"반도체제작공정"의 검색결과 입니다.

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반도체제작 mos capacitor 제작 반도체 공정 사업계획서 sk하이닉스 반도체 공정실험 신소재 asml MEMS

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"반도체제작공정" 검색결과 2,661-2,680 / 3,665건

[국제통상의 이해] 1~5장 내용 요약/정리

권, 저작권에 그쳤지만 TRIPs에서는 컴퓨터 프로그램, 데이터베이스, 반도체 집회로설계, 영업비밀 등 까지의 권리도 포함3. 보조금 및 상계조치 협정- 원산국 or 수출국에서 상품 ... 의 제조, 생산, 수출에 대해 직·간접적으로 부여받은 장려금 or 보조금을 상쇄할 목적으로 통상의 관세 이외에 부과되는 특별관세인 상계관세를 부과함으로써 수출국간에 공정한 기회를 제공 ... 이별적인 → 미국국민권리침해 3. 발동요건 확대2. 한국의 통상관련법(1) 대외무역법- 무역관리를 위한 기본법, 자유롭고 공정한 무역과 산업의 능률을 높이기 위하여 종래의 무역거래

리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.05.31

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[지적재산권]로스쿨을 통한 지적재산권교육

제작자에게도 보상해야 함을 규정했다.) 일시적 저장)에 대한 복제권도 인정하기로 했다. 단, ‘공정이용’(fair use)에 대해서는 예외조항을 설정할 수 있는 근거 확보해야 할 ... 를 산업재산권 또는 공업소유권, 정신문화의 발전에 기여하는 것에 대한 권리를 저작권이라고 한다.그 외에도 반도체집적회로의 배치설계에 관한 법률(일명 반도체칩 법), 컴퓨터프로그램 ... 에도 독점규제 및 공정거래에 관한 법률, 대외무역법 등이 권리의 이전, 도입을 규율한다. 여기에서 언급한 법규가 모두 포함되면 가장 넓은 의미의 지적재산법이다.)2. 지적재산권의 변화앞

리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.06.19

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M-DNA분자의 구조적 / 전기적 특성

.................................................의 법칙 - “18개월 마다 반드시 트랜지스터 수는 두 배로 증가한다.” 오랫동안 반도체 업계를 지배해온 이 같은 무어의 법칙은 시한부 인생이다. 초미세 나노미터(nm) 공정 ... 이 실용화 되어 현재 40nm에서 낸드 플래시 메모리가 개발 되었지만 반도체칩의 집적도를 계속 높이는 데는 한계가 존재한다. 2018년쯤에 16nm 공정이 실용화 되면 이후에는 제조 ... 공정의 미세화는 기껏해야 한두 번에 그칠 것으로 전망된다. 무어의 법칙이 효용성이 낮아졌다는 주장은 이전부터 제기되어 왔지만 업계에서 인정하기는 처음이다. 반도체 공정이 16nm

리포트 | 41페이지 | 3,000원 | 등록일 2006.12.04

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[표면공학]박막을 제작시 확산 방지를 위한 방안

의 성질로 인하여, 공구강의 표면경화막 또는 장식용 coating 재료등으로 널리 이용되어 왔다. 또한 최근에는 반도체 집적공정에 있어서 금속과 Si사이의 계면반응은 막아주는 확산 ... 수 있다.이 방안을 선택한 이유TiN 박막은 비저항이 낮고, 좋은 접착력을 가지고 있으며, 열적으로 안정하여 현재 반도체 금속공정에서 확산방지막층으로 사용되고 있다. ... < 금속재료공학 20013455 조성근 >박막을 제작하였을 때 막과 막 사이의 확산 방지를 위한 방안TiN 박막은 그 재료의 높은 융점과 낮은 전기저항도, 그리고 금색의 표면광택

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.22

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하이닉스 합격 자기소개서 입니다.

프로젝트를 하면서 공정부문의 매력을 느끼게 되었고 공정과 관련된 저의 경험을 바탕으로 하이닉스반도체의 Engineer로서 한계를 생각하지 않고 수율 100%를 달성하겠다는 마음 ... 과 부채상환이 겹쳐 기업으로서는 최대 위기상황 이었습니다. 이런 상황에서 다시 일어서는 것은 기적과도 다름없습니다. 그로부터 4년이 지난 2005년. 반도체 부문 성장률 1위. 16 ... 분기 연속 흑자. 가까운 미래에 메모리 1위 그리고 인텔을 넘어 반도체분야 1위의 기업이 되리라 확신합니다. 이 꿈이 나 자신으로 시작해 가족과 회사를 넘어 현실이 되도록 최선

자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.06.14

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신재생에너지의 의미, 중요성, 종류, 특징

olar battery)? 태양에너지를 전기에너지로 변환할 목적으로 제작된 광전지로서 금속과 반도체의 접촉면 또는 반도체의 pn접합에 빛을 조사(照射)하면 광전효과에 의해 광기전력 ... 이 일어나는 것 을 이용한 것? 금속과 반도체의 접촉을 이용한 것으로는 셀렌광전지, 아황산구리 광전지가 있고, 반도 체 pn접합을 사용한 것으로는 태양전지로 이용되고 있는 실리콘광 ... 전지일컬음? 이러한 태양전지에 태양빛이 닿으면 태양빛은 태양전지속으로 흡수되며, 흡수된 태양빛 이 가지고 있는 에너지에의해 반도체내에서 정공(正孔:hole)(+)과 전자(電子

리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.03.23

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[공학기술]공명터널링 다이오드

을 갖는 이종 접합 구조로 전자의 De Broglie 파장 (~100 Å) 정도 두께의 층 구조를 인위적으로 쌓아올린 다층 반도체 구조공명 터널링 다이오드구 성 7단 박막구조 좁 ... 은 밴드갭 에미터 (또는 애노드) 박막 Ⅰ,Ⅱ : GaAs, 불순물이 짙게 도핑된 반도체공명 터널링 다이오드이중장벽 양자우물 구조 (Double-Barrier Quantum Well ... ) 박막 Ⅲ,Ⅴ: AlGaAs, 이중장벽 박막 Ⅳ : GaAs, 양자 우물 불순물이 짙게 도핑된 반도체 양자 우물 구조 : 화합물반도체를 이용한 이종 접합 계면에는 밴드갭 에너지의 불

리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.02

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[재료실험][DH실험] 반도체단위공정, 증착, 식각

(반도체단위공정, 증착, 식각)조학부 :학번 :분반 :이름 :차 례1. Semiconductor Unit Process2. Deposition(증착)3. Etching(식각)1 ... 어 둔 다음, 히터에 전류를 흘러서 가열함으로써 그 금속입자를 증발시키면, 차가운 물체 표면에 응축해서 부착하는 것을 이용하여 표피를 붙이는 방식이다.반도체 소자나 집적회로의 제작 ... Deposition )가 많이 사용 되고 있다.1) PVD (Physical Vapor Deposition): PVD(물리 기상 증착) 공정의 정의는 생성하고자 하는 박막과 동일한 재료

리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.05.11

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특허권에 대한 국제적 협약

화기구(UNESCO)가 있으며, WIPO는 저작권 관련 베른협약, 저작인접권 관련 로마협약, 음반제작자 관련 제네바협약 및 산업재산권 관련 파리협약 등을 관장하고 있 ... , 불공정경쟁 방지 등의 광범위한 분야를 포괄하고 있다. 각국의 특허제도상의 차이를 인정하면서 중요한 사항에 대하여 국제적으로 통일된 규범을 규정하였다. 우리나라는 1980년 8월 ... 분야의 창작물과 관련된 산업재산권(특허권, 실용신안권, 상표권, 디자인권)과 문화예술분야의 창작물과 관련된 저작권으로 나눈다. 이 밖에도 반도체 배치설계나 온라인디지털콘텐츠와 같이

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.20

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[재료공학실험, 반도체]Lithography

및 장비의 관리가 보다 중요한 공정이며, 향후 TFT 제작공정의 고정밀, 대면적화에 따라서 그 중요성이 더욱 커지는 공정이다.1.Photolithography1) PR ... Lithography / 리소그래피Lithography(리소그래피)는 반도체 집적 회로를 반도체표면에 그리는 방법 및 과정을 통칭하며, 초미세 인쇄 기술이라 말할 수 있 ... 다. lithography 공정은 모든 공정 step이 각종 particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.28

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[반도체공학] 반도체기초과정

> 도체, 부도체, 반도체2. 반도체소자의 제조공정단결정성장규소봉절단웨이퍼 표면연마회로설계마스크(Mask)제작산화(Oxidation)공정감광액 도포(Photo Resist Coating ... 마스크 구조6. 산화(Oxidation)공정산화막 형성은 실리콘 집적회로제작에서 가장 기본적이며 자주 사용되는 공정이다. 800~1200℃의 고온에서 산소나 수증기를 실리콘 웨이퍼표면 ... 는 부분을 선택적으로 제거시키는 공정이다.그림12. 식각공정반도체 소자 제조에 필요한 미세패턴을 형성하는데 있어서 리쏘그래피와 함께 가장 기본적이고 중요한 공정이다.- 건식식각

리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.04.21 | 수정일 2021.03.30

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경영전략-수직적 통합과 아웃소싱전략,기업의 외부환경분석 (삼성전자),전략적 제휴, 합작투자, 기업인수합병 (다음)

였다.이러한 점에서 삼성은 행운을 지녔다고 볼 수 있는데, 우선 1987년 256k DRAM의 수요가 폭발적으로 늘어나기 시작한 점, 미? 일간 반도체 무역협정에 의거한 공정거래 가격제도 ... 경영전략론기업의 외부환경분석 (삼성전자)1. 삼성전자가 반도체 사업에서 성공한 이유는 미래를 내다본 전략적 직관과 행운 중 어느 쪽의 비중이 더 크다고 생각하는가?삼성전자 ... 의 반도체 사업성공이유는 기업이 처한 환경분석과 이에 기초한 전략적 판단의 비중이 크다고 생각하며 책에서 예시한 대로 어느 정도의 행운이 결합된 결과로 보인다.전자회사를 중심으로 안정

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.09.30

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삼성의 사업별 (SDI, 삼성전자, 삼성중공업)의 SIS(전략정보시스템) 이용 사례

가 전공정기술, 64M 모듈을 개발하였고, 통신장비 품질관리시스템인증(QSC)을 취득하였다. 또한 미국 롱즈(Long's)와 합작하여 반도체 장비 부품제조업체 IPC를 설립 ... 사업, 생활가전 제조, 정보통신 사업, 반도체 사업 등이다.-삼성중공업플랜트 설비 및 산업기계의 제작·판매·설치 및 수리를 주요 사업으로 하는 삼성그룹 계열의 중공업체. 1974년 ... 대 돌파기록과 흑백 TV 수출실적 세계 제1위를 차지하였다. 1983년 국내 최초로 초소형 VTR(8mm) 개발, 1985년 VTR 수출을 시작하였고, 1988년 삼성반도체통신(주

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.09.10

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[공학]LED

1.LED발광다이오드는 1923년 반도체에 전압을 가할 때 생기는 발광현상을 관측하면서 세상에나오게 되었다. 여러 가지 기술상 문제로 1960년대 말부터 실제 사용되기 시작 ... 하였다.초기에는 적색계통의 LED만 개발 되었으나, 현재는 새로운 반도체 재료가 개발되면서 청색과 녹색의 LED도 개발돼 천연색 및 백색의 빛을 구현할 수 잇게 되었다. 이런 LED ... 는 크게 SMD타입과 램프타입으로 되어 있다. LED 아래에는 두발이 달려있는데, 이 두 발은 전극의 역할을 한다. 몰드 내부에는 반도체 칩에 전원을 공급하기 위한 음전극과 양전극

리포트 | 11페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.07.06

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초전도체의 모든 것

씩 통과시키면서 620℃에서 가열한다.-SHS 공정을 이용한 초전도체 제작(1)YBCO의 제작1. 시료를 혼합한다. 여러 방법으로 시약을 혼합했는데 그 종류는 다음과 같다.BaO ... 초전도체 보고서목 록1. 초전도성의 발견- 초전도성의 발견- 고온초전도체의 역사2. 초전도체의 특징- 초전도체의 특징- 초전도체 제작 방법3.초전도체의 분류- 임계온도에 따른 ... 분류- 재료에 따른 분류- 특성에 따른 분류4. 초전도체의 현황- 초전도체의 전류를 바꿔놓는 선풍- SHS 공정에 의한 새로운 합성 방법- 변압기 및 송전 케이블용 초전도 선재의 저

리포트 | 29페이지 | 4,000원 | 등록일 2008.12.02

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지구환경보고서2009 영구적인에너지 PPT (제꺼 레포트랑 맞는 PPT입니다

)형기어(Gear)형회전자와 발전기가 직접연결 발전효율이 높음 간단한 구조, 저소음저렴한 제작비용 어느 지역에서도 설계,제작가능 유지 보수 용이풍력발전*해외 기술개발현황1.덴마크 ... cells태양열 발전 solar thermal electricity태양열을 이용하여 증기를 발생시켜 터빈을 회전시켜 에너지를 획득태양빛( photons)을 반도체의 성질을 이용 ... 환경파괴 가능성 4. 단위 공정의 대규모 설비투자바이오에너지*해외 기술개발현황1. 중국: 농부산물 바이오매스 가스화 이용(발전 포함) 2. 일본 : 도시쓰레기 소각열 발전, 메탄올

리포트 | 45페이지 | 5,000원 | 등록일 2010.04.12

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나노센서 기술 사업계획서

의 스트레스로 수소의 농도를 측정하는 원리를 따르고 있다. 하지만 각각 산소가 없는 연료전지 내에서의 한계, 짧은 주기성, 복잡한 제작공정 및 낮은 재현성등의 취약한 단점들을 지니고 있 ... 연구가 완료 되었고, 이미 상용화 단계에 다다랐다. 현재까지 연구가 이루어지고, 상용화가 된 수소센서를 살펴보면 1) 접촉연소식, 2) 전기화학식, 3) 반도체식, 4) 캔틸레버 ... 다.우리는 이번 프로젝트를 통해 지금껏 쌓아왔던 나노기술을 적극 적용하여 간단한 공정을 통해 현존하는 수소센서들의 단점들을 보완하고, 우선적으로는 연료전지를 적용하는 경, 중, 대형

리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.01.01 | 수정일 2022.05.20

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차세대 반도체 정보기억장치

차세대 반도체 정보기억장치1. 기술의 개요 및 산업 동향가. 기술의 개요차세대 반도체 정보기억장치는 반도체 소자를 이용하여 디지털 이진정보를 기억하는 소자 가운데서 DRAM ... 과 플래시 메모리에 이어 새로운 반도체 정보기억소자로 떠오르고 있는 소자를 의미하는 것이다. 본 PM보고서에서는 현재 플래시 메모리의 뒤를 이을 소자로 평가받고 있는 FRAM, 대량 ... 변화(PRAM) 등을 이용하여 이진정보를 구분하는 특징을 가지고 있어 비 전하중심 소자로 불리고 있다.이들 차세대 반도체 정보기억장치인 FRAM, MRAM, PRAM 등은 (그림

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.10.29

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디스플레이 종류 조명 LCD

crystal)은 Benzene 고리가 원판모양으로 결합한 분자가 접시를 쌓아 놓은 모양을 가지고 있는 액정으로 특이한 액정상을 나타내며, 광시야각 film 제작에 이용되고 있 ... TFT 구조(1) Gate, Source, Drain 전극(금속)(2) Gate Insulator(절연층)(3) Channel layer(활성층, 반도체)(4 ... 에 공정이 간단하다는 장점이 있으나 n+층 식각시에 over-etching을 해야 되기 때문에 두께 제어가 어렵고 이로 인해 비정질 실리콘의 두께가 두꺼워야 한다는 단점이 있

리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.05.04

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기계공학실험 랩뷰 기초 원리와 실습 결과보고서

로 비약적으로 발전하여 여러 산업 분야에 컴퓨터가 응용되는 결정적인 계기를 이루었다. 마이크로컴퓨터는 미니컴퓨터, 공작기계, 공장의 공정 제어용 장치, 사무자동화 기기, 자동차 ... 웨어는 많은 종류가 있으나 현재 실습에 이용할 소프트웨어는 National Instrument사에서 제작하여 공급하는 Labview 라는 프로그램이다. Labview는 프로그램 ... 이 가능 모듈만 있다면 몇 가지 변수를 제공하여 줌으로써 간단하게 컴퓨터 계측을 실시할 수 있다. 요즈음 대부분의 아날로그/디지털 변환기는 Labview에 알맞도록 제작된 모듈을 기본

리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.09

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