"박막공정"의 검색결과 입니다.

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집적회로공정 반도체 증착 OLED 반도체 공정실험 박막공정 cvd 페로브스카이트 가공단가 나노소자> 무기공업화학

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"박막공정" 검색결과 2,501-2,520 / 3,367건

유기EL에 관하여

Emitting Diode)OLED는 (Organic Light Emitting Diode) 유기물(단분자/저분자 또는 고분자 박막에 양극과 음극을 통하여 주입된 전자와 정공이 재결합 ... 고가격고소비전력재료의 신뢰성 미흡대화면 곤란단 점대화면 용이, 저소비전력저가격, 단순제조공정고색상 가능조기양산 가능장 점능동형수동형고분자저분자구동방식유기 EL 발광 재료구분고분자 ... 3-7 V 저분자 대비 40% 저 R 10,000, G 3,000,B 1,500 높다4층 진공 열증착 동일 7-15V - R,G 10,000, B 6,000 낮다박막 층(layer

리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.04.07

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도레이첨단소재

, 디스플레이 , 회로재 관련 고분자 소재사업 신성장사업과 신기술의 확보 점 , 접착의 확대 , 박막가공의 전개 전략적 제휴를 통한 신사업 진출 제품구조의 변화도약하는 도레이첨단소재 기술 ... 과 서비스를 ” 고객을 위해 “ 열린기회와 공정한 평가 , 보상을 ” 사원을 위해 “ 가치있는 기업 육성과 신뢰에 보답하는 경영을 ” 주주 를 위해 “ 구성원으로서의 책임과 공존공영

리포트 | 28페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.09.08

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[방막공학] 박막제조

1. 실험 목적화학 기상 증착 공정의 기본 원리를 이해하고 직접 실험을 통하여 박막을 만들어보고 그 특성을 분석하여 실제 연구에 응용할 수 있는 기본적인 능력을 배양하는 데에 본 ... 의 열분해를 이용한 박막형성법으로 성장층의 조성, 특성의 정밀제어가 가능하다.- 레이저 CVD레이저 CVD법의 장점은 1선택적인 반응을 진행 2화학반응공정을 임의로 제어할 수 있 ... ^{ 10 } ANGSTROM } )#=`6.531` mu Omega cm/square2) 결론 고찰이번 실험에서는 기상 증착 공정의 기본 원리를 이해하고 CVD원리를 이용하여 박막

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.04

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MEMBRANE(멤브레인)에 대하여..

● 고분자 재료 : cellulose triacetate, polyamides polysulfone2. 멤브레인의 응용분야 -수 처리 분야① 초순수 분야 : 물의 초순수화 공정 ... 은 수율로 회수하여 재이용함으로써 폐수 오염원의 부하를 크게 줄여 주는 장점이 있다 UF막 과 RO막이 쓰인다.2. 멤브레인의 응용분야 -수 처리 분야⑤ 해수 담수화 분야 ◉ 주요공정 ... 취수시설 → 전 처리시설 → 역삼투 시설 → 약품투입시설 및 후처리 시설 → CIP(Cleaning in place) 시설2. 멤브레인의 응용분야 -수 처리 분야해수 담수화 공정

리포트 | 29페이지 | 5,000원 | 등록일 2008.11.18

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Eco engineer 코오롱기술연구소

로 활용 - 태양광 60 도 : 발전량 93% - 건물 부지를 최대한 활용디자인 Hannam University 전체 설비 용량 : 2.2kWp 급 투과형 박막 태양광 시스템 적용 ... University 빗물처리의 대표적인 표준처리공정 우수 이용 빗물이용시스템의 종류디자인 Hannam University 집수 장소별 빗물의 수질특성 우수 이용디자인 Hannam

리포트 | 48페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.04.13

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이산화탄소 저감기술

되기도 한다.이들은 박막형 태양전지로 구분되고 있다. 실리콘이 반도체산업에서 가장 많이 사용되는 이유는 지구상에서 두번째로 보편화된 화학물질이고, 석영모래로부터 얻을 수 있기 때문이 ... 을 중심으로 경제성 향상을 위하여 국가적인 차원에서 반응조건의 완화와 품질개선을 위한 연구가 중점적으로 수행되고 있다.대표적인 석탄액화공정으로는 미국의 경우 촉매이단공정인 CTSL ... (Catalytic Two Stage Process)과 일본의 NEDOL 공정으로서 각기 DOE 및 New-Sunshine계획의 지원하에 Pilot 규모로 개발되어 연구되고 있

리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.04.30 | 수정일 2020.06.19

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[반도체 관련 장비] 스퍼터 원리와 DC,RF 스퍼터

하게되고 결국에는 얇은 박막을 형성하게 되는데 위와 같은 공정을 그림 4에 나타내었다.표 1. 스퍼터링의 장단점{장점단점a. 넓은 면적의 target을 사용할 경우 wafer 전 ... 으로부터 원자들이 떨어져나오는 메커니즘으로 설명되어질 수 있다. 이 증착 방법은 Al, Al 합금, Pt, Au, Ti:W, 그리고 W과 같은 금속 박막의 증착에 많이 사용되며 이 외 ... 에도 SiO2와 같은 비전도성 물질의 증착에도 사용할 수 있다. 이러한 스퍼터링의 장단점을 표 1에 나타내었다.일반적으로 스퍼터 공정은 먼저 이온들이 생성되어 타겟쪽으로 이동을 하

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.06

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플라즈마의 성질과 응용

화학 반응, 이온이나 전자가 반응에 참가하는 Charged Particle Assisted Chemical Reaction을 통해 보통의 방법으로는 얻을 수 없는 반응이나 공정방법 ... 이 주로 쓰여져 왔으나 80년대초에 소련에서 메탄가스 플라즈마로부터 저압에서 다이아몬드를 박막 형태로 얻어질 수 있다는게 밝혀져 이를 이용한 반도체 소자, 공구코팅, 광학부품 코팅 ... 를 구현하기가 쉬우며, 특히 제일 큰 장점으로 제조공정의 특성상 대화면으로 제작이 용이하며, 2000년대 후반에는 현재의 반도체 시장의 규모로 커지리라 예상되는 평판 표시기 시장

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.10

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나노전자소자 및 이 기술과 관련된 특허분석

- 나노 프로세서는 이들 영역에서 개별적으로 연구, 개발되어 온 요소기술을 통합하여 새로운 기능을 반영시키기 위한 프로세서로 정의할 수 있음□ 탑다운 프로세스는 주로 반도체 제조공정 ... 트랜지스터 개발이 불가능- 이를 극복하기 위해서는 현존하는 기술과는 전혀 다른 현상 및 원리에 기초한 새로운 공정에 의한 소자 개발이 필수적이며, 이것이 나노기술에 근간한 나노 전자 ... 의 분류?구? 분세 부 기 술무기나노양자소자, 반도체레이져, 단일전자소자, 자기기록미디어탄소/ 유기나노탄소나노튜브, 응용소자, 다이야몬드박막응용소자, 유기EL⑷ 단일전자소자?□ 단일

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.04.05

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NANO코팅

,이 PVD법에 해당되는 이유는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때 기체상태가 고체상태로 바뀌는 과정이 물리적인 변화이기 때문이다.[8] PVD법은 고품질의 박막이나 나노 구조 ... 의 성질을 변화 시키지 않고 solid Deposition를 이루는 합성공정이다.[9] MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE ... 과 같은 고용점 세라믹 소재의 박막을 형성하는데 주로 이용되는 방법이다.[10] 나노구조제어가 용이하고 독특한 주상조직막 형성이 가능하며 고 융점물질이 가능하며 모재와의 결합력

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.11.22

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편광, 위상차 필름 제조방법 및 이에 관한 특성 연구

고분자 박막을 수백층 쌓아 만든 제품(DBEF)등이 있음.최근 STN-LCD에서 소비전력을 줄이고 디스플레이의 외관을 좀 더 깨끗하게 보이도록 하기 위해서 기존 안료를 사용 ... 증가하여 용도가 확대될 것이다.10. 위상차 필름 제조 공정그림 10-1.위상차 필름제조공정11. 연구개발 방향- 기능의 복합화그림11-1. 성능발전방향▶ 박형 편광판 – 무게 ... Inversion이 향상된 편광판 ▶ 공정 단순화 - Printable 편광판 (코팅형 편광판) ▶ 기타 특수 편광판LCD에 사용되는 편광필름의 기본적인 기능으로서, 높은 편광기능을 발휘함과 동시

리포트 | 30페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.02.08

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[공학]고분자 OLED 재료의 기술현황과 연구방향

은 연구가 이루어졌기 때문에 응용이 쉽고, 기술적으로 큰 어려움 없이 개발이 가능하다는 장점을 지니고 있다, 반면 열증착 또는 기상증착 진공장비를 이용한 건식 공정을 거쳐야 하므로 큰 ... 화면의 구현이 어렵고 생산성이 낮다는 단점을 지니고 있다.2.2 고분자 재료의 기술 현황과 장단점1989년에 PPV 박막을 사용한 고분자 OLED가 처음 나타났으며 현재까지 공역 ... 계 고분자 박막을 이용한 사용한 EL 소자들이 광범위하게 연구돼 오고 있다. 고분자 OLED소자의 구조에서 초기에는 주로 투명 전극이 코팅된 기판 위에 발광층만을 코팅하여 소자

리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.02.05

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신재생에너지, 태양광에너지란?

·1 세대 태양전지인 결정질이 여전히 시장의 80% 이상을 차지하고 있는 가운데 , 대면적화를 통해 기존의 원가 우위를 더욱 공고히 한 2 세대 태양전지인 박막 태양전지가 상업 ... 개발되어 10~11% 의 효율로 상용화를 눈앞에 두고 있다 . · 염료감응형 태양전지의 경우 , 단순한 공정과 저렴한 비용에도 불구하고 아직 효율이나 실제 발전단 가가 기존의 1

리포트 | 53페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.07.18

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2차전지 관련 영어논문선정 후 해석/ 분석 (2차전지 양극 LiFePO4 관련 논문)

bon 코팅 공정 동안에 iron의 환원을 유발하는 iron disorder와 불순물을 찾기 위하여 synchrotron radiation experiments는 사용되어졌 ... 는 cFePO4의 제조는 기존 실험들과 동일한 방법으로 제조함1) 다른점추가적인 공정을 취함 (LiFePO4/C 제조)연속적이고 분산된 나노 carbon 그물망과 다공성구조를 형성2 ... . 결정성 분말, 박막시료, Bulk 시료의 정성분석 및 결정구조 분석 2. 결정성 화합물의 결정크기, 결합형태, 배향성 분석3. 결정성 화합물의 collimator에 의한 국부회절

리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.03.03 | 수정일 2019.03.26

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[반도체(DRAM)]High-Permittivity Materials for DRAMs

전물 물질로 대체되고 있다.?Pb1-xLaxZr1-yTiyO3 (PLZT)고유전율 박막을 축전기의 유전체로 사용하여 공정의 난이도, 구조의 복잡성 소자의 신뢰도 감소 등의 단점 ... 이 일반적인 다른 증착법에 비해 보다 우수하기 때문에 셀면적이 좁아지는 차세대 반도체 소자의 제조공정에 사용할 수 있는 가장 적절한 박막 형성 방법이다.?(Pb,Sr)TiO3 ... (capacitor)와 초소형 전자제품 등을 만드는 기술을 응용하는데 있어서 PST 박막은 매우 유용하다. 한국과학기술원(KAIST) 화학공학과 초미세 화학공정 연구센터 소장인

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.10

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Crystal Growth

하게 되면 그만큼 INGOT의 LOSS(손실)가 줄어들며, 따라서 생산수율이 향상되기 때문에 중용 작업공정이라 할 수 있다. 만일 TAIL을 잘못 실시하면 갑자기 MELT ... 적으로기간을 증가시킬 수 있다. 또한 스프레이 식각의 발전도 한 몫을 하고 있다. 이러한 발전들은 습식 식각이 근접한 미래에도 반도체 제조공정에서 지속적으로 사용될 수 있음을 보여준다 ... 에 응용을 보면 습식 식각은 실리콘 기판이나 박막의 위에 패턴을 구현하기 위해 사용되어 왔다. 마스크는 전형적으로 에천트로부터 원하는 표면을 보호하기 위해 사용되어지고, 이 마스크

리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.11.17

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PVD의 정의 및 공정

(Chemical Vapor Deposition)이다. 이 둘의 차이는 증착시키려는 물질이 기판으로 기체상태에서 고체상태로 변태될 때 어떤 과정을 거치느냐이다. 공정상의 뚜렷 ... 진공 환경에서 실험하는 것이다.PVD 방식으로 제조할수 있는 박막재료는, 금속, 합금을 비롯하여 화합물, 비금속 산화물등이 있다.2. PVD의 종류① 이온을 이용하지 않는 진공 ... ) 처리공정고온으로 유지되어 있는 용융염욕중에 처리강재를 침지하여 일정시간 동안 유지한 후 염욕으로부터 꺼내어 냉각시켜서 처리품에 부착되어 있는 염욕제를 제거시키는 것이 기본적인 공정

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.18 | 수정일 2018.06.02

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반도체 나노입자의 합성

실험 , 자유아케데미, 109p~115p AOT 마이크로에멀젼을 이용한 CdS 나노입자 및 박막 제조에 관한 연구 공현숙, 2003 Microwave 공정에 의한 Ti(CN)-WC ... 증착법을 이용한 CdS 박막의 제조, 윤석환, 2005감사합니다.나노 입자로 제조하고 싶은 물질을 적절히 제어된 불활성 기체 조건 하에서 증발시킨 후 응축을 통해 입자를 얻는 방법

리포트 | 54페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.06.19

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전기변색소자(electrochromic) 물질 합성 및 색 변화 관찰

) 위에 산화텅스텐(WO3) 박막을 합성하고, 순환전압전류법(Cyclic Voltammetry)을 통하여 합성된 박막의 전기적 특성을 파악하여 전기변색소자 장치 ... 고 1963의 혼합용액에 담그는 것과 같은 적당한 공정에 의해 화학적으로 부식시킨다. 그 다음 염화주석 용액에 담근 후 염화납 용액에 담그어 감도를 높이고 활성을 갖게 한다. 그리고 도금 ... 하므로 폐수처리가 어렵다- 쉽게 도금되는 금속의 주기율표(2) 전기증착(Elctrodeposition)전기증착도장은 도금(Electroplating) 공정과유사한데, 도장을 위해

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.27

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[반도체 공정, 반도체 기본, 반도체, CVD, P] 반도체 예비레포트

반응을 통해 가스상태에서 고체상태인 박막으로 증착된다.반도체 공정에서 CVD 방법에 의해 실리콘 웨이퍼 위에 증착되는 박막에는 폴리실리콘, 실리콘산화물, 실리콘질화물등이 있다.2.1 ... 1. 반도체 공정에서의 산화(Oxidation)에 대해서 설명하시오.(산화모델을 들어 설명)1.1 산화공정실리콘 산화막은 반도체 표면을 보호하고 유전체로 사용되며, 사진 식각공정 ... 의 형성공정① 200℃이하 공정?양극산화 : 액체 전해액을 이용하여 실리콘 시료가 전해액속의 양극에서 산화됨. 전해액 : 에틸렌글리콜 + KNO3?진공증착 : 증착은 산소 부분압 속

리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.10.04

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