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"박막공정" 검색결과 801-820 / 3,368건

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    [2019 A+ 인하대 공업화학실험] 패터닝 결과보고서 공화실 결보
    8는 색이 다르다는 것을 알 수 있다.공정변수에 따른 결과Gas ratio이 실험은 CoTb와 CoZrNb로 이루어진 박막 각각 Ar와 C2F6로 식각한 실험이다. 전체 기체 유량 ... 은 매우 많다. 그중 특히 Photo lithography 분야에서 많이 일하고 있다.따라서 우리는 반도체 공정에 대한 전반적인 과정을 익히고, 각 과정들을 진행하는 이유와 어떻게 ... 된 wafer웨이퍼 공정을 통해 Si 판을 만든다.산화 공정을 통해 SiO2층을 만든다.포토공정을 통해 SiO2위에 회로 패턴을 만든다.이번 실험은 etching과 ashing을 하
    리포트 | 17페이지 | 3,500원 | 등록일 2020.04.13 | 수정일 2020.04.18
  • 엘엠에스(LMS)기업분석, 대학과제, 강소기업
    새로운 시장 개척 소형 프리즘시트 HLAS XLAS RLAS 할로겐 PLAS DLAS 대형 프리즘시트 광정보 차단 필터 픽업 렌즈 R D 공급망 미세 공정박막 퀀텀닷 고객 맞춤 ... 중국 대만 일본 유럽 북미 한국 원천 기술 ( 미세공정 , 초박막 ) 을 중심으로 신제품을 개발 (XLAS, RLAS) 하고 적용제품 범위 ( 소형 , 중형 , 대형 ) 를 지속 ... 가 업계 표준을 두고 경쟁중인 상황 기업소개 성장과정 위기 극복 시사점4. 미래제언 기업소개 성장과정 위기 극복 시사점 OLED 용 필름을 제조하는 방향 (OLED 시장 ) 미세공정
    리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.07.14
  • 판매자 표지 자료 표지
    (생명과 환경) 태양광발전이 환경을 파괴한다는 여러 주장과 그것이 사실인지 여부에 대해 조사해보시오
    중 오늘날은 물론, 미래 시점에도 가장 널리 쓰일 것으로 예상되는 것이 박막 태양전지이다. 박막 태양전지는 다시 기판 증착 물질에 따라 다양한 종류로 구분되는데 대표적인 것이 아몰 ... 있다는 장점이, 카드뮴-텔루라이드 태양전지는 생산공정과 제조 원가가 우세하다는 측면에서, 구리·인듐·갈륨·셀레늄 태양전지는 효율적인 면에서 비교 우위를 차지하며 지속적인 발전 ... 카드뮴으로 인해 태양전지 제작의 공정마다 유해물질 배출이 나타난다는 것이다. 특히 전지 모듈의 카드뮴은 빗물 등과 접촉했을 때 용출이 나타날 수 있어 그 위험성이 높아지게 된다. 이
    방송통신대 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.02.07
  • 무기합성법 조사
    고 가격이 저렴한 탄산염계 분말이 사용된다.3) 고온고상 반응법의 공정① Weight and mixing형광체를 제조에는 호스트를 구성하기 위한 raw material과 도펀트를 넣 ... 에서는 막자와 막자사발로 분쇄해서 잘 섞어줄수 있지만 공장 스케일에서는 흔히 ball mill이라는 공정을 사용한다. 볼밀은 입자의 분쇄와 혼합을 한번에 해주는 공정이다. 방법은 일정 ... 지만 액상볼밀은 용매를 혼합시킨 후 공정을 하기 때문에 seiving을 한다. 일종의 채로 거르는 과정이며 건조시켜서 용매를 제거한다.④ Firing소결과는 다르다. 단순히 열처리
    리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.06.05
  • 반도체재료 Report- 신재생에너지 Solar cell
    -Si● 높은 실리콘 의존도Poly crystalline-SiSi thin filmAmorphous Si● 낮은 효율● 낮은 박막 증착 속도● 높은 장비 투자 비용a-Si/nc-Si ... 박막형 Si 결정화합물 반도체II-VI족CIS/CIGS● 흡수층 제조장비 부재● 고비용 소재 (In,Ga,Te)● 독극성 소재 (Cd)CdTeIII-V족GalnP2/GaAs● 낮 ... 위에 제작이 가능하며, 비교적 효율이 낮고(10-13%) 시간에 따라 더욱 낮아진다.* 박막형 Solar cell (Thin-film solar cells) - 박막형 태양전지
    리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.23 | 수정일 2020.06.30
  • PLD 사전보고서
    하여 대상표면에 박막을 만들도록 한다.이 공정은 Ultra high vacuum 또는 배경 가스의 존재 하(증착된 막을 완전히 산소화하기 위해 oxide를 증착시킬 때 사용되는 산소 같 ... )하여 고체(또는 때때로 액체) 표면으로부터 물질을 제거하는 공정. 레이저 광속이 낮을 때, 물질은 흡수된 레이저 에너지에 의해 가열되어, 증발하거나 승화한다. 레이저 광속이 높 ... 이 필요한 대상에 증착한다. 광학적, 화학적 또는 전자적 기능을 위해 박막을 필요로 하는 품목의 제조에 사용된다. 원료 물질 또한 불가피하게 (부품을 고정시키는 고정 장치를 포함
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.06.01
  • [2019최신 공업화학실험] 패터닝 예비보고서
    \ac(○,5) 박막 공정박막을 웨이퍼 위에 증착시켜 전기적인 특성을 갖게 하는 과정이다.금속 증착에 사용하는 PVD(물리적 기상 증착법), 실리콘이나 유전체 증착에 사용하는 CVD ... 목적반도체 소자 제조 공정의 일부분인 패터닝과 식각 공정을 실제 현장에서 다루는 장비를 사용하여 직접 실험해본다. 직접 패터닝하고 식각한 산화막 ... 의 패턴을 관찰해보고 식각 속도 및 식각 선택도를 계산한다. 이를 통해 반도체의 구조 및 반도체 제조 공정의 원리와 과정을 정확히 이해한다.실험 이론1) 플라즈마 (Plasma
    리포트 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.01.31 | 수정일 2025.01.31
  • 반도체의 원리, 종류 및 공정 과정
    디지털 회로 설계HW#1목차트랜지스터란?1) 접합형 FET(JFET)2) 절연형 FET(MOS)반도체 공정이란?1)웨이퍼 제조, 회로 설계 및 마스크 제작2) 웨이퍼 가공-박막 ... . 가장 대표적인 공정박막형성, 패턴 형성 그리고 도핑 3가지가 있다.-박막형성박막형성의 목적은 웨이퍼 표면에 막을 형성하는 것이다. 가장 기본적인 박막형성법은 웨이퍼 표면 ... 다.ALD공정의 원리ALD는 원자층 증착법으로 ALD금속이 포함된 원료와 반응 가스를 교차하여 주입함으로 원료와 가스를 반응시켜 원자단위 박막을 성장시키는 방법이다. 기존의 PVD
    리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.12.01
  • [화공실험]태양광 발전 실험보고서
    태양전지는 분류 기준에 따라 다양하지만 일반적으로 실리콘 태양전지와 박막태양전지 그리고 차세대 태양전지로 크게 3 가지로 구분할 수 있다.실리콘 태양전지에는 결정질 실리콘 태양전지 ... 와 비결정질 실리콘 태양전지가 포함되어 있으며 결정질의 경우는 제조 단가가 높은 단점이 있으나, 에너지 효율이 높아 널리 상용화 되고 있다. 이에 반면 비결정질의 경우 공정기술 ... 이 어렵화큐셀은 P 형 HP-multi 기판에 PERC 기술을 적용하여 19.2% 변환 효율태양전지를 생산하고 있으며, 16년까지 1.5GW 규모의 투자가 진행중이다.실리콘 박막 태양
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.03.23
  • 무기공업화학 기말고사 정리
    에 적합7. 반도체 공정 (8대공정)에 대해 간단히 설명하라.1. wafer 제조 : 반도체 직접 회로의 핵심재료인 웨이퍼는 Si(실리콘) 등을 성장시켜 얻은 단결정 잉곳을 적당 ... 한 지름으로 얇게 썬 원판모양의 판이며 쵸크랄스키법 또는 플로팅 존법을 통한 공정이다.초크랄스키법은 종자 용융 실리콘과 접촉하여 천천히 위로 끌어올리고 냉각 고화시켜 실리콘을 얻 ... 는방법이고 플롯존법이랑 용융상 실리콘 영역을 다결정 실리콘 봉을 ㄸㆍ라 천천히 이동시키며 다켤정 봉이 단결정 실리콘으로 성정하도록 하는 방법이다.2. 산화공정 : Si 기판위에 산화제
    리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.02.23
  • 판매자 표지 자료 표지
    패터닝 예비보고서(학부 실험)
    로 증착된 감광액 박막을 단단하게 만드는 공정5) 정렬(Align) : 마스크에 있는 패턴과 웨이퍼 표면의 패턴을 일치시키는 공정6) 노광(Photo expose) : 마스크 정렬 ... 이 끝난 후 자외선 광을 조사하여 마스크 패턴을 감광액 박막에 전달하는 공정7) 현상(Developer) : 노광 과정을 통해 상대적으로 결합이 약해져 있는 부분의 감광액 박막을 용액 ... 는 부분만을 선택적으로 식각하는 공정(4) 식각(etching)식각 공정이란 감광막 현상 공정이 끝난 후 감광막 밑에 길러진 혹은 증착된 박막들을 공정목적에 따라 부분적으로 제거
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.06.17
  • ITO Scribing & Cleaning 예비
    . 유기EL 소자제작공정은 기본적으로 박막이 도포 되는 영역에 기준 하여 진행이 되므로 Plastic 기판 상에서도 적용이 가능한 장점을 가지고 있으나 이는 장래의 기술적인 도전과제 ... 된 표면을 세정하여 소자의 성능 및 수율을 향상시킨다.실험 원리Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room ... 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다.? Cleaning & Wet-Station 의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.12.16
  • 차세대 메모리 종류와 특징
    . 기존의 DRAM 공정은 1T-1C 구조의 cell를 이루고 있는데 capacitor공정의 난이도가 점점 더 올라가게 되어, 높은 수율을 가지는 DRAM cell의 제작이 점점 ... 변화 원인으로 제시되는 메커니즘은 크게 두 가지로 나눠집니다. 하나는 박막 내부 구조적 변화에 의한 multi-filaments 모델, 다른 하나는 내부 전기장 변화에 의한 ... )에 의해 박막 내부로 전극 금속물질이 삽입되거나 박막 내 결함구조에 의해 metallic filaments(conducting fliaments)가 형성됩니다. 이 저항 정도
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.08.20
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    초미세공정 족보 정리본 - A+ 학점 확정
    위에서 coating vapor 혹은 sputtered atom을 응축시킨다.공정은 일반적으로 진공환경에서 이루어진다.PVD는 거의 metal을 증착하기 위한 방법으로 많이 사용 ... 된다.Evaporationevaporation은 source material을 melting 하고 evaporating 함으로써 고순도의 박막을 형성하는 방법이다.evaporation에는 기본 ... 아지면 그 물질은 vapor form으로 바뀐다)가 굉장히 낮기 때문에 current path로 자주 쓰인다.증착된 박막의 두께를 측정하려면 QCM(quartz crystal
    리포트 | 23페이지 | 2,000원 | 등록일 2019.10.16 | 수정일 2019.10.22
  • 비휘발성 차세대 메모리
    메모리 소자의 초고속화, 초고집적화 및 초 절전화가 관건입니다. 기존의 DRAM 공정은 1T-1C 구조의 cell를 이루고 있는데 capacitor공정의 난이도가 점점 더 올라가 ... 있게 되는 것입니다.ReRAM의 저항 변화 원인으로 제시되는 메커니즘은 크게 두 가지로 나눠집니다. 하나는 박막 내부 구조적 변화에 의한 multi-filaments 모델, 다른 ... 적 스트레스(forming process)에 의해 박막 내부로 전극 금속물질이 삽입되거나 박막 내 결함구조에 의해 metallic filaments(conducting fliaments
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.08.20
  • CVD, PVD의 이해
    에 원하는 재질의 막을 입히는 공정 Microelectronics 에서 가장 먼저 사용된 CVD 시스템 대기압 분위기 , 300 ~ 500 ℃ 의 온도 특징 반응 장비 제작이 용이 낮 ... 은 온도와 높은 증착률 (1000 Å / min ) 스텝 커버리지가 나쁘다 . 박막 균일도가 상대적으로 떨어짐 – 불순물 오염 가스 소비가 큼2. 건식도금법의 종류 화학적 기상 ... 증착법 (CVD) – LPCVD -. 저합 화학 기상 증착 -, 0.2~2.0torr 의 압략과 300~900 도 온도 특징 스텝 커버리지와 박막 균일도가 좋다 . 낮은 불순물 입자
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.12.01
  • 접촉각 측정 및 표면개질 실험 순서
    (organic electronics) 부분에서 유기박막트랜지스터가 실제 소자에 응용될 때 수분차단 효과를 높임으로서 장기 신뢰성을 확보하고 유기보호막 공정 이후 공정에 대한 트랜지스터의 공정 ... 있기 때문에 분자간 상호작용에 의해 친수성 및 소수성 표면 특성이 바뀔 수 있다.3) 표면개질 반응의 실생활 활용에 대한 고찰수분 차단 특성이 개선된 유기보호막을 적용한 유기박막 ... 트랜지스터의 제조 :본 발명은 차세대 플렉시블디스플레이등으로 응용이 가능한 유기박막트랜지스터(OTFT)의 유기보호막 표면을 소수성 (불소계) 물질로 자기조립박막기술을 이용
    리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2018.10.09 | 수정일 2023.02.03
  • DRAM에 관한 레포트입니다.
    DRAM♦ 목 차 ♦1. 메모리란?2. DRAM(1) 의미 (2) 종류(1) 의미 (2) 특징 (3) 구조 (4) 제조공정(1) 의미 (2) 구동원리 (3) 재료4. 박막공정3 ... oxidationCVDALD3. Capacitor란? - 재료4. 박막공정 – CVD (Chemical Vapor Deposition)4. 박막공정 – CVD (Chemical ... Vapor Deposition)♦ 가스박막 이용시, 불순물제거 위해 추가공정 필요 ♦ 두께균일성, Step Coverage, 초기상압으로 사용할때의 오염문제점♦ 저압영역에서 CVD
    리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.11.12
  • [시험자료] 반도체공정및응용 중간고사 정리 (족보)
    의 한계를 극복하기 위해 도입된 입체(3D) 구조의 공정 기술이다.? 집적도가 증가함에 따라 생기는 누설전류를 문제를 gate를 2개 이상으로 늘려 해결13. Silicon 세정 ... 이고, 그 성분에 대하여 설명하세요.? 포토레지스트(Photoresist)란 빛을 조사하면, 화학적 변화를 일으키는 재료인 감광액의 일종으로 반도체 생성공정에서 특정한 회로패턴 ... 된 부분을 남긴다.24. X-ray lithography에 대하여 간략하게 설명하세요.? x-ray lithography는 패턴이미징을 위해 박막의 일부를 선택적으로 제거하는 데
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.10.20 | 수정일 2019.12.02
  • 투명전극 전기적 특성 평가
    투명전극이 진공 공정을 통해 도포된 유리 기판상의 각 화소를 포토리소그래피 공정으로 제조된 박막 트랜지스터(TFT : thin film transistor)로 제어함으로써 화상 ... 투명전극 전기적 특성 평가1. 이론1) 투명전극투명 전극(Transparent electrode)은 가시광선에 대해 투명하고, 전기 전도성이 있는 박막을 말한다. 박막에는ln ... 이하로 전기전도성이 우수하고 380에서 780nm의 가시광선 영역에서의 투과율이 80%이상이라는 두 가지 성질을 만족시키는 박막이다. 기존의 평판디스플레이의 경우, 금속 산화물
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2017.06.30
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2025년 08월 25일 월요일
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- 작별인사 독후감