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"박막공정" 검색결과 1,801-1,820 / 3,367건

  • 금속 산화물 및 질화물 합성 (예비)
    시킴분말합성법열탄소환원질화법알루미나와 탄소와 혼합물을 질소분위기에서 고온 반응시킴박막합성법(화학증착법)· 직접 질화법과 열탄소환원질화법 비교 : 열탄소환원질화법보다 질화반응 온도 ... 때문에 1700℃이상의 높은 질화반응 온도가 요구되며, 또한 α-알루미나와 탄소분말과의 균질혼합, 잔류탄소의 하소 등과 같은 추가적인 공정과정이 요구된다. 열탄소환원질화법이 직접 ... 된다. 또한, 반응시간을 줄이고 완전한 질화를 위해서는 과량의 탄소가 요구되며, 결과적으로 장시간의 잔류탄소제거공정으로 인한 산소의 유입가능성이 제기된다. 탄소와의 균질혼합을 위하
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.04
  • 진공증착
    1. 실험 제목진공 증착2. 실험 목적진공증착의 원ㅇ리를 알아보고 프로그램을 이용하여 박막을 설계를 한 후 실재 로 무반사 박막계를 제작. 측정하여 프로그래밍한 값과 비교 분석 ... 었다.진공 증착진공 증착이란 진공 중에서 금속이나 화합물을 증발시켜, 증발원과 마주 보고 있는 기판의 표면에 박막을 만드는 것을 말한다.금속이나 화합물이 증발할 만큼 고온으로 하 ... 에 반응시키고, 기판에 증발원에 대하여 양의 고전압을 걸어 질화티타늄 등의 이온으로 증착시키는 반응성 진공증착으로 강한 박막을 만드는 방법도 있다. 진공 증착은 증발원으로부터 직접 증기
    리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.02
  • 박막재료의 표면처리 및 PR 제거
    1. 실험 제목 : 박막재료의 표면처리 및 PR 제거2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정박막재료의 세 가지 공정으로 나눠 지는데 첫째 ... 로 증착공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나눠진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이 ... 다. 본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른박막의 표면과 두께의 변화 등에 대하여 고찰하고자 한다.3. 실험내용
    리포트 | 18페이지 | 15,000원 | 등록일 2007.12.12
  • ITO,ITO glass,,박막 증착 기술,전착(electro deposition)
    코팅기술 덕분이다.TN/STN 용 Coating Glass[ITO 코팅 GLASS 특성]1. 원판 GLASS의 Surface를 Fine-polishing 공정에 의해 200A ... 까지 미세-연마하여 최고의 평탄도를 갖는다.2. 고-청정 CLEAN ROOM system과 균일한 2중 박막코팅으로 투과율이 우수하고 비저항이 낮다.3. DIP process에 의해 ... . 우수한 마그네트론 스퍼터를 적용으로 균일한 두께의 ITO 박막을 증착하여 면저항 및 식각성이 균일하다.[SPECIFICATION]Touch Panel 용 Coating Glass
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.10.20
  • 반도체 공정 기술-lift off
    을 얻는 것이 용이하지 않다.그림 2의 (a)는 패턴을 형성할 때 etching하는, 즉 제거하는 공정이다. 웨어퍼는 완전히 박막층으로 덮이고 감광제와 같은 차폐물층으로 선택 ... 적으로 보호된다. 그리고, 습식 또는 건식 에칭은 보호되지 않은 부분으로부터 박막물질을 제거한다. (b)은 첨가하는, 즉 lift-off공정에 의한 소자 단면도이며 이 경우 기판 ... 그림 1(a) etching(감법) 과(b) lift-off(첨가) 방법의 비교Lift-off공정이란 반도체 공정중 Etching(식각) 공정중에 일반적인 etching을 사용
    리포트 | 2페이지 | 5,000원 | 등록일 2008.01.10 | 수정일 2017.03.21
  • 디스플레이 종류 조명 LCD
    목차1. 디스플레이의 정의2. 디스플레이의 종류3. TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display)4. 박막트랜지스터 액정디스플레이 ... 실리콘 박막트랜지스터의 동작 특성(1) 선형 영역ID = CSINXμnW(VG - VTH)VD / LCSINX ? 전하를 축적할 수 있는 능력.(커패시턴스)μn - 전자의 전계효과 ... ) Ohrmiconduct layer비정질 실리콘 박막트랜지스터의 구조(1) 역스테거드 구조현재 사용되고 있는 비정질 실리콘 박막트랜지스터의 구조는 대부분 역스태거드형이다. 이러한 역스테거드 구조에는 크
    리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.05.04
  • 반도체 제조 공정
    적인화학반응 공정 - 화학기상증착(CVD) 공정반도체 공정 중 원하는 재료를 기판 위에 증착시키는 공정박막증착(thin film deposition) 공정이라 한다. 이 공정 ... 상업적으로 이용되는 박막제조 기술 중 가장 많이 활용되고 있는 기술이며, 특히 IC의 생산공정에 있어서는 매우 중요한 단위공정이다. 그 이유는 화학기상증착이 높은 반응온도와 복잡 ... 을 모두 포함하는 대표적인 화학공정이라 할 수 있으며, 화학공학적인 해석과 제어가 증착되는 박막의 특성을 결정하는데 있어 매우 중요한 역할을 수행하는 공정이라 하겠다.?에피택시
    리포트 | 15페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.05.01
  • 플라즈마
    나노 이하의 반도체 제작에 응용합니다.< 디스플레이?>최근 TFT-LCD가 모니터 및 TV로 각광을 받으면서 플라즈마는 LCD 공정박막 트랜지스터를 만드는 공정에 응용 ... < 목차 >1. 플라즈마의 정의2. 플라즈마의 특징3.플라즈마의 활용분야- 반도체 공정- 디스플레이- 우주공학- 의료 분야- 그 외...2010. 10. 31.1. 플라즈마 ... < 반도체 공정 >그림 1 플라즈마(건식) 식각 모양이러한 플라즈마 상태가 산업적으로 응용이 되고 각광을 받기 시작한 것은 1960년 말 반도체 공정에 응용이 되면서입니다. 주로
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.14
  • 이온 플레이팅
    을 적절히 이용해서 Macroparticle을 Filtering하는 기술이다.◆ 이온 플레이팅에서의 이온빔이온빔(Ion beam)을 이용하는 PVD 기술도 박막 제조공정에서 중요 ... 한 박막 미세조직과 화합물 형성능력을 조합한 혼성(Hybrid) 기술이라고 할 수 있다. 즉, 증발에서 사용하는 증발원을 그대로 이용하되 스퍼터링에서 이용하는 플라즈마를 도입 ... 을 가열 혹은 입자를 충돌시켜 원자, 분자로 분해하고 다시 이것을 D.C나 R.F전원으로 이온화시켜 처리물질의 표면에 응축시켜서 박막을 형성하는 방법 이다. 흑피처리나 질화 방법
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29
  • CVD를 사용한 유리기판에 증착된 화합물 반도체 B13P2
    : BP(4700kg/mm² ) B13P2(5900kg/mm² )녹는점 : BP(1167℃ ) B13P2(2120±30℃)공정 효율성 증대, 새로운 보호 물질로 사용2. B13P ... 방법사용 장비 -APCVD-반응 Gas *N2 희석 5% B2H6 5% PH3 *캐리어 Gas N2 Gas기판 세척 -RCA 표준세척 공정3. 실험 방법유리기판을 꺼내지 않고 바로 ... 을 최소화.4. 결과 및 고찰박막의 표면 거칠기 3차원 영상4. 결과 및 고찰B13P2와 MgO의 가시광선 투과도4. 결과 및 고찰박막의 XRD 결과스퍼터링 시간에 따른 원자의 농도5
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.11
  • 초전도체의 정의, 특성, 제조방법등
    .2 펠렛(pellet)3.3 선재3.4 코일3.5 고온 초전도 박막의 제조3.5.1 고유(in-situ) 성장법과 외부(ex-situ) 성장법3.5.2 열 증착(Thermal ... 하여 고운 분말로 만들어 잘 혼합한다. 이것이 원료분말 가공 단계로 이것에 열을 가해 화학반응을 유도하면 원하는 원소비를 갖는 화합물의 분말이 생성된다. 이 단계를 하소 공정(c ... alcination) 단계이다. 하소 공정후의 재료는 다소 거칠기 때문에 한번 더 소성하여 고운 분말로 가공 하여 작은 구상으로 형상을 만든다. 분말은 형상 제작이 쉽지 않으므로 압출
    리포트 | 8페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.04.17
  • Sputtering
    분야에 응용범위가 확대되고 있음 현재 산업체에서 가장 보편적으로 이용되고 있는 박막제조 장치 이고 비교적 경제적이며, 양질의 박막을 제조할 수 있는 공정 특히 전기도금 방식 등 ... 하는 plasma를 형성Micromachining ProcessSputtering 특징장점 비교적 넓은 면적을 균일하게 증착 금속 화합물 합금 절연체등 다양한 재료 증착 박막의 두께 ... 위에 전극,배선재료를 박막으로 부착하는 방법으로 사용 표면보호막 용도에 SiO2 절연막 형성을 위해 사용 ➁ 투명 전도막 투명 전도막의 적합한 재료인 ITO, ZnO등을 유리기판
    리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.05.03
  • 단결정 성장 공정
    1.단결정 성장 공정1) 반도체에 단결정을 사용하는 이유 2) 결정성장이란? 3) 결정 성장법의 종류 및 원리 4) 사용분야단결정단결정 정의: 원자가 규칙적으로 배열하여 하나 ... 결정과 결정 방향을 맞추어서 새로운 결정층(박막)을 형성하는 기술종류 : 1. 기상 에피택시(Vapor phase Epitaxy) 2. 액상 에피택시(Liquid phase
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.27
  • MOCVD의 구성 및 원리
    적 성분들이 기판 위에서 화학 반응에 의해 박막을 형성하는 공정CVD?MOCVD (Metal-Organic chemical vapor deposition)- 기본적으로 CVD공정 ... 으로써 CVD에 의한 박막 성장 시 precursor로써 MO-source를 중심으로 hydrides 나 reactant들을 사용하여 박막을 성장 하는 것MOCVD 장점반응압력을 약 ... gap engineering이 가능하다. MBE 및 기타의 다른성장 process에 비하여 박막의 성장속도가 매우 크다. * 이상과 같은 여러가지 장점으로 인하여 QW,, LD
    리포트 | 30페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.24
  • 폐기물에너지 발표
    ▶약품 정제법 ② 감압증류법 ③ 열분해 정제법 등의 공정으로 정제하여 생산된 재생유IV. 폐기물 신재생에너지의 종류① 약품 정제 시설전처리 여과장치저장 탱크반응 시설(분리)정제 ... 시설원심 분리기원심 분리기IV. 폐기물 신재생에너지의 종류전체 시설저장 시설농축 시설열교환기박막증발기(T.F.E)② 감압증류 정제 시설IV. 폐기물 신재생에너지의 종류공장 전경저장 ... 처리잔류물폐플라스틱의 열분해 유화 공정도IV. 폐기물 신재생에너지의 종류4) 폐기물 소각열 ▶ 가연성 폐기물 소각열 회수에 의한 스팀생산 및 발전 ▶ 로터리킬른로, 고정로, 유동
    리포트 | 29페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.08.19
  • 박막증착 장비의 종류 및 원리와 GaN LED의 이해
    하는 박막을 성장시키는 방법이다. MOCVD는 step coverage가 우수 하고, 기판이나 결정 표면에 손상이 없다는 장점을 가지고 있고 비교적 증착속도가 빨라서 공정시간 ... 다. 혼합 용액을 제조하므로, 여러 전구체를 혼합하여 다성분 박막의 증착이 가능하다는 장점도 가지고 있다. 다만, 공정에 적합한 용매의 선택이 중요시 되고 완전히 기화가 이루어지지 않 ... ◎리포트 내용 및 목표- 박막박막증착 장비의 종류, 원리에 대해 이한해다.- 반도체와 홀효과(Hall Effect)의 관계를 이해한다.- GaN LED가 무엇이며 용도가 어떠
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.30
  • cvd
    들이 증착되는 원자의 표면이동속도에 영향을 미침으로써 막의 구조나 성질에 영향을 미친다. 다른 많은 박막제조공정과 비교해 볼 때, CVD는 다양성, 적용성, 제품의 품질, 단순성, 재 ... -40 nm 크기의 grain은 후속열처리(900 ℃)공정에 의해 50-70 nm 정도까지 성장되어 저항이 낮아진다. 또한, W 박막의 저항은 가스조성비, 기판온도 등에 의해 조절 ... Ⅰ. CVD(Chamical Vapor Deposition) 의 정의와 원리1. CVD의 정의박막과학과 기술은 중요한 산업으로 성장해 왔으며, 많은 연구의 대상이 되어왔다. 이유
    리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16
  • Evaporation으로 제조된 Al박막의 두께 및 비저항 측정과 미세조직 관찰 실험
    을 형성하면 소자는 전도체가 되어 전류가 흐를 수 있다. 이번실험에서는 Evaporation 공정을 통하여 공정조건에 따른 Al박막 두께와 면저항을 측정하고, 측정한 데이터를 이용 ... 실험보고서제목 : Evaporation으로 제조된 Al박막의두께 및 비저항 측정과 미세조직 관찰 실험과 목 명 : 신소재실험Ⅱ담당교수 :학 과 : 신소재 공학과성 명 :제출일자 ... 이론적인 배경2. 실험방법 p4~p6- 실험에 사용된 재료- 실험에 사용된 재료와 공정 및 측정에 사용된 장비- 실험방법 및 공정 조건3. 결과 p7- 각 조의 sample
    리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.02.24
  • 박막 재료의 표면처리 및 PR 제거
    1. 실험제목 : 박막 재료의 표면처리 및 PR 제거2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정박막재료의 세 가지 공정으로 나눠지는데 첫째 ... 로 증착공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나눠진다.이러한 공정 가운데서 중요한 공정박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이 ... 다. 본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공 정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화 등에 대하여 고찰하고자 한다.3. 실험내용
    리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.05.27
  • 도후쿠 후쿠시마현 풍력발전
    으로써 실리콘의 양을 줄이고 저비용화를 실험하는 박막화(薄膜化)도 개발중이다. 공업기술원 전자기술종합연구소의 세키가와준코(關川俊弘) 디바이스구성 연구실장은 새로운 구조의 박막다결정 실리콘 ... 바라려, 두께 100미크론의 박막 리본형 단결정 태양전지의 양산기술을 개발했다. 뒤쪽에도 광선이 닿기 때문에 광전(光電)변환효율은 표면에서 종래품과 같은 약 15%, 뒤쪽에서 약 ... 13%로 예상되며 얇고 유연하므로 돔처럼 곡선으로 된 면에도 사용할 수 있다. 97년 여름에 미국의 연구시설에서 생산량 200㎾/년 정도의 양산공정을 확립하고 98년에는 새 공장
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.30
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2025년 08월 31일 일요일
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