 라는 말 역시 많이 와 닿았지만 보는사람들을 철저히 무시한 작품 역시 호소력이 짙다고는 말 할수 없다.라고 생각한다.{nameOfApplication=Show}

예체능| 2005.12.15| 10페이지| 1,000원| 조회(239)

영화감상문, 감상문, 인디영화, 독립영화, 인디

미리보기

닫기