"박막공정"의 검색결과 입니다.

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"박막공정" 검색결과 1,561-1,580 / 3,367건

[반도체공학] 반도체 공정 및 스퍼터링

반도체공정 Sputtering 결과반도체 제조 과정 11. 단결정성장 고순도로 정제된 실리콘 용융액에 시드(Seed) 결정을 접촉, 회전시키면서 단결정규소봉(Ingot)을 성장 ... 게 됨. 4. 회로설계 CAD(Computer Aided Design) 시스템을 사용해 전자회로의 패턴을 설계함.반도체 제조 공정 45. 마스크(Mask)제작 설계된 회로패턴을 E ... 다. (사진 현상과정과 유사)반도체 제조 공정 56. 산화(Oxidation)공정 산소 또는 수증기가 포함된 환경에서 온도(T=800~1200℃)를 높이면 Si 표면 위에 산화막

리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.05

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solid print ppt Korean

적이고 고급스럽게 표현하기 위해 공정 과정을 기존 일반 증착에서 멀티 증착으로 바꿨다 . 증착은 박막을 기판 표면에 부착시키는 공정을 말한다 . 멀티증착은 여러 층을 표면에 겹겹이 ... 로 60 만대 가량의 초도 물량이 폐기됐을 뿐 아니라 갤럭시 S3 뒤에 들어가는 배터리 커버 제조 과정에 아예 새로운 공정이 도입 됐다 . 처음 도입된 색상인 페블 블루를 더 입체 ... 부착해 다양하고 풍부한 표현이 가능하다 . 공정이 바뀌자 생산 수율 역시 급격하게 떨어졌다 . 한 부품사 관계자는 애초 불량 때문이 아니라 아예 사양이 바뀐 것 이라면서 그런 탓

리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.11.26

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태양전지

하기 위한 방안으로 기판의 두께를 혁신적으로 줄이는 기술, 또는 유리와 같이 값싼 기판위에 박막형태의 태양전지를 증착시키는 기술이 주목을 받고 있다. 기존의 박막 제조공정을 이용 ... 고, 또한 박막 태양전지 제조공정을 이용하여 대량생산을 통해 가격을 획기적으로 절감할 수 있다는 장점을 지니고 있다. 최근 일본의 Kaneka에서 제품을 생산하고 있지만, 아직 가격 ... 으로 보다 저급의 실리콘을 이용하는 방법, 대량생산 및 공정 개선에 의한 방법 등이 시도 또는 계획되고 있다. 단결정 실리콘을 사용한 전지는 집광장치 를 사용하지 않은 경우의 기록

리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.12.18

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SK이노베이션 경영전략분석과 기업분석및 SK이노베이션 지속성장전략분석과 SK이노베이션 SWOT,STP분석및 나의의견 정리보고서

위해 자체 기후변화 대응전략을 수립하고, 온실가스 감축 실적 등록을 통한 탄소배출권 확보, 공정 개선, 시범사업 참여 등 자발적인 감축활동을 꾸준히 전개하고 있다.SK이노베이션 ... 함으로써 저탄소 경영체계를 더욱 강화했다.그 외에도 2차 전지 사업으로 SK이노베이션은 기존 태양전지 보다 가격 경쟁력이 있고 활용도가 높은 CIGS 박막 태양전지를 개발 중이다. 특히 ... , SK이노베이션은 중소기업과의 상거래에 있어, 기회균등과 공정거래를 실천한다. 둘째, SK이노베이션은 산업 차원의 발전을 이룰 수 있는 중소기업의 경쟁력 강화를 위해 자금지원, R&D

리포트 | 21페이지 | 5,500원 | 등록일 2014.12.29

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[화공실습] 박막크로마토그래피의 특징, 성질 등등 분석 실험 보고서

박막크로마토그래피(TLC)Contents실험 목적 및 이론1실험 기구 및 방법2실험 결과3참고 문헌5고 찰41. 실험 목적 및 이론실험 목적박막크로마토그래피의 특성에 대해 알아보 ... 을 이용종이 크로마토그래피 관 크로마토그래피 박막 크로마토그래피 (TLC : Thin Layer Chromatography) 겔 침투 크로마토그래피 (GPC : gel permeation ... 등 전개 시간이 짧다 분리 능률이 양호 강한 산, 염기 등을 발색시약으로 사용가능 응용범위가 넓다 ex) 유기화합물의 분리,정제 등1. 실험 목적 및 이론박막크로마토그래피(TLC

리포트 | 25페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.09.20

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2017.09.ASML 경력직 채용/ 영어면접 노하우 질문 예시/ 실전면접 노하우 질문 예시/ 기업정보/ 상세기술자료/ CS엔지니어?/ 반도체공정/ 신기술EUV/ ASML 매출/ 장비/ 기술/ LITHOGRAPHY/ 리쏘그래피

ultu약 2배의 가격이다.진공상태에서 작업(공기중의 산소와 이산화탄소에 흡수되는 특질)반사형 박막거울활용/최대반사효율 70%250와트 이상의 출력이 나오는 광의 휘도를 높여야 하 ... 시스템 (2004)- 시장점유율 : 리쏘그래피 공정 장비 GLOBAL 78%- 1985년부터 EUV개발을 준비, 2006년 Alpha Demo Tool개발, 2017 NXE3400B경?

자기소개서 | 20페이지 | 4,000원 | 등록일 2017.09.04

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mos (Metal-Oxide-Semiconductor)작동원리 이해

은 여러 반도체 분야에서 사용 된다. 반도체 IC의 제조에 있어 기판 위에 형성되어 있는 층(산화 공정이나 박막증착 공정의 결과로)을 선택적으로 제거하는 공정을 사진식각(photol한다. ... 1.실험목적MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)소자를 직접 제작하고, 작동원리를 이해한다.2.이론① Oxidation반도체 공정에서 Si 기판 위에 산화제(H2 ... O, O2)와 열에너지를 공급하여절연막 등 다양한 용도로 사용되는 SiO2 막을 형성하는 공정* 산화막의 용도- 확산 공정 mask layer- PN 접합 보호

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.07.07

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이온주입공정

를 만들기 위함이다. 반도체 소자의 전기적 특성은 이온주입의 종류 즉 불순물의 종류, 불순물의 량에 따라 결정된다.용어1) 원하는 불순물( DOPANT ) : 이온주입 공정에 사용 ... 빔(BEAM)이 갖는 ENERGY에 따라 좌우된다. 이온주입 공정에서 사용되는 일반적 에너지는 30Kev~800Kev이다.3)원하는 량( DOSE ) : 1㎠ 면적의 크기에 넣어주 ... 는 일그러짐을 없애 전기적 또는 기계적 특성을 개선하는 것을 말한다. 반도체 소자 제조 프로세스에서는 반도체 중의 결정 결함의 회복, 박막의 내부 일그러짐의 회복 등을 위하여 사용

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.21

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산화물 반도체 나노구조의 성장 및 광전소자 응용

이 Si 등의 바닥 결정과 공정을 만들고 합금액적이 된다. 여기에 성장원자를 기상으로부터 공급하면 원자가 액적에 침투하고, 액상 중에서의 평형 농도를 넘으면 액적 바닥에 결정이 석출 ... 촉매를 제거해야 하는 추가공정이 요구된다. 이때 고온의 성장온도가 필요하다는 점에서 에너지 다소비형이며, 동시에 공정 변수 제어에 상당한 신경을 써야 한다는 점에서 액상 성장법 ... 으로의 전환이 시도되는 중이다. 액상 성장법은 100도씨 이하에서 진행되기에 폴리머 기판을 사용할 수 있으며 에너지 절약형인 동시에 조절이 쉽고 촉매 제거 후처리 공정이 생략된다는 장점

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.10.12

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고분자유기태양전지

을 통해 필름과 같은 플렉서블 기판에도 박막 형성이 가능해 여타 박막 태양전지 기술에 비해 공정비용을 절감할 수 있다.이번 실험에서는 고분자 유기 태양전지 소자를 제작한다. 먼저 ... Active층 용액을 stirring과 heating 공정을 거쳐 제조하고, ITO glass 기판을 에칭 및 세척과정을 통해 준비한다. 준비된 기판에 활성층 박막을 스핀코팅 ... 분자를 사용한다. 유기 분자들은 합성이 간단하고 광 흡수 용량이 매우 커서 수백 나노미터 정도의 두께만으로도 태양전지에 충분히 사용할 수 있을 뿐만 아니라 플라스틱이나 용액 인쇄공정

리포트 | 23페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.10.02

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cvd pvd

의 표면이동속도에 영향을 미침으로써 막의 구조나 성질에 영향을 미친다. 다른 많은 박막제조공정과 비교해 볼 때, CVD는 다양성, 적용성, 제품의 품질, 단순성, 재활용성, 생산 ... deposition)▷ PVD의 정의- PVD(물리 기상 증착) 공정의 정의는 생성하고자 하는 박막과 동일한 재료(Al, Ti, TiW, W, TiN, Pt 등)의 입자를 진공 중 ... ▶ CVD(chemical vapor deposition)▷ CVD의 정의박막과학과 기술은 중요한 산업으로 성장해 왔으며, 많은 연구의 대상이 되어왔다. 이유는 박막이 반도체

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.17 | 수정일 2015.11.03

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PLD 타겟 제조방법에 관한 레포트

다. 물론 RF Sputter방법을 사용하여 산화물 형태를 증착시키기도 하지만 PLD를 사용하여 증착하면 보다 쉽게 박막을 얻을 수 있따.PLD는 Laser를 직접 target ... 이나 공정 중 휘발되는 Bi양을 보충하기 위해서 Bi2O3 : Al2O3를 1.2:1의 비율로 혼합하여 합성한다.비 화학양론적으로 계산된 Bi2O3와 Al2O3로 구성된 BiAlO ... 은 15.424g이다. 이렇게 평량한 Bi2O3와 Al2O3를 메탄올과 Ball을 넣고 다음 공정인 Ball Mill 과정으로 넘어간다.Ball Mill위에서 기술한대로 비화학양론

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.27

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미소질량_및_미소이온전류_측정

와 Diffusion 펌프를 이용하여 수분도 없이 진공증착으로 얻어진 박막의 두께를 이용해 미소질량을 측정해본다. 또한 ion gauge를 이용하여 미소이온전류를 측정해본다.2. 측정① 수정 진동자 ... (Quartz crystal microbalance)의 진동수변화를 관찰하여 구리 박막의 미소 질량을 측정하고, 박막의 넓이를 계산하여 최종적으로 구리 박막의 두께를 계산 ... 확산펌프와 연결되어 고진공이 요구되는 공정에도 다양하게 쓰이고 있으므로, 오늘날 산업 전반에 걸쳐 가장 널리 쓰이고 있고 기종이라 할 수 있다.※ 주의사항 : 펌프는 4개의 지지

리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.01.11

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태양전지의 연구 동향

및 원리 ………………………………………………………22-1. 결정질 실리콘 및 박막형 태양전지………………………………………32-2. 유기 분자형 태양전지 ... ……………………………………………………53-2. 박막형 태양전지 ……………………………………………………………73-3. 유기 분자형 태양전지………………………………………………………83-4. 염료 ... (Thermophotovoltaic) 조절을 이용한 태양전지 등이 있음그림 2. 다양한 태양전지의 구조2-1. 결정질 실리콘 및 박막형 태양전지Si 계열 및 CdTe, CIGS, GaAs와 같은 반도체 태양

리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.12

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OLED 기술계발 동향 및 발전 (정보디스플레이공학)

가 적은 장점이 있어 평판 디스플레이로서 현재 가장 많이 사용되고 있다. 그러나 LCD는 자체 발광 소자가 아니며 공정의 복잡성, 응답속도, 밝기, 대조비, 시야각 그리고 대면적화 등 ... 한다. AMOLED는 순차 발광의 단점을 없애기 위해 가로선과 세로선의 교차점에 박막 트랜지스터를 각각 형성하여 Dot 전부가 동시에 발광할 수 있도록 한 방식이다.?주로 핸드폰의 s ... 복잡한 공정으로 인하여 장비 및 재료비용이 고가이나 이러한 AMOLED의 단점에도 불구하고, 낮은 소비전력, 고화질, 빠른 응답속도, 광시야각, 박형구현이 가능하다.

리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.04.03

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나노 구조 제작 방법

PVD 향후전망 참고자료LithographyPhoto Lithography 사진 식각 공정 (Photo Lithography) 감광막 프로세스 Photoresist process ... 식각 프로세스 Etching process  습식식각 화학용액 ( 산 ) 으로 인한 환경오염 문제 →폐용액을 처리하는데 많은 비용 공정시간이 오래 걸림 . 정확도 떨어짐 건식식각 ... 을 증착시키는 방법 고순도 flim 형성 가능 , control 하기 쉬움 재료의 선택에 따라 각종 박막형성 가능 , 대량처리 가능 Chemical Vapor Deposition

리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.03

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Thin –Film Evaporation Processes

이 단순, 증착률이 높으며 속도가 빠름장치 구성이 간단 (가격 저렴)다양한 물질에 대해 쉽고 빠르게 성장가능고융점 재료 증착가능 단점 : 장비 크기가 제한됨공정 중 불순물 혼입가능, 기판 클리닝 불가능film quality가 나쁨(표면굴곡 발생)박막과 기판사이 밀착강도 약함 ... : 10~100cm 이내• 증기용기 내 압력 : 10-5 Torr 이하로 유지 종류 : Thermal evaporation, e-beam evaporation 등 장점 : 공정

리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.05.11

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화학적 기상 증착법 (Chemical Vapor Deposition,CVD) (친절한 설명과 핵심적인 내용을 논문 형식으로 작성)

이나 등의 증착조건에 의하여 결정된다. 일반적으로 이러한 변수들이 증착되는 원자의 표면 이동속도에 영향을 미침으로써 막의 구조나 성질에 영향을 미친다. 다른 많은 박막 제조공정 ... 되는 박막 제조기술로 가장 많이 활용되고 있으며 특히 IC등의 생산 공정에서는 매우 중요한 단위공정이다. 그 이유는 화학적 증착법이 높은 반응온도와 복잡한 반응경로 그리고 대부분의 사용 ... 재료를 융점보다 낮은 온도에서 용이하게 제조할 수 있다.2) evaporation과 sputtering과 같은 다른 박막 증착 공정보다 순도가 높다.3) 대량생산이 가능하며 비용

리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.11.17

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크로마토그래피(예비)

시킨다. 따라서 이러한 이차공정들에 관한 최적화 과정이 필요하다.1-2. 얇은 막 크로마토그래프 (TLC) :고정상의 얇은 박막을 적절한 평평한 표면에 형성시킨다. 형성된 박막은 극히 얇 ... 과정과 실험 매개 변수 계산 등에 대해 이해하고 있어야 한다.크로마토그래피에 의한 분리 공정은 두 종류의 현상이 동시에 발생하여 각각의 분석 시료의 작용에 영향을 미치고, 결과 ... 적으로 성공적인 분리 공정에 상당한 영향을 미친다.첫 번째 현상은 흡착, partition, 이온 교환, 이온 짝짓기, 그리고 분자 배제 등과 같은 것들이 크로마토그래피 공정에 있

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.11

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화합물 반도체(Compound Semiconductor)

확산(diffusion) 공정, 산화(oxidation) 공정, 박막증착(thin film deposition) 공정, 사진식각(photolithography) 공정, 세정(c ... 되는 박막제조 기술 중 가장 많이 활용되고 있는 기술이며, 특히 IC의 생산공정에 있어서는 매우 중요한 단위공정이다. 그 이유는 화학기상증착이 높은 반응온도와 복잡한 반응경로 ... 화합물의 증착이 가능하며, 공정 조건의 제어 범위가 매우 넓어 다양한 특성의 박막을 쉽게 얻을 수 있을 뿐만 아니라, PVD법에 비해 훨씬 좋은 step coverage를 제공

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29

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