MOCVD

소개

MOCVD 에 대해서 서술.

목차

1. 실험설계
2. 광학현미경 [Optical Microscope]
3. SEM [Scanning Electron Microscope]
4. XRD [X-Ray Diffractometer]
5. PL [Photolithography]
6. New 설계 제안
7. 참고문헌

본문내용

MOCVD란?
화학적 기상성장법(CVD) 중의 한가지로 화학반응(유기금속의 열분해반응)을 이용해 반도체기판상에 금속화합물을 퇴적·부착시키는 화합물반도체의 기상 성장법

유기금속화합물 을 원료로 하고 수소 등을 이송기체로 사용 → 기판 위에서 비가역적 열분해 반응이 일어나도록 함으로써 고체 상태의 결정을 성장시킴

<중 략>

1) 이론

빛을 쬐어주고 쬐어준 물질에서 나오는 빛의 주파수 별 분포를 보는 것
레이저로 반도체를 여기 시키면 여러 운반자들이 생겨나고 이들이 다시 재결합되면서 빛을 방출
x축(빛의 파장 or eV) - y축(방출된 photon수)으로 놓고 도시 : Peak점이 생김

참고자료

· Journal of the korean Vacuum Society (Vol.14, No.4, 2005, pp222~228)
· MOCVD법에 의해 성장된 undoped GaN 에피박막의 특성에 미치는 고온성장 온도변화의 영향
· MOCVD 법을 이용한 저결함·무균열 GaN 에피 성장에 관한 연구
· MOCVD를 이용한 비평면구조 기판에서의 GaN 선택적 성장특성연구
· InGaN-GaN 다중양자우물 자외선 LED 양자효율 향상에 관한 연구