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"하나마이크론반도체공정" 검색결과 141-160 / 218건

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    반도체 제작 공정
    제5장 반도체 공정기술5.1 반도체 공업5.1.1 반도체 공업의 특징반도체 공업은 현재의 전자 및 정보화 사회를 주도하고 있는 공업으로서 1960년대 집적회로(Integrated ... 의 구조재료 및 포토리지스트나 화학원료등의 공정재료가 그것이다. 그러나 본 장에서는 반도체 공업의 주축이 되는 기능재료와 공정재료에 대하여 선별적으로 소개하고 핵심적인 공정기술 ... 에 대해 살펴본다.반도체 공업은 반도체 재료를 원료로 하여 화학적이거나 혹은 물리적인 처리공정을 사용하여 회로를 구성함으로써 전자소자로서의 기능을 부여하는 공업으로 간단히 설명할 수 있
    리포트 | 41페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.26 | 수정일 2015.02.04
  • [기업분석]intel 기업 분석
    엄청난 발전이라 할 수 있다.이러한 기술적 발전은 인텔의 0.13 마이크론 공정과정에 기반해 가능하게 되었다. 이 기술의 접목으로 인텔은 프로세서 사이즈를 30%까지 줄이면서도, 칩 ... 의 보드장착 메모리(레벨2 캐시로 불림)를 늘릴 수 있었다. 인텔의 0.13마이크론 공정기술은 대량 생산에 이용되는 세계에서 가장 빠르고 가장 작은 트랜지스터(60 나노미터)가 특징 ... 의 주술 개발로 제조 공정 기술이 한 단계 발전할 때마다 이전 세대 프로세서보다 미세화, 고속화, 저전력소비 칩이 더 적은 비용으로 생산된다. 최초의 인텔 마이크로프로세서인 4004
    리포트 | 30페이지 | 5,000원 | 등록일 2006.06.28
  • WTO체제하에서의 기업들의 향후 대책
    공정한 경쟁을 불가능 하게함 - 상계관세 조치가 취해져서 인하된 DRAM가격을 향후 방지하고 시장내 공정경쟁이 이루어짐 ▪미국의 입장 - 보조금 혜택을 받은 하이닉스 반도체때문 ... WTO 체제하에서의 기업들의 향후 대책목차WTO 사례기업 1(진로소주) 사례기업 2(하이닉스 반도체) 향후대책WTO 개관○위치:스위스 제네바 ○설립:1995년 1월 1일 ○회원국 ... 기술적인 원조와 훈련 다른 국제기구들과의 협력WTO 출범배경①ITO설립 추진: 2차대전이 끝난 후 자유무역 확대를 위하여 ITO설립을 추진하나 미의회 반대로 무산 ②GATT체제
    리포트 | 35페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.01.11
  • 삼성 반도체사업의 미래
    에 대한 별다른 사항 없음[잠재적 진입자] SYSTEM LSI분야에 삼성전자, IBM, 인피니언 차터드, 반도체 4사 연합이 45나노공정 공동개발 하지만, 주력상품에 대한 영향 ... 를 하나의 칩으로 묶은 것으로, Processor능력뿐 아니라 기술적 통합능력을 보유했음을 보여준다. 또한 9월 19에 발표된 시스템 LSI 회로설계에서 45나노 미세회로공정을 공동 ... Strategic Management Case Study목 차1. 메모리 반도체 – 非 메모리 반도체의 차이점 2. 메모리 산업의 산업구조 분석 3. 非 메모리 산업의 산업구조
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.11.30
  • [디스플레이][FED][전계방출디스플레이]디스플레이 발전 고찰과 FED(전계방출디스플레이) 특징, FED(전계방출디스플레이) 동작원리, FED(전계방출디스플레이) 개발현황, FED(전계방출디스플레이) 제품화 분석
    하면서 고도로 발전된 반도체 제조 공정 기술을 이용하는 것이다. VFD나 FED는 공히 구조가간단하여 제조 경비가 저렴하며 LCD와는 달리 온도나 압력과 같은 주변 환경에 구애받지 않 ... 고 있다. 이 구조를 채택한 이유는 2가지이다. 하나는 형광체의 발광을 직접 볼 수 있어 휘도가 높다는 점이다. 종래의 FED는 발생된 빛을 형광체를 통해 볼 수 있었기 때문에 절반 ... 에도 일본업체로는 캐논이 3.1인치 풀 컬러패널로 FED패널을 발표했다. 또 외국업체 가운데서는 삼성전자가 4인치 컬러FED를 발표했으며 미국 마이크론 디스플레이 테크놀로지가 현재 14
    리포트 | 7페이지 | 5,000원 | 등록일 2009.07.23
  • [경영전략][전략경영][기업경영][삼성전자][삼성전자 경영전략 사례][삼성]경영전략의 개념, 경영전략의 발전과정, 경영전략의 요소, 경영전략의 기능, 경영전략의 분석방법(삼성전자의 경영전략 사례)(경영전략)
    게 하였다. 미국의 마이크론 테크놀로지의 칩 설계기술과 일본 샤프의 공정기술을 도입해서 개발된 64KD램은 미국과 일본에 대해 10년 이상 뒤떨어져 있던 한국의 반도체 기술개발 간격 ... 이 설정되어야 한다. 그와 동시에 경영전략은 기업 전체의 대해서 하나의 방향을 가리키는 지침이다.2) 대체수단의 선택(의사결정)경영전략은 그러한 목적에 도달하기 위한 대체적인 수단 ... . 첫출범시켰다. 처음에는 초보적인 집적회로를 생산하던 삼성반도체는 VLSI에 투자하기로 결정하였고, 불과 1년도 안되어서 1983년 12월 1일 64KD램을 개발하여 세계를 놀라
    리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2008.10.24
  • [반도체학]반도체 공정기술
    제5장 반도체 공정기술5.1 반도체 공업5.1.1 반도체 공업의 특징반도체 공업은 현재의 전자 및 정보화 사회를 주도하고 있는 공업으로서 1960년대 집적회로(Integrated ... 의 구조재료 및 포토리지스트나 화학원료등의 공정재료가 그것이다. 그러나 본 장에서는 반도체 공업의 주축이 되는 기능재료와 공정재료에 대하여 선별적으로 소개하고 핵심적인 공정기술 ... 에 대해 살펴본다.반도체 공업은 반도체 재료를 원료로 하여 화학적이거나 혹은 물리적인 처리공정을 사용하여 회로를 구성함으로써 전자소자로서의 기능을 부여하는 공업으로 간단히 설명할 수 있
    리포트 | 41페이지 | 3,000원 | 등록일 2006.05.19
  • [무기재료]Tape Casting(테이프캐스팅)
    Tape casting담당교수 : 교수님학 번 : .성 명 : .세라믹스 제품에는 아주 얇은 판상 제품이 많다. 특히 전자 세라믹스 제품에 많은데, 반도체 소자를 올려놓는 기판 ... , MLCC, 다층 인덕터, 터미스터, 연료전지 등이 좋은 예이다. 이와같은 판상 세라믹스의 성형법으로 가장 널리 쓰이는 방법이 테이프캐스팅이다. 테이프캐스팅 세라믹스 성형공정 ... 으며, 여러 가지 전자 세라믹스 제조분야에 널리 응용되어지고 있는 중요한 세라믹스 성형방법 중 하나이다.{{세라믹스의 사용원료는 주로 분말이므로 일정한 형태를 갖도록 성형하기 위해서
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.01.30
  • [기업분석, 경영] 하이닉스 분석(재무비율분석을 토대로)
    에 새로운 악재로작용하였다.다우존스의 보도에 따르면 유럽반도체협회 관계자는 채무조정 등 구제 안은 세계 반도체시장에서하이닉스가 불공정한 재정혜택의 수혜자라는 데 광범위한 의견일치를 보 ... 에서 언급한 하이닉스 반도체에 대한 지원정책에 대해서 마이크론과 인피니온 등에서문제시 삼았던 보조금에 대해서 알아보도록 하자. 마이크론과 인피니온도 다른 D램 업체들과마찬가지로 심각 ... 논의가 이루어지는 동안 세계 반도체 업계에서 미국의 마이크론사(세계2위)는일본의 도시바 D램 라인을 인수하면서 하이닉스 반도체의 협상 시도했으나 2001년 12월 18일 협상
    리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.10.27
  • [R&D관리]삼성반도체 감평
    반도체 회사로 성장했다. 전자산업의 발달이라는 행운도 있었지만 그 행운마저도 예측하는, 전략이 돋보이는 ‘전략적 승리’라고 할 수 있다. 설립초기 오로지 반도체 하나만을 생각 ... 하며 마이크론사에 기술력을 조금이라도 체득하기 위해 2명의 연구진을 보냈지만 철저히 무시당하며 쫓겨나기까지 기술 리더십이 없었던 그 때의 서러움이 삼성 반도체 도약의 밑거름이 되 ... 신화창조의 비밀[삼성 반도체]삼성전자가 세계 반도체 시장에서 1위로 올라선지 10여년이 흘렀지만 어떻게 1위 자리를 차지했고, 유지 강화해 왔는지에 대하여 유심히 살펴본 적이 없
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.08
  • [A+레포트][화학공학기초실험]양이온 교환_결과레포트
    으로 빠져 나왔기 때문이다.1.정화방식 : 하나의 카트리지에 세가지 기능으로 정화1)방식 : Structure Matrix2)원리 : 원자폭탄 폭발시 발생되는 서브마이크론분자와 방사 ... 들로 이루어져 있다.바닷물중의 소금을 제거하여 해수담수화나 반도체 세척용이나 화학약품제조공정등에 사용하는 초순수제조용으로 많이 사용되며 요즘에는 정수기의 필터로도 사용된다.(2 ... 방식의 원리는 원자폭탄 폭발 시 발생되는 서브마이크론 분자와 방사선 분자의 포획 기술로, 물이 유입되면 마이크로필터레이션과 분자분리흡착, 이온흡착기능 등이 동시에 이뤄지며 물을 정화
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.12.16
  • [미시경제]삼성 반도체를 중심으로 알아본 반도체 시장
    Ⅰ. 서 론한국의 반도체 산업은 1970년대 초에 외국 반도체 업계들의 조립사업을 통한 국내투자로 시작되었으며 싼 인건비를 바탕으로 한 본격적인 조립생산 체계를 이루게 되 ... 었다. 그리하여 Motorola, Fairchild, COMMY, KMI, Philips 등 주로 미국 반도체 기업들이 한국에 직접 투자하여 그들의 반제품을 조립하여 전략 수출하는 형태 ... 들인 아남산업(현 아남반도체)과 LG, 현대 등이 독자적인 방식 또는 미국과의 기술제휴를 통한 반도체 조립생산에 참여하여 전량을 수출하는 조립생산체제를 구축하였으며 이러한 흐름
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.07.27
  • [반도체] 반도체와 휴대전화 시장 전망
    것으로 보인다. 1강으로써의 진정한 면모는 수익률에서 볼수 있다. 주력공정인 0.1마이크론, 12인치, 300mm웨이퍼의 생산수익율은 타 업체에 비해 월등히 높다. 특히 주력공정 ... 양산에 돌입하여 시장에서의 재기를 노리고 있다. 특히 0.1마이크론공정과 300mm웨이퍼를 중점적으로 확대할것으로 보인다. 채권단의 추가지원여부에 대한 판단은 내년초에 결정 ... 조중국과의 생산공조 논의는 협의가 정체상태이며 특히 중국에 0.11마이크론 공정기술이전에 세계적 업체들이 모두 부정적 의견을 낸 상태로 크게 가능성이 없을 것이다.마이크론은 미국
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.12
  • [무역]탄력관세제도-상계관세에 대해
    는 "세계 3대 컴퓨터 메모리 칩 생산회사인 하이닉스반도체의 DRAM부분에 대해 한국정부의 불공정 보조금을 받고 있는 사실을 인지"한 후하이닉스에 대해 형평관세 57.37%를 부가 ... 의 공정한 경쟁을 저해하게 되고 보조금 등을 받은 물품이 수입되면 수입국내의 산업이 저해될 수도 있으므로 보조금 등의 교부를 방지하고 수입국 내의 산업에 미치는 보조금 등의 효과 ... 하고도 직접적인 방법의 하나라 할 수 있다. 수출장려금은 17,18세기에 걸쳐 중상주의 무역정책의 가장 주요한 수단의 하나였으나 서구의 무역정책이 비교적 자유로웠던 19세기 후반 및
    리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.06.07 | 수정일 2019.12.08
  • [기계공학]미세 체적성형이란?
    어야 한다.현재 국내외적으로 기계적 방법에 의한 초정밀, 초소형 가공기술과 반도체 제조 공정을 이용한 Micro-Machining에 관한 연구가 활발히 진행되고 있으나 산업체 응용 측면 ... 다. 실제로 최근 산업 현장에서는 직경 100내외 혹은 그 이상의 미세 홀이 펀칭 공정에 의해서 양산되고 있고 직격 수십 마이크론의 미세 홀 펀칭 기술 또한 활발히 연구되고 있 ... * 이번 조사에서 미세성형에 대해 알아보려고 하였습니다. MEMS를 찾는 도중 MEMS를 포함한 공정인 Milli-Structure라는 공정을 알게 되었고 이것에 대해 조사를 하
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.04.18
  • ITO glass cutting, glass 세정 및 건조공정
    LCD 표준 셀 제조실험1 :ITO glass cutting, glass 세정 및 건조공정PR 코팅 및 mask 공정1. 실험목적LCD cell의 기판이 되는 ITO glass ... 를 cutting하고 세정, 건조하여 cell 제작공정에 대해 알아본다, ITO glass 위에 MASK 상의 패턴을 전송할 수 있다.2. 이론1)ITOITO란 Indium Tin ... 되고 또한 필수적인 것이 투명전극으로 불리는 ITO Glass이다. 이들의 조성은 90In2O3-10SnO2 부근으로 보다 높은 투명도와 전도도, 그리고 평탄도를 갖도록 공정제어가 행해
    리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.11.01
  • 한,중,일 젓가락 문화의 비교
    등으로 불리 우는 것으로 반도체 공정기술을 기반으로 성립되는 마이크론 ㎛ 이나 ㎜크기다.초소형 정밀기계 제작기술을 말한다. 실리콘이나 수정 유리 등 을 가공해 초고밀도 집적회로 ... ···· 젓가락 문화의 예절 비교5 ···· 젓가락 문화의 현대적 의의6 ···· 요약 및 정리1 . 이 주제를 선택하게 된 이유우리 나라의 반도체 생산량이나 질은 세계 수준급 ... 이라 한다. 반도체 업계에서 사용하는 언어 중에서 수율 (YIELD) 이라는 말이 있는데 [불량률의 반대]라는 뜻으로 수치가 높을수록 우수한 품질을 의미 한다고 한다. 수율에 있
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.24
  • [기계재료]미세제조기술에서의 재료
    (sensing element)인 센서 및 신호처리 회로 그리고 엑튜에이터(actuator) 등을 일체화하는 기술을 MEMS라 한다. MEMS를 이용해 반도체 직접회로 제조 공정 ... 과 전기적 영역의 에너지 사이에서 가장 효율적인 에너지변환경로를 거치는 에너지 변환기라 할 수 있다.MEMS를 제작하기 위해서는 2차원의 반도체 집적회로 제조공정과 3차원의 미세가공 ... 어 질 수 있다. MEMS를 통해 여러 부품들을 수㎛의 크기로 줄일 수 있다. 이는 여러 센서들을 눈에 보이지 않는 칩하나에 모음으로써 전력의 소모를 줄이고 처리속도를 대폭 증가
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.02
  • [컴퓨터 공학] 인텔 프로세스 조사
    과 핀 방식의 소켓 프로세서이다. 이 제품은 0.50마이크론 공정이나 0.35마이크론 공정으로 생산되었으며 프로세서의 클럭은 75-200MHz로 작동되었으며 버스 클럭은 50-66 ... (Tonga) : 이 제품은 매우 흥미로운 제품으로 아직까지 흔히 알려지지는 않은 제품으로 이 제품은 0.25마이크론 공정으로 생산된 모빌용 펜티엄II를 통가(Tonga)라고 부르 ... SSE명령어는 기존의 MMX명령어보다 비약적으로 성능이 향상되었으며 향상된 메모리 스트리밍 기술을 탑재하고 있다. 이 제품은 0.25마이크론 공정으로 생산되었으며 450-600MHz
    리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.19
  • 나노
    것도 있는데 그것은 1조분의 1미터밖에 안 된다. 또한 나노미터는 현재의 반도체를 만드는 데 쓰는 마이크론기술에서 사용되는 마이크로미터의 1000분의 1에 지나지 않는다. 이 정도 ... 공정)작은 것들을 점점 크게 만드는 방식이며 현재 나노분야에 활동하는 분들이 활발하게연구를 진행하는 분야로서 바이오틱한 기술, 생명공학의 연장선상에 있다.생명공학자가 나노를 이용 ... 조차도 모른다.바텀 업 기술은 원자 단위에서 하나씩 쌓아 올려 원하는 성질과 형태와 기능을 갖춘물질이나 시스템을 만들고자하는 것이다. 하지만 극미세한 원자를 다뤄 코딱지 만한물건이
    리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.05.06
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2025년 08월 30일 토요일
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