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"박막공정" 검색결과 1,501-1,520 / 3,367건

  • 빅막의 식각 및 PR제거 예비보고서
    1. 실험제목SiO2 박막의 식각 및 PR 제거2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정박막재료의 세가지 공정으로 나뉘어 지는데 첫째로 증착 ... 공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나뉘어 진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이 ... 다. 본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른박막의 표면과 두께의 변화등에 대하여 고찰하고자 한다.3. 실험내용가장
    리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.11.26
  • TiN-TiC코팅에 따른 절삭 성능향상
    의 에너지를 가하여 가스분자의 여기나 분해를 하고, 분해·반응·중간 생성물을 형성하여 기판 표면에서의 반응을 거쳐 박막을 퇴적Ti-N, Ti-C의 제조공정-6-※초경합금 제조공정※ 피 ... 2007031110NIUNX-1-한국야금 CVD제조공정목 차개 요 초경 합금이란? 하드코팅 CVD Ti-N, Ti-C의 제조공정 Ti-N, Ti-C의 가공성 결 론-2-개 요-3 ... .(분말, Mixing)-7-Base Powder와 합금요소, 윤활제 를 혼합하는 공정 제품의 특성 및 성형성, 가공성, 소 결성을 감안하여 적절히 배합Base Powdr와 합금
    리포트 | 18페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.12.08
  • 나노센서
    목차나노센서 나노 자기저항 센서및 응용기술 TMR박막 바이오센서 전도성 고분자 나노재료 센서 적용사례 나노구조체를 이용한 나노센서 제작 산화아연 반도체 물질을 이용한 나노와이어 ... 은 단점이있다. 하지만 전도성고분자 나노와이어센서는 이러한 단점을 극복. 즉. Top-down과bot-tom-up 상호보완의 제작 공정으로 원하는 곳에 쉽게 전도성고분자 나노구조물 ... 을 제작할수 있으며 앞에 말한거와 같이 기능기를 가지는 고분자 구조를 사용하면 추가 공정없이 분석하고자 하는 물질과 직접적으로 반응이 가능나노 자기저항 센서및 응용기술기술의 개요
    리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.08
  • ETCHING
    사용되는 공정 PR pattern 을 마스크로 하고 마스크 아래 부분과 외부에 노출된 부분의 화학 반응을 다르게 하여 wafer 표면의 박막에 가스나 산과 알칼리 같은 화학 물질 ... 을 통해 필요 없는 부분을 제거하고 미세한 회로 패턴을 형성 시켜 주기 위해 가공하는 단계의 공정 Substrate Deposition PR 4 Dry Etching By Plasma ... 공정에 있어서도 많이 이용되고 있다 . 최근에는 반도체 공정을 이용하여 아주 작은 소형 기계부품 혹은 장치를 만드는 공정인 MEMS 공정에도 이와 같은 플라즈마 식각이 이용
    리포트 | 56페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17
  • DSSC
    의 DSSC는 그냥 박막수준, 2차원적 구조를 가지고 있어 전자의 주요 소스인 염료분자의 흡착이 적었다. 그래서 이렇게 구멍이 많게 비표면적이 넓어진 구조를 만듦으로서 염료분자가 부착 ... 될 공간이 많이 확보된 것이다. 이런 구조면 TiO2 박막 안쪽에도 염료분자가 부착이 된다. 그래서 그 결과 DSSC는 획기적으로 효율을 올릴 수 있었다. 그리고 그 이후에 나노 ... 와이어나, 나노 튜브, 템플릿을 이용한 박막제작 등 많은 방법으로 TiO2 박막을 제작하고 있다.현재 TiO2 박막을 만들 때는 P25라는 Degussa제품을 많이 이용을 한다
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.25
  • 유기디스플레이 투명전극용 전도성 고분자
    투과도가 급격히 나빠지는 단점이 있다. 또한 대부분의 전도성 폴리머는 용해도가 매우 낮기 때문에 박막공정이 까다롭고, 적용 가능한 공정온도가 낮은 단점이 있다. ... ~ 780nm의 가시광선 영역에서의 투과율이 80% 이상이라는 두가지 성질을 만족시키는 박막을 의미한다. 투명 전도막 재료는 전하를 운반할 수 있는 캐리어가 충분하고 이들 캐리어가 쉽 ... 에 응용되고 있다.투명전극에 사용될 수 있는 도전성 재료로 금속, 금속산화물, 전도성고분자, 탄소재료 등을 들 수 있다. 은, 구리 등의 금속재료는 전도도는 우수하지만 박막으로 제조
    리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.18
  • 판매자 표지 자료 표지
    재료학-세라믹(레포트)
    성질, 가공성이 나쁨 , 공정 제어가 어려움 ( 최근의 기술의 발달로 단점들을 극복함 )*3. 세라믹의 특성파인 세라믹의 특성기계적 성질 - 경도, 내마모성 큼 인장강도,굽힘강도 ... 영상압전세라믹힘을 가하면 전기로 바뀌거나 전기를 힘으로 바꿔주는 박막제조용 세라믹으로 이용*4. 세라믹의 종류(용도별 분류)반도성세라믹분 류용도 및 특성동영상반도성세라믹전기가 통하 ... 제조 과정혼 합성형∙소성가공∙접합미세구조 결정체과학 기술 산업을 지탱해주는 근간이 되어줌*6. 세라믹의 성형파인 세라믹의 원료 재조공정*6. 세라믹의 성형파인 세라믹의 원료 재조
    리포트 | 60페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.14
  • 태양전지의 모듈과 어레이
    ~180W 효과를 냄)이 생산되어 판매되고 있다.박막형 모듈은 직접 본체에 박막이 형성되어지고 그 형성 공정에서 서로전기적 연결이 이루어지며, 덮개 재질은 역시 유리가 적용 ... 공정에 의해 아주 얇고 굽혀지기도 하는 스테인레스 본체에입혀지며 실리콘류의 코팅을 통해 보호되며, 효율은 약 8% 정도이다.최근 빠르게 발전되어 가고 있는 건물 일체형 태양전지 ... 에 반영하면 되지만, 박막형의 경우 건축물의 구조와 형태에따라 지지하는 방법과 설치조건이 각각 다르기 때문에 설계자는 명확한자료를 제시하여 시공시 문제가 발생하지 않도록 하여야 한다
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.03.03
  • 메모리 반도체 제작 과정 및 이론 설명 ppt
    반도체 메모리 박막Contents 1. 웨이퍼 가공 공정 2. FRAM결정성장 PVD : Physical Vapor Depostion CVD : Chemical Vapor ... 결정 성장로 석영 도가니 결정 성장 단결정 잉곳 결함 검사 Ingot 절단 테두리 연마 Waper 표면연마 웨이퍼 식각 웨이퍼 세정 웨이퍼 가공 공정초크랄 스키법Ingot 절단 ... 찍는 공정 노광 (Exposure)노광 (Exposure) 웨이퍼 표면 마스크의 상을 웨이퍼 표면에 정확히 맞추어 정렬한 다음 마스크를 통하여 도포된 감광막을 적절히 노광
    리포트 | 72페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2023.04.24
  • Epitaxy
    으로 각종 반도체 관련 재료들을 올려놓기 위해 단결정으로 이루어진 웨이퍼 상에 얇은 박막으로 표면을 덮는 코팅을 하여 각 재료들이 특정 위치에 정확히 위치할 수 있도록 기초공사를 하 ... 두께가 수㎛ 정도인 소자용 박막 제작에 사용 된다.에피택시(Epitaxy)의 특징은 불순물 농도를 기판결정에 대해 독립적으로 설정할 수 있어 집적회로의 소자층을 만드는 경우와 같이 ... epitaxy한 전자 및 광전자 소자의 구현에 있어 에피택시 공정은 필수적인 공정으로 볼 수 있다.1) 원자층 적층 성장 에피택시 (ALE : Atomic Layer Epitaxy)반도체
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.10.28
  • 식각 공정
    1. 실험제목박막재료의 표면 처리 및 식각 공정2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정박막재료의 (1)증착공정, (2) 마스크의 패턴형성 ... 그리고 (3) 식각공정으로 구분된다. 이러한 공정 들 가운데서 중요한 공정박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이다. 본 실험에서는 마스크에 의하 ... 여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화등에 대하여 고찰하고자 한다.3. 실험내용가장 널리 사용되는 실리콘 산화막
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.07.03
  • 판매자 표지 자료 표지
    반도체 공정의 이해
    /OUTCVD 공정개요: 막 형성에 필요한 물질을 기체상태로 반응실에 도입시켜 적절한 반응조건하에서 물질의 화학반응을 통해 Wafer상에 박막을 형성하는 공정장치구조(PECVD 장치예)장치 ... 간의 결합을 통해 박막을 생성시키는 공정임.공정명GAS AGAS B반응에너지생성막막의 역할NITDCSNH3열 에너지Si3N4산화방지막,절연막,유전체POLYSiH4PH3열 에너지P ... 에 PHOTO에서 Pattern을 형성한 대로 필요한 부분만을 남기고 필요없는 부분의 박막을 화학적 또는 물리적 반응으로 제거하는 공정PlasmaGasPump
    리포트 | 27페이지 | 3,500원 | 등록일 2010.02.25
  • Photolithography 예비보고서
    ○○○, □□□ University리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정 ... 으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전사시킴으로써 행해지고 있다. 이 공정은 모든 프로세스 ... 기술의 중심이며, 반도체 공장에서도 가장 많은 금액의 투자를 필요로 하는 장치이다. 패턴 형성 후에는 반드시 에칭 공정이 수반되며 현성된 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 처리할 수
    리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.07.10
  • 무전해도금발표_B1
    메커니즘의 차이를 학습하고 , 실험을 통해 구리의 무전해 도금 제조공정 및 원리를 이해하는 것 .2-1. 무전해도금이란 ? 무전해 도금 화학 도금이라고 하며 전기의 사용없이 화학 ... . 탄소나노튜브의 합성 (2) 화학 기상 증착법 (Chemical Vapor Deposition) 화학 물질을 plasma 및 열을 이용하여 박막을 형성 CVD 는 다른 방법 ... 방법에 의하여 구할 수 있다 . 면저항 (ohm/sq) × 박막두께 (cm) = 비저항 ( ohm ∙ cm ) 4 point probe3-1. 실험재료 및 도구 1) 실험재료 단일벽
    리포트 | 42페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.02.28
  • 유기태양전지 실험보고서
    P3HT:PCBM활성층을 갖는 유기 박막태양전지의 Solvent에 따른 특성송윤석단국대학교 전자공학과ABSTRACT본 연구에서는 P3HT와 PCBM 물질을 전자도너와 억셉터 광활 ... 성층 물질로 사용하여 벌크이종접합 구조를 갖는 Glass/ITO/PEDOT:PSS/P3HT-PCBM/LiF/Al 구조의 유기박막태양전지를 제작하였다. P3HT와 PCBM은 각각 0 ... ℃에서 20분간 후속열처리를 실시한 후 활성층의 두께가 전기적 특성에 미치는 영향을 조사하였다. P3HT:PCBM에서 톨루엔 용액에 500rpm공정을 실시하였을 때 가장 우수한 전기
    논문 | 4페이지 | 15,000원 | 등록일 2018.05.28
  • 박막 특성 평가
    의 계면 접합 특성"계면접합특성은 여러 인자들에 의해 다양한 영향을 받으며 이는 크게 박막과 모재의 물성 차이, 모재 표면의 상태, 코팅 공정, 코팅 후처리 등으로 나누어 볼 수 있 ... 가 달라지기도 하며 표면조도 및 청정도, 순도 역시 영향을 미친다. 한편, 박막의 코팅 방법이 다양해짐에 따라 코팅 공정이 계면접합특성에 미치는 영향이 더욱 중요시되고 있는데 코팅시 ... 박막 특성 평가1. 경도측정◆Nano indentation2. 박막의 Adhesion 측정(1) Pull-off test(2) Scratch test(3) Indentation
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.08.23
  • 판매자 표지 자료 표지
    녹색 OLED 소자 제작 실험 제안
    1/3, 명암비는 1000:1 이상, 두께는 1/5정도의 초박형, 자발광으로 응답속도는 1000배 정도이며, 공정 또한 단순하여 대량 생산시 제조비용이 낮아지며, 유연 ... 시키기 위한 연구가 지속적으로 진행중이고 구동전압을 낮추기 위한 연구 역시 진행되고 있다. 특히, 현재의 점증발원방식으로는 대면적기판을 적용한 제조공정에 어려움이 있어 증착방식에 관한 ... 이나 수명측면에서 제한이 있다. 따라서 적색소자의 성능개선을 위한 새로운 재료의 개발이나 공정기술이 요구되고 있다. 형광물질이 활성제로 사용되는 적색OLED는 이미 개발되어 있다. 에너지
    리포트 | 14페이지 | 4,000원 | 등록일 2012.06.03
  • Quantum dot 관련 보고서
    로 천연색을 모두 구현.① LED 단점 보완 소재1-2. Quantum dot의 활용 분야② 박막형 태양전지 효율성 상승양자점 입자를 박막전지 유리기판에 입혀 광변환 효율을 높임 ... . 업계에서는 이 기술을 사용해 최소 2~3%의 효율을 높일 수 있다고 함.↑ 양자점을 이용한 LED↑ 양자점을 이용한 박막형 태양전지*Quantum dot 활용 분야양자점을 광섬유 ... 의 제조공정↑ 양자점을 의료분야에 적용(적혈구에 양자점 투입)Ⅱ. Quantum dot BLU LCD의 장점과 단점Quantum dot의 장점(AMOLED와 비교) Quantum
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.03.10
  • MEMS (Micro Electro Mechanical Systems)
    위에 증착시키는 공정박막증착(thin film deposition) 공정이라 한다. 이 공정은 반도체 IC의 제조에 필요한 여러 특성의 재료들 즉, 부도체, 반도체 및 도체 ... puttering)법 등이 있다.에피택시(Epitaxy) 공정 : 소자에의 응용을 위한 결정성장방법 중의 하나는 단결정으로 이루어진 웨이퍼 상에 얇은 박막결정을 성장시키는 것이다.* 액상 ... 이나 박막증착 공정의 결과로)을 선택적으로 제거하는 공정을 사진식각(photolithography) 공정이라 한다. 이중 사진공정은 마스크(mask) 상의 기하적 모형(pattern
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.09.12
  • Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조(결과)
    1. 서론Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는다.2. 이론1) 박막이란?박막이란, 두께가 단원자층에 상당 ... 하는 0.1nm에서 10μm정도의 두께를 가진 기판 상에 만들어진 고체 막으로 정의된다. 이와 같은 박막은 형성과정이 보통의 덩어리재료(Bulk)와 다르기 때문에, 구조차이에 의한 막 ... 하여 각종 전기소자, 집적회로, 광학부품 등 여러 응용분야에 이용되고 있다.박막 제조 방법에는 여러 가지가 있지만, 이번 실험에 사용한 진공 증착법에 대하여 알아보자.2) 진공 증착
    리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.12.11
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2025년 08월 29일 금요일
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