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"박막공정" 검색결과 861-880 / 3,368건

  • OLED재료와 기술 그리고 향후 전망
    유기층의 손상을 방지하기 위하여 건식 공정인 shadow mask, lift-off 공정 등을 적용한다. 박막 형성 및 패터닝 공정이 완료되면 금속 캔이나 보호막을 이용하여 소자 ... 이 있음을 알 수 있으며, 단, 공정면에서 일부 개선 및 보완되어야 할 여지는 있다.예를 들어, 투명 전극인 ITO 박막의 표면 균일도 향상, 발광층과 전자-정공 수송층 등의 특성 ... 서론OLED 개요OLED 분자 재료 및 특성EL의 원리와 재료기술 분류 및 구동공정 기술R,G,B 컬러 형성 방식OLED 구동 방식향후전망결론OLED 재료와 기술 그리고 향후전망
    리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.04.09
  • SK하이닉스 양산기술 합격자소서
    는 저전력, 박막화, 우수한 색 재현력, 구부러지는 소재였습니다. OLED는 소자가 자체 발광하기 때문에 BLU가 필요 없어 저전력 구동과 박막화가 가능했습니다. 또한, 소자 ... 모양이 될 수 있게 대비했습니다.미래 기술로는 초박막형, 투명한 배터리 셀과 투명한 태양광 패널 등의 기술이 개발되어 Nail Display가 작동되기 위한 최소한의 전력 공급 ... ~1000자 10 단락 이내[양산/기술 직무의 포토 공정 엔지니어가 되고 싶습니다]‘기초반도체’를 수강하여 반도체 기본 8대 공정에 대해 배우고 특히 포토 공정에 흥미를 느꼈습니다. 인
    자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.05.16 | 수정일 2020.10.06
  • 2017하 LG 이노텍(제품 개발) 최종합격 자소서
    을 증가시키면서 많은 투자를 하고있습니다.이와 맞물려, ETRI(한국전자통신연구원)에서 연구 연수생으로서 약 2개월간 경험을 하면서 직접 공정 조건들(산소 분압, 기판 온도, 증착 ... 을 진행하고 싶습니다.[직무] 지원 분야를 위해 '노력한 내용(전공, 직무경험 등)'과 이를 통해 '확보된 역량'을 구체적으로 기술해주십시오.박막 공학, 반도체.디스플레이 재료, 중급 ... 여 박막의 두께와 증착 조건에 따른 이동도와 투명도를 볼 수 있는 실험을 설계하였습니다. 주로 FTO(Fluorine Tin Oxide)를 증착하고 특성을 분석하였습니다.이 과정
    자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.06.16
  • 초음파 진동자를 이용한 분무 열 분해 에어로졸 발생 장치 보고
    . (200~300 만원 ) - 기판에 도달하는 시약의 양이 적음 . - 박막의 균일도 감소 . 소음이 큼 . - 박막에 가해지는 힘이 약함 . 분자량이 큰 입자는 효율적으로 발생 ... ( 특허등록번호 : 1003389270000) ▲ 정전기 분무 열 분해 장치 모식도 ▶ 박막을 좀 더 균일하게 만들기 위해서 전압을 걸어주는 방식 . ▶ 용매의 끓는점이 너무 낮 ... 거나 높아서 대상물 표면에 큰 입자가 형성이 되어 증착된 박막의 균일성과 평활도가 떨어지는 것 방지 . 2017. 11. 14 화 본론- 11 - 연료 전지용 디젤 개질 기술 개발 중
    리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2017.12.08
  • Photolithography 공정의 이해
    을 구현한다. 또한, 추후 wet etching 공정을 통해, Ni 박막의 패터닝을 통한 CNT 의 성장을 위한 기판을 준비한다.3. 실험 과정실리콘 웨이퍼에 PR을 도핑하기 전 ... Photolithography 공정의 이해-결과보고서-1. 실험 목표자외선 램프를 이용한 photolithography 공정의 원리를 이해하고, μm 수준의 미세한 패턴을 균일 ... 하게 형성할 수 있다.2. 실험 내용감광성물질인 PR (photo resist) 을 기판 표면 상에 균일하게 도포하고, 이를 노광, 현상 공정을 통해 직경 3 μm 수준의 미세 패턴
    리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2018.10.02
  • 판매자 표지 자료 표지
    (생명과 환경) 태양광발전이 환경을 파괴한다는 여러 주장과 그것이 사실인지 여부에 대해 조사해보시오
    시스템의 공정 작동 원리(2) 태양광 시스템 패널2. 태양광 시스템으로 인해 발생할 수 있는 환경문제들에 대한 고찰3. 태양광 시스템으로 인한 환경오염에 대한 주장과 반박근거(1 ... 은 핵심 물질이지만 대부분 지난 10년간 PV 산업의 확장으로 인해 채굴된다. 원자재 채광에 이어 석영은 전자 등급 실리콘으로 가공되어야 한다. 이 공정은 고온의 용광로에서 석영 ... 광 발전의 긍정적이고 부정적인 환경 영향을 이해하기 위해서는 기능성 태양 전지 패널을 생산하기 위해 무엇이 필요한지 깨닫는 것이 중요하다.(1) 태양광 시스템의 공정 작동 원리광
    방송통신대 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.02.24
  • 박막별 wet etching - chemicals
    ; 2000 ㎖ 인산에 200 ㎖/day DI 첨가 → 155℃에서 41Å/min에칭속도는 Si3N4 박막의 밀도 및 O,H농도에 따라 변화하고, SiO2에 대해 선택적으로 Si3N
    리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.12.07
  • OLED,MOSFET에 대한 정리
    를 조정한다.OLED는 소자가 자체발광이기 때문에 LCD와 달리 백라이트가 필요 없고 덕분에 박막화가 가능하며 무게가 가볍고 야외에서도 또렷한 가독성을 제공한다. 백라이트 방식 ... 은 3단자 반도체 소자인 BJT에 비해 매우 작게 만들 수 있고 제조공정이 간단하며 비교적 적은 전력으로 동작이 가능하기에 직접회로 (IC ; Integrated Circuit) 설계
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.03.20
  • 막분리 실험 예비보고서
    실험제목예비 Report막분리 실험년반조월 일실험목적에너지 소비가 적은 역삼투막을 이용해 무기물을 분리해 농도, 온도, 압력에 따른 분리공정을 이해하고 장치의 조작방법을 습득 ... 에서 사용되고 있다.막분리 공정의 특징장점단점1. 상변화가 없어서 간단하고 에너지 절약이 가능하며 연속적으로 분리 가능.2. 실온에서 운용 가능.3. 오염물질의 분해제거 및 분리 ... 제거가 동시에 가능4. 처리시간이 짧으며 대용량으로 처리가 가능.1. 건조된 용질을 얻기에 제한적.2. 순수 물질을 얻기엔 많은 공정이 필요.3. 막이 소모적이어서 최적의 운영조건
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.04.12
  • 판매자 표지 자료 표지
    투명전극(ITO)과 진공펌프 및 게이지와 스퍼터링의 종류들과 원리
    플레인 공정 등 최첨단 전자 디바이스 제작에 폭넓게 이용되고 있다.여기에서 산화물이나 질화물박막을 원하는 조성으로 증착하고 싶을 때 추가적으로 가스를 공급하여 반응을 일으킬 수 있 ... 의 종류분류정의ITO(ⓞIn함량, 크기, 합성방법, 형성 공정등 조절 (Sn도핑)ⓞ간편 에칭, 높은 결정화 온도 (F도핑)ⓞ자원풍부, 저온 결정화, 후처리공정 (Al, In, Ga ... 의 변화perlink "https://ko.wikipedia.org/wiki/%EC%A7%91%EC%A0%81%ED%9A%8C%EB%A1%9C" \o "집적회로" 집적회로 생산라인 공정
    리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2019.07.03 | 수정일 2019.07.04
  • 2019 상반기 LG 디스플레이 R&D 자기소개서
    / 100자 ~ 500자[전공 수강 교과목]CAD 입문(2013) / B+공학 제도 및 CAD(2107) / A+박막공정(2017) / B+전자재료물성(2017) / B전자회로 및 응용 ... ]최근 LG디스플레이는 롤러블 디스플레이를 공개했습니다. 말려 있는 디스플레이를 펼치며, 미래를 향한 날개도 펼쳤습니다. 저는 공정 엔지니어로서 LG디스플레이의 미래에 함께하고 싶 ... 어 지원했습니다. 공정 엔지니어는 높은 수율을 위해 공정에 대한 전반적인 이해가 필수입니다. 또한, issue 발생 시 해결 능력이 매우 중요합니다. 이는 issue에 대한 근본적인
    자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.05.18
  • 나노화학실험 SAMs & DTP 예비보고서
    하게 연구되고 있는 Langmuir-Blodgett (LB)막과 함께 대표적인 유기 분자 박막이다. LB막과 SAMs가 뚜렷하게 차이를 보이는 부분은 막을 형성하는 과정으로 LB막 ... 하고, Contact angle값이 커지면 이는 표면이 소수성이 되었음을 의미한다.[5.1] Photolithography-원하는 모양을 형성하기 위한 기술로써 반도체 제조공정 ... 에 있어서 설계된 pattern을 실제로 형성하는 공정을 말하며, 주로 patterning 공정에는 photolithography 공정이 이용된다. photolithography란 빛
    리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2020.06.30 | 수정일 2020.07.05
  • 대면적 OLED 기술
    μm 두께의 금속 박막을 이용하여 제조하게 된다. 이러한 박막 금속을 공정상에서 다루기 위해서 FMM을 금속 frame에 용접하여 이용하며, FMM과 기판의 밀착도를 향상 ... 는 기반을 조성하였다. 기판크기의 증가는 단순히 기판 크기만 증가한 것이 아니라, 기판 크기에 맞는 LCD 소재, 공정 및 장비 기술의 개발 및 발전이 선행되었기 때문에 가능한 일이 ... 었 방법이다. Full color OLED의 구현을 위해서는 red, green, blue 각각 세 번의 mask 공정을 거치게 된다. 통상적으로 OLED에 이용되는 FMM은 50
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.10.13
  • 패터닝 예비보고서
    (SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용(3) 패턴된 산화막 ... .(2) 반도체 제조 공정과 정의 (각각의 단일 공정을 개략적으로)반도체의 제조 공정은 크게 ① Wafer(웨이퍼) 제조 및 회로설계 ② Wafer 가공 ③ 조립 및 검사 ④ 포장 ... 의 4가지 공정으로 나누고 세부 내용은 다음과 같다1) Wafer(웨이퍼) 제조 및 회로설계① 단결정 성장(Crystal Growing)고순도의 다결정 실리콘이 단결정 성장로(爐) 속
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.05.27
  • T-cad를 이용한 소자의 특성 변경과 분석
    다양한 공정변수에 따른 N-mos의 특성분석-Characterization of N-mos according to various process parameters/서 론현대사회 ... 다. MOSFET은 lithography, etching, deposition, oxidation 등 여러 공정을 거쳐만들어지게 된다. 이때 공정 변수를 다르게 하면 MOSFET ... 의 특성이 달라진다. 우리는 NMOS의 주요 공정 변수 변화에 따른 소자의 특성 변화를 분석하고 고찰하였다. 공정변수에 대한 파라미터 특성을 살필 것이므로 NMOS의 구조는 두 개
    리포트 | 115페이지 | 5,000원 | 등록일 2020.04.29 | 수정일 2024.08.06
  • MEMS관련 기술 논문 분석
    시키기 위해 SiO2 박막을 증착한 뒤 소수성기의 자가조립 단분자막을 형성하였다. 이렇게 제작된 표면구조의 성능 평가를 위해 PVC 시트의 UV-가시광선 투과도와 증류수의 접촉각 ... 한 lift off 공정. 한국정밀공학회.UV 나노임프린트는 한번 경화된 UV 경화성 레진 패턴은 화학약품(유기용매)에 제거가 잘 안 되는 단점을 가지고 있다. 따라서 빠른 임프린트 ... 공정속도로 패터닝이 가능한 장점을 가지고 있어도 메탈 lift-off 공정에 사용을 하지 않고 있다.FFig1. Schematic of the nanoimprint
    리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.11.22
  • VLSI공정 4장 문제정리
    반도체 공정 및 실험 4장윤 혜 정이온주입은 반도체 내부로 불순물 원자들을 주입하는데 사용하는 공정기술로서 반도체 기판의 전기적 성질을 변화시키는데 사용되어 왔다.원래는 불순물 ... 양의 정밀한 조정, 불순물 프로파일의 개선된 재현성, 확산 공정에 비해 낮은 공정온도 등의 장점을 가진다.이온 분포이온이 웨이퍼 표면에 주입되면, 이온은 격자 내의 원자와 충돌 ... 또는 게르마늄 비 정질 주입공정은 채널링 효과를 완전히 제거할 수 있다. 선비정질 주입 방법의 단점은 이것이 별도의 이온 주입 단계를 더 추가하므로 생산단가를 증가 시킴.격자결함
    리포트 | 15페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.06.05 | 수정일 2020.05.03
  • pvd,cvd의 종류와 원인 분석, 펌프와 진공펌프의 종류,원리 분석
    는데, 박막을 얼마나 얇고 균일하게 입혔느냐에 따라 반도체의 품질이 좌우되기 때문에 매우 중요한 공정 중 하나이다. 또한 박막의 두께가 워낙 얇기 때문에 정교하고 세밀한 기술이 필요 ... pvd,cvd와 진공공정에 필요한 pump배경지식-Deposition (증착) ; 반도체 웨이퍼 표면에 얇은 막을 씌워 전기적 특성을 갖도록 만드는 공정으로 deposition ... process는 웨이퍼 표면에 원하는 물질을 박막의 두께로 입혀 전기적인 특성을 갖게 하는 과정이다. 이 과정에서 분자 또는 원자 단위의 물질을 웨이퍼에 여러 겹으로 쌓게 되
    리포트 | 21페이지 | 3,500원 | 등록일 2017.01.31
  • 판매자 표지 자료 표지
    반도체 제조공정 실습 REPORT
    공정 조건변화에 따른 박막특성을 고찰2. 실험과정①Wafer 전처리 -> ②챔버 내 시편 loading -> ③Pump를 통해 진공분위기 -> ④공정 압력 조절 및 DC ... (sccm)1111112222평균 두께 (nm)31*************(1) α-Step을 이용한 W박막 두께 측정결과공정 압력 증가(2배) : 평균 W박막 두께 감소 (평균 ... ))=> 공정압력이 작을수록(진공도가 높을수록), Current가 클수록, 가스 유량이 많을수록 증착되는 박막두께는 두꺼워진다.(2) 기판에 따른 접촉각과 표면에너지specimensTi
    리포트 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.03.13 | 수정일 2022.10.13
  • 합금 제조 및 미세조직 관찰 예비 [A+ 레포트]
    에는 닥터 블레이드 공정, 종이 주입 성형공정, 롤 성형공정이 있다.닥터 블레이드 공정은 축전기용 전자 세라믹스, 박막과 후막 전기 회로용 전기절연 기판, 자기 기억장치 및 촉매 ... 서술하시오.성형공정(Shape-forming process)의 종류에는1. 가압성형 [pressing]-일축 가압성형 [uniaxial pressing]:건식(dry), 습식(wet ... 성지 정확하게 성형할 수 있는 장점이 있다. 건식 가압성형은 건조 공정을 생략할 수 있고 생산성이 높아서 가장 널리 쓰이는 성형 방법이다. 이 방법으로 생산되는 제품에는 간단
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.06.01
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2025년 08월 25일 월요일
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