"박막 제조법"의 검색결과 입니다.

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집적회로공정 cvd sol-gel spin coating 역구조 태양전지 ALD V컬러링 optical band gap sol gel PVD CVD

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"박막 제조법" 검색결과 841-860 / 1,690건

금속 산화물 및 질화물 합성 (예비)

해야 하며, 좁은 입도분포를 가져야 한다.표 1에 지금까지 알려진 질화알루미늄의 분말합성법과 박막합성법(화학증착법)을 실었다. 분말의 합성법 중에서 공업적으로 많이 사용되고 있 ... 질화알루미늄 기판을 제조하기 위해서는 열전도도를 떨 어뜨리는 주원인인 산소와 금속불순물의 함량이 매우 낮아야 된다. 또한 완전한 밀도의 소결체를 얻기 위해서는 입자의 크기가 미세 ... 는 합성법은 다음의 두 가지이다: 금속알루미늄을 고온에서 질소 혹은 암모니아 기체와 직접적으로 질 화반응시키는 직접질화법(direct nitridation)과 알루미나와 탄소와 혼합물

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.04.04

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cvd

속도, 기체 압력, 기판 바이어스 등)에 따라서 우선방위가 변하면 이에 따라 박막의 물성이 크게 변화하는 것으로 알려져 있다. 아래 결과는 저온 열화학 증착법으로 제조한 TiN 박막 ... 는 박막이 반도체의 제조에 중요하기 때문이다. 박막은 물리기상증착(Physical Vapor Deposition)과 화학기상증착(Chamical Vapor Deposition)등 ... 들이 증착되는 원자의 표면이동속도에 영향을 미침으로써 막의 구조나 성질에 영향을 미친다. 다른 많은 박막제조공정과 비교해 볼 때, CVD는 다양성, 적용성, 제품의 품질, 단순성, 재

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16

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이온플레이팅

질과 가스를 이온화하여 증착될 물체에 높은 에너지를 가지고 증착하게 하는 일종의 진공증착법으로서 박막의 성질을 향상시키기 위하여 glow discharge를 이용하는 물리 증착 과정 ... 을 Filtering하는 기술이다.이 외에도 엄밀한 의미에서 플라즈마를 이용하는 것은 아니지만 이온빔(Ion beam)을 이용하는 PVD 기술도 박막 제조공정에서 중요한 위치를 차지하고 있 ... 의 총칭이라 할 수 있다. mattox는 이것을 ‘증착전이나 증착과정 중에 고 에너지의 이온으로 형성되는 유속에 의해 지배되는 증착법’ 이라고 풀이 하였다.이온플레이팅도 스퍼터링

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| 리포트 | 19페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.07.03

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자기저항 , 스핀전달토크에 의한 자화반전 및 세차운동의 원리 및 소자응용 가능성, Runge-Kutta 방식, LLG식.

방향 법으로 제조된 Fe/CR 60층의 다층박막에서 자기 저항비가 46%정도 되는 아주 큰 자기저항 효과를 발견하였는데, 과거 NiCO합금에서 3~6% 이방성 자기저항 효과와 비교 ... 기기 저항이고,는 인가자장을 가했을 때시편의 전기 저항이며, MR의 특성은 비자성 박막층의 두께와 관련이 아주 크다.자기저항은 절대 온도의 단위로 쓰이는 Kelvin 경(Baron ... . Jin에 의해박막에서 실험되었다. 이러한 물질계에서는 아주 큰(~100%)자기 저항 효과가 나타나는데, 이 같은 현상을 초거대 자기저항효과라고 한다. 원인은 charge

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| 리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.03.17

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전전자실험 예비 Report(저항)

전력 회로에 많이 사용된다.그러나 높은 저항값을 제조하기가 어렵고 유도성분이 다소 있으며 금속선을 절연체에 코일상태로 감기때문에 고주파 회로에는 사용하기 힘들다는 단점이 있다.2 ... ) 금속 피막 저항①단일 금속이나 합금의 박막을 절연성 지지체 위에 부착한 저항기로 정밀한 저항이 필요한 경우나 오디오 회로에 가장 많이 사용된다.대량생산이 가능하고 고주파 특성이 좋 ... , 오차범위로예시를 든 띠(4색대, 5색대) 위에 컬러 표시를 하게 되는데 표시된 저항값을 읽는법은 다음과 같다.제1숫자제2숫자제곱수오차범위< 4색대 저항 >{(제1숫자 ? 10) + (제2숫자 ? 1)} ? 제곱수오차범위

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| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.11.12

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유기태양전지실험

었다. 또한 spin coater와 같은 태양전지를 제작하는 과정에서 사용되는 기구들의 작동 법 및 주의할 특징들을 파악하고 실험에 임하였다. 제작이 끝나고 마지막 고온에서 건조 ... tru 계면의 면적이 매우 커 전하 분리의 가능성이 더 큼을 알 수 있는데,기존 무기계 태양전지(p-n접합구조)와는 뚜렷이 구별되는 유기 박막 태양전지만의 독특한 구조이다[5].유기 ... 광을 흡수하여 생성된 엑시톤에서 전자와 정공을 분리하는 단계이다. 유기박막 태양전지는 무기반도체의 p-n결합을 이용한 무기태양전지와 같은원리를 이용한다. 일반적으로 고분자 태양전지

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| 리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.10.02

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국내외 로봇용 센서 산업의 현황 및 향후 발전 방안

습니다.현재 국외기술동향을 보게 되면 주로 condenser방식 위주로 연구되고 있으며, 진동판인 박막의 민감도를 향상시키기 위하여 다양한 구조가 연구 중에 있습니다. 평면구조의 박막 ... 에 대한 민감도 향상 방안에 대한 연구로부터 평면 구조를 변형한 corrugate 구조를 이용하여 민감도를 향상시키는 연구 등이 진행되고 있습니다. 또한 박막의 두께와 크기, 박막 ... 성S 카메라를 이용하여 주변 영상을 획득하고, 삼각측량법을 이용하여 대상 물체를 인식하는 stereo시각 시스템이 대표적이며, 이 영상으로부터 특정한 컬러를 갖는 물체 혹은 표식

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| 리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.03

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플라즈마

계 재료의 박막제조에 활용하고 있다.sputtering법은 sputtering 가스를 진공분위기로 이루어진 camber내로 주입하여 성막하고자 하는 target물질과 충돌 ... -out된 원자 및 분자가 기판에 도달되어 박막이 형성되는 장치로서 비교적 경제적이며, 양질의 박막을 제조할 수 있는 공정이다. 본 연구실에서는 이 장치를 사용하여 산화물 및 금속 ... )라 하며 일반적으로 전도체의 sputtering에 사용된다. 절연체와 같은 부도체는 교류 전원을 사용하여 박막을 제조한다. 이때 교류전원은 13.56 ㎒의 주파수를 가지며 이를 R하다.

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.01

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RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가

번200423156이 름유정우■ 박막 제조 공정● Pump 의 종류① Mechanical pumpa) Rotary pump : 기계식, 선풍기처럼 공기를 밀어서 공기를 뽑아내 ... 실험 예비 REPORT━━━━━━━━━━(RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가)소 속재료공학부담당교수교수님학 년3학년분 반003학 ... ① DC sputtering : 직류전지에서 플라즈마를 이용하여 Sputtering을 하는 방법으로 주로 금속 target을 이용하여 substrate에 박막을 입히는 것이

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| 리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.01.25

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화공실험 보고서

)■저항가열식 진공증착법진공층착법은 1857년에 Faraday가 처음으로 행한 방법으로 이 방법은 박막제조법중에서 널리 보급된 방법이라 할 수 있다. 원리는 간단하고, 진공중에서 금속 ... 기는 하지만 이렇게 하여 만들어진 박막을 진공증착 박막이라 한다.제조된 박막재료는 금속, 합금을 비롯 화합물과 비금속 산화물 등이 있으며 이들 박막의 기능과 성질은 매우 다양 ... , 화합물, 또는 합금을 가열하여 용융상태로부터 증발시켜 evaporated된 입자들을 기판 표면에 증착시키는 방법이다. 증발과정이 열교환과정이라는 점이 스파터링법과 다른 점이

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| 리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.21

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[전자종이]전자종이(e-paper)의 정의와 특징(장점, 우수성) 및 필요성, 전자종이 구성 기술 및 개발 동향과 시장 전망 분석

원가적인 측면에서 큰 장점을 띰? 능동 구동 방식(active matrix)인 경우 화소의 스위칭(switching)을 위한 소자 형성 기술인 비정질 실리콘 박막 트랜지스터 ... , 저온다결정 실리콘 박막 트랜지스터, 유기 박막 트랜지스터 등이 사용됨? 향후 저가격화를 위해 유기 박막 트랜지스터에 대한 필요성이 대두되고 있음기판 소재기술? 초기 제품은 유리 ... 을 위한 박막 공정기술, 표면 roughness 개선 기술, 보호막(passivation) 기술 개발 등이 요구됨모듈 기술? 각각의 전자종이 기술에 맞는 구동 방식 선정과 그에 따른

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| 리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.02.23

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공구재종 및 코팅

'이나 '주철'도 절삭이 용이Ceramic + Metal TiC, TiCN을 주로 한 소결합금초경합금이란?금속 탄화물(WC)과 철(Fe)계의 결합금속 (Fe,Ni,Co)을 분말 야금법 (혼합 ... ,성형,소결 과정)으로 제조한 복합금속, 간단히 말해서 소결 탄화물 합금, Cemented Tungsten Carbides, Hard metal 이라 부른다WC(탄화텅스텐)를 주 ... 하는 성질을 지닌 물질을 입혀서 사용목적에 적합한 재료를 만드는 것화학적 증착법 ( CVD : Chemical Vapor Deposition ) 물리적 증착법 ( PVD

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.04.05

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태양에너지의 현재와 미래 그리고 기술발전을 위한 제안(A+)

비판이 있었으나 현재는 제조에 필요한 에너지를 발전량으로 환산해서 다결정 실리콘으로는 2년 정도, 박막태양전지로는 1년 정도로 보고 있다.따라서 태양전지의 수명을 20년 ... 의 환경 효과태양전지에 대한 비판으로는 제조 에너지가 방대한데 비하여 발전량이 적다는 지적이 있다. 태양전지와 그 주변부재를 제조하고 설치할 때엔 당연히 에너지를 소비하고 CO2 ... 를 배출하게 된다. 제조를 위해서 사용한 에너지를 발전으로 회수하는 데에 필요한 연수를 Energy Payback Time(EPT)라고 한다. 20년 전에는 EPT가 10년 정도라는

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 17페이지 | 2,500원 | 등록일 2012.08.30

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금속 산화물 및 질화물 합성 (예비)

시킴분말합성법열탄소환원질화법알루미나와 탄소와 혼합물을 질소분위기에서 고온 반응시킴박막합성법(화학증착법)· 직접 질화법과 열탄소환원질화법 비교 : 열탄소환원질화법보다 질화반응 온도 ... 에 대한 전개가 시도되고 있는 한편 고집적화된 LSI와 파워트랜지스터 등의 기판으로도 용도 확대되고 있다.직접질화법금속알루미늄을 고온에서 질소 혹은 암모니아 기체와 직접적으로 질화반응 ... 가 낮지만, 합성된 질화알루미늄의 입자가 크기 때문에 소결시키기 위해서는 얻은 분말의 분쇄과정을 필요로 한다. 열탄소환원질화법에서는 열역학적으로 매우 안정한 α-알루미나를 사용하기

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| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.04

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단백질 칩 제조기술

단백질 칩 제조기술1. Purpose이번 실험에서는 단백질 칩의 제조기술을 알아본다. 본 과정은 박막의 형성과 기판 상에 제작된 박막의 확인, 그리고 microarray를 이용 ... 하여 완성된 단백질 칩의 형광 분석법을 통한 활성의 확인, 이렇게 두 단계로 나누어져 있다. 이를 통해 기초적인 단백질 칩의 제조기술과 형광스캐너의 사용법을 학습해 보기로 한다.2 ... 규칙적으로 잘 정렬된 유기 분자막이다. SAM의 제조에 이용되는 계면활성제 분자는 세 개의 부분으로 이루어져 있다. 먼저 기질과 결합하는 머리 부분의 반응기, 규칙적인 분자 막 형성

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.09.27 | 수정일 2014.06.16

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디스플레이 공학실험 TFT-LCD 제조실험

의 제조 기술에서 TFT-Array를 형성하는 공정은 Silicon 반도체 제조공정과 유사하다. 즉, 박막증착(Th in Film Deposition), 사진 ... . Color Filter는 제조시 사용되는 유기 Filter의 재료에 따라 염 료 방식과 안료 방식이 있으며, 제작 방법에 따라 염색법, 분산법, 전착법, 인쇄법 등으로 분류할 수 있 ... 으나, 현재 TFT-LCD의 Co lor Filter의 제조시 사용되는 가장 보편적인 방법은 안료 분산법이다.C/F 기판은 색상을 구현하는 Color Filter Pattern과 R

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| 리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.12.04

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ITO 투명전극과 TCO

해야 막질이 좋아지기 때문에 널리 쓰이지는 않지요.ITO는 파우더형태로도 제조됩니다.분말 제조 방법은 크게 액상법과 기상법이 많이 응용되어지고 있습니다.액상법은 침전법을 이용 ... 를 System에 전송, 명령을 수행하게 됩니다.TCO(transparant conductive oxodes)투명전도막(TCO 박막)이란...TCO(Transparent conductive ... oxodes) - 투명 전동성 산화물빛의 투과성이 높으면서 전기가 통하는 성질을 가지는 얇은 박막.투명 전도막 종류2.1 금속 박막 : 금속을 얇게 코팅.단점 : 안정하지 못하고 시간에 따라 변함.

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.29

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원자력현미경AFM(atomic force microscope)

바늘 모양이 CNT가 적용된 부분측정 정밀도와 수명이 실리콘 탐침에 비해 탁월. 가격기 수만원에 불과한 실리콘 탐침에 비해 CNT탐침은 100만원정도. CNT탐침의 제조법은 고가 ... , 공기, 용액 중에서도 작동이 가능하여 그 응용범위가 넓다. AFM에서는 텅스텐으로 만든 바늘 대신 마이크로머시닝으로 제조된 Cantilever라고 불리는 작은 막대를 사용 ... (Cantilever)는 마이크로 머시닝으로 제조됨. 캔틸레버는 길이(l)가 100um, 폭(w) 10um, 두께(t) 1um로서 아주작아 미세한 힘에 의해서도 쉽게 휘어지

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| 리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.07.28

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플라즈마와 RF

에 대한 측정 방법으로 금속-안테나 구조를 이용, 전하축적에 의한 산화막의 파괴특성을 평가하는 것이 일반화되고 있다.②플라즈마 CVD얇은 박막들은 현 VLSI회로 제조 공정 ... 한다.으며, 이에 따라 다양한 플라즈마의 생성 및 제어, 측정 기술, 플라즈마의 물성을 측정하는 플라즈마 진단법이 개발이 이루어질 것으로 전망된다.(4) 플라즈마의 종류저온 플라즈마고 ... 온 플라즈마주 발생원RF, Microwave, Inductive coupledDC플라즈마Bulk온도수십 ~ 수백 ℃~ 수만 ℃주용도반도체 제조, 형광등 제조 등.고온 (소각, 금속

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.05.23

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태양전지제조공정

공정 및 방법4. 웨이퍼의 가공5. TEXTURING6. P-N JUNCTION 제조 방법7. 반사방지막 구조 및 공정-진공증착법-CVD방법8. 후면 전계(BSF) 형성9. 전극 ... 형성10. 스크린 프린터 공정11. 박막(비정질) 태양전지 구조12. 박막(비정질) 태양전지 제조 공정13. 모듈(MODULE) 구조14. 모듈(MODULE) 제조 공정15 ... 의 연구가 진행되고 있다.-실리콘 단결정 제조 방법◎Czochralski, CZ법1950년대 중반 이후로 반도체 공업의 경이적인 성장은 실리콘에 관련된 기술의 발전에 의하여 비롯

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| 리포트 | 38페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.25

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