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"박막공정" 검색결과 1,601-1,620 / 3,367건

  • MOS 소자 형성 및 전기적 성질 확인
    게 된다. 스위치가 꺼질 때는 전류가 흐르는 양이 매우 적고 스위치가 켜지면 많은 전류가 흐르게 된다. 현재 45나노 공정으로 만든 인텔 프로세서는 하프늄(Hafnium) 기반 ... PR을 제거한다.6) 분석(1) SEM : oixde 박막의 두께를 확인한다.(2) EDS : 박막 oxide의 조성을 확인한다. (물질 X의 확인)(3) SPA : 반도체의 특성
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.12
  • 태양광전지
    한 것이다. 값싼 공정으로 우수한 특성의 박막을 얻을 수 있지만 CdS의 단점은 우선 Cd물질 자체가 독성인 점과 또한 여타 단위 박막과는 달리 습식 화학공정을 이용하는 점이 ... 다. 그 대안으로 물리적 박막공정으로 제조 가능한 InxSey 을 사용하기도 한다.•광흡수층 : 초기에 사용한 삼원화합물인 CuInSe2는 에너지밴드갭이 1.04 eV로 단락전류는 높 ... 게 분류하면 무기물 태양광전지, 염료감흥 태양광전지, 유기물 태양광전지로 분류할 수 있으며 증착에 따라서 벌크형과 박막형으로 구분할 수 있다.1)무기물 태양광전지실리콘 계열 태양전지
    리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.21
  • 박막 재료의 표면처리 및 식각 실험 예비보고서
    공업화학실험1. 실험제목박막 재료의 표면처리 및 식각 실험2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정박막재료의 세가지 공정으로 나뉘어 지 ... 는데 첫째로 증착공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나뉘어 진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각 ... 하는 것이다. 본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화등에 대하여 고찰하고자 한다.3
    리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.03.20
  • 태양전지 기술이해와 국내외 부품별 업체현황
    성이 입증되면서 주요한 봉지재로서 자리매김하고 있으며 , 그 용도가 박막형으로까지 파급되고 있다 , 본 칼럼에서는 태양전지를 구성하는 주요 요소인 필름 부분에 해당하는 백시트와 가교 ... 형 EVA 시트에 대해 다루고자 하였으며 이를 위해 1 차 칼럼에서는 백시트와 가교형 EVA 시트의 구성과 요구사항 , 그리고 적용 공정 등에 걸쳐 개괄적인 내용을 살펴보고 , 2~3 ... )구되고 보유설비에 적합한 공정을 최적화하는 것이 중요하다 .마지막으로 태양전지용 필름으로 사용되는 가교형 EVA 시트의 사용상 주의사항에 대해 알아보려고 한다 . 가교형 EVA
    리포트 | 18페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14
  • 압전에너지 하베스팅기술
    다 . 단결정이 Czochralski 법과 박막은 액상 에피택시 기술 사용 납 지르코늄 티탄산화물 (PZT) : 가장 널리 사용되는 재료 . 전기 기계적 계 수가 높기 때문 ... 에 마이크로 액추에이터와 미아크로센서 응용에 매우 매력적인 재료 종류 : 석영 , 란탄갈륨규산 , 리튬 니오브 염 , 리튬 탈탄산염 등 압전 재료의 종류증착된 압전박막을 결정화하는 3 가지 ... F:HF 용액을 사용 ▪ 알루미늄질화물은 60~95 도 사이에서 뜨거운 인산 사용 건식 에칭 : 기체 플라즈마에 의한 반응을 이용한 식 각 공정을 의미 ▪ 압전체의 반응플라즈마
    리포트 | 14페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.12.08
  • CVD 공정
    기체 분해 및 박막 증착할 때 이용하는 방법 공정 압력 AP CVD Atmospheric Pressure CVD LP CVD Low Pressure CVD 원료 물질 MOCVD ... CVD 기초공정CVD 란 CVD 의 반응원리 CVD 의 분류 - APCVD - LPCVD - PECVD 목차C hemical V apor D eposition 원료를 Gas ... → CVD 공정 기본 형태CVD 의 반응 원리 반응 기체의 물질 이동 기판 표면으로 반응기체의 확산 표면 위에 반응물들의 흡착 반응물들의 표면 화학반응 . 부산물의 탈착 부산물
    리포트 | 12페이지 | 5,000원 | 등록일 2010.05.31 | 수정일 2018.09.28
  • 화학공학의 과거 현재 미래에 관하여..
    이, 반도체 소자의 박막을 갈 때는 화학 기계적 연마 공정이 활용된다.인간과 컴퓨터는 디스플레이를 통해 대화를 한다. 디스플레이는 가시광선 영역의 광자를 발생시켜 시신경이 이를 감지 ... 공정과 동일하다. 1m가 넘는 대형 기판에 각종 박막을 증착하고 식각하는 과정 중에 화학 공정이 역시 중요한 부분을 차지하고 있다. 회로의 선폭은 단결정 실리콘 집적회로보다 훨씬 ... 화학공학이란 원료에 물리적?화학적 변화를 가하여 제품을 만드는 일련의 개별공정을 탐구하는 학문이다. 제품 공정을 염두에 둔다는 점에서 다른 공학과 유사한데, 화학공학은 특히 제품
    리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.03.21
  • CVD 와 PVD 코팅
    의 소성변형 가능성 독성이 강한 공해물질 배출단 점[ 8 ]CVD Coating 공정 개략도[ 9 ]Carbon work traySettingNozzle박막두께 영향 = 노즐경 및 간격 ... 한 박막 획득 인체에 무해한 공정 상대적으로 빠른 증착N, Ar전극으로부터 Ti 등의 금속에 에너지 빔을 조사, 증발시키는 동시에 증발물질에도 조사하여 '이온화'시켜 코팅2. PVD ... 의 정의 및 장 단점정의 : Target을 이온화 시켜 모재에 증착시키는 기술 장점 1) 치밀한 박막을 얻을 수 있음 2) 고융점 물질의 피복이 가능 3) 저온 공정이므로 모재
    리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.05
  • 반도체 클림룸의 청정화 기술
    적으로배기라인 또는 Acid배기라인으로 배출된다.반도체 클린룸 배기가스의 오염제어 및 청정화 기술3. 클린룸 내에서의 제조 공정 오염물질의 생성4.박막(Layering)공정공정 설명 ... : 반도체 소자제작에 많이 사용되는 박막은 열적 성장이나 물리적 중착, 화학적 중착에 의해 금속, 반도체 또는 부도체의 얇은 층을 만드는 공정.오염물질 : SiH4,SiCl4,NH ... 반도체클린룸의 청정화기술1234선정 이유 반도체 제조 공정 오염물질의 생성 청정생산기술contents반도체 클린룸 배기가스의 오염제어 및 청정화 기술1. 선정이유반도체 클린룸
    리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.06.06
  • 로이유리의 제조공법 및 특징 분석
    들이 포함된 다층 막으로 구성 - 박막간의 간섭 관계에 의해 소비자가 선호하는 다양한 특성 , 색상의 제품 공급 가능 단점 다양한 재료의 선택이나 여러 가지 종류의 코팅 막의 구현 ... - 반드시 복층유리로서 가공 , 가공 공정에서 취급에 세심한 주의 필요 기후 한랭 지역 온난 , 열대 지역 구조Low-E 코팅 위치 외부와 직접 면하는 #1 에는 코팅하지 않는다 .
    리포트 | 22페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.01.08
  • 비휘발성 메모리
    에 전류가 잘 흐르게 된다.FRAM은 다시 말해 DRAM 각 셀의 커패시터 유전체를 강유전 박막으로 대체한 것이기 때문에 (i) DRAM 공정과 호환성이 높아 쉽게 고집적화가 가능 ... 다. 결과적으로 기술적으로 처음 시도되는 박막 공정에서 기존 박막 공정보다 더 정밀하고 안정된 수준이 요구되는 상황이다. 그래서 절연막의 얇아지면 전류가 커진다는 특성으로 인해 집적 ... )는 트랜지스터(T)/강유전 커패시터(C)로 구성된 소위 1T/1C형 FRAM 메모리 셀의 단면도인데, Si 기판상에 형성된 CMOS 트랜지스터 위에 강유전 박막 커패시터 층을 보여주고 있
    리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.10.25
  • 구리필름의 전기적 특성 분석 실험
    μΩ-㎝ 로 매우 낮으며 이러한 특성으로 인해 RC delay에 따른 신호지연 및 응답속도 차이를 극복하는데 이용할 수 있는 좋은 재료이다.본 실험에서는 이러한 Cu 박막의 전기 ... ? 에너지의 비효율성? 높은 working pressure ⇒ 박막의 순도2) RC delay- 소자의 집적도가 증가함에 따라 transistor의 gate length가 감소하게 되 ... 이 0.5㎛ 정도 이하에서 RCtime delay가급격한 증가를 보이게 되는데,0.18㎛ 및0.13㎛ 공정을 적용하고있는 현 상황에서의 RC delay의 개선은 중요한 의미를 갖
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.04
  • Polymer LED
    는 용액 공정이 가능한 sulphonium salt 타입의 전중합체를 거쳐 박막을 형성시킨 후, 열처리에 의한 최종 불용성의 공액 이중 결합의 고분자로 바꾸는 방법을 사용하였으나, 최근 ... 폴리(1,4-페닐렌비닐렌) (PPV)에 전기를 흘러주어 빛을 발광한다는 것을 보고한 이후 많은 발전을 이루어왔다. 이러한 고분자 전기 발광 소자는 경량, 박막, 자체발광, 저전압 ... 구동, 빠른 스위칭 속도 등의 장점을 가지고 있다. 특히 저분자 유기발광 소재를 이용하는 유기 전기 발광 소자에 비해서 간단한 스핀코팅과 같은 방법으로 박막을 형성할 수 있
    리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.09.11
  • 자기저항 , 스핀전달토크에 의한 자화반전 및 세차운동의 원리 및 소자응용 가능성, Runge-Kutta 방식, LLG식.
    기기 저항이고,는 인가자장을 가했을 때시편의 전기 저항이며, MR의 특성은 비자성 박막층의 두께와 관련이 아주 크다.자기저항은 절대 온도의 단위로 쓰이는 Kelvin 경(Baron ... 방향 법으로 제조된 Fe/CR 60층의 다층박막에서 자기 저항비가 46%정도 되는 아주 큰 자기저항 효과를 발견하였는데, 과거 NiCO합금에서 3~6% 이방성 자기저항 효과와 비교 ... . Jin에 의해박막에서 실험되었다. 이러한 물질계에서는 아주 큰(~100%)자기 저항 효과가 나타나는데, 이 같은 현상을 초거대 자기저항효과라고 한다. 원인은 charge
    리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.03.17
  • 솔라셀,태양전지,Solarcell,액정
    형은 공정 및 소재가 여전히 고비용이라는 단점이 있고, 박막형은 생산단가가 저렴한 반면에 내구성이나 효율이 다소 떨어지는 문제가 풀어야 할 숙제다. 전문가들은 차세대 저가형 태양 ... 발전 관련 기술은 우리 나라가 경쟁력을 갖추고 있는 PDP나 LCD 제조 공정과 유사한, 특화된 반도체 소자기술이다.?- 1세대 결정형 태양전지는?실리콘을 주 원료로 하며, 태양광 ... 박막 태양전지 시장 점유율은 실리콘(5.2%), CdTe(4.7%), CIGS(0.5%) 등이 전체 시장의 10%를 차지하나, 아직 미미하다. 지난해 이 분야 생산량은 미국
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.08.22
  • MOS소자
    실험 목적MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)소자를 직접 제작하고, 작동원리를 이해한다.이론(1) Cleaning 공정1) Piranha cleaning: Si ... = 1 : 10 용액에 wafer를 담궈 native oxide를 제거한다.(2) Oxidation반도체 공정에서 Si 기판 위에 산화제(H2O, O2)와 열에너지를 공급하여절연막 등 ... 다양한 용도로 사용되는 SiO2 막을 형성하는 공정1) 산화막의 용도① 확산 공정 mask layer② PN 접합 보호(Passivation)③ 유전체로서의 응용 - ILD
    리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.04 | 수정일 2016.04.25
  • 기계공학응용실험 MEMS 예비보고서
    etching을 구분해서 사용한다. 복잡한 다단 etching 등의 경우에는 etching simulation을 적용하는 것도 효과적이다④ 성막 공정Si Wafer 상에 다양한 박막 ... (예)2. 마이크로머시닝을 통한 미소기계소자의 제작방법에 관하여 기술하시오.① Clean Room1플로어 내에 1,500m2 클래스 100∼10,000의 클린룸이 있다. 포토 공정 ... ∼성막공정∼에칭∼가공(Dicing, Micro 가공, 초음파 가공)∼접합(가압, 땜납, 진공, 양극접합)∼조립배선(bonding, porting)∼시험(압력, 전기 특성)의 각 지역
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.01.10
  • 마그네틱 헤드(Magnetic Head)의 구조 및 원리와 응용 분야
    -Valve Sensor의 조합이며 AlTic으로 불리는 세라믹 기판 상에 박막공정으로 적층된다. 단면도에서 보듯 헤드는 복잡한 3차원적 구조물로 반도체 공정기술 및 MEMS 공정기술 ... 등과 같은 고난도의 박막공정기술이 요구된다. 헤드를 제조하기 위한 일련의 박막공정을 거친 후에 기판은 헤드를 포함하는 Bar형태로 절단 가공된다. 각 Bar는 기록 Pole과 스핀 ... . 또한 MR 헤드는 헤드와 기록매체 간의 상대속도의 감소에 덜 민감하고, 작은 속도에서도 큰 출력을 얻을 수 있기 때문에 각광을 받아왔다.1988년 유럽에서 다층박막구조의 재료
    리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.03.26
  • 태양전지제조공정
    공정이 중요 - 열처리 조건에 따라 태양전지의 특성이 결정 회전 후면전극 표면전극스크린 프린팅박막 ( 비정질 ) 태양전지 구조 박막 ( 비정질 ) 태양전지의 구조박막 ( 비정질 ... 태양전지 제조공정전계 (BSF) 및 전극 형성 모듈 (MODULE) 제조 공정 반사방지막 (ARC) 형성 TEXTURING Cell 제조 공정 태양전지 구분 OUTLINE화합물 ... 반응형 태양전지 종류 단결정 다결정 비 정질◎발전효율 우수 ◎제조공정 간단 ◎ 제조온도 낮음 ◎ 다양한 형상 가능 ◎저가 ◎발전효율 매우 우수 ◎ 제조공정 복잡 ◎ 제조온도 높
    리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.25
  • [전자종이]전자종이(e-paper)의 정의와 특징(장점, 우수성) 및 필요성, 전자종이 구성 기술 및 개발 동향과 시장 전망 분석
    을 위한 박막 공정기술, 표면 roughness 개선 기술, 보호막(passivation) 기술 개발 등이 요구됨모듈 기술? 각각의 전자종이 기술에 맞는 구동 방식 선정과 그에 따른 ... 되는 비정질 규소 박막 트랜지스터나 저온다결정 규소 박막트랜지스터에 비해 저가에 생산이 가능할 것으로 기대되는 기술이며, 향후 roll-to-toll 공정 적용이 가능한 차세대 기술이 ... 원가적인 측면에서 큰 장점을 띰? 능동 구동 방식(active matrix)인 경우 화소의 스위칭(switching)을 위한 소자 형성 기술인 비정질 실리콘 박막 트랜지스터
    리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.02.23
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2025년 09월 01일 월요일
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