"박막공정"의 검색결과 입니다.

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"박막공정" 검색결과 2,461-2,480 / 3,367건

각종 진공 펌프 원리 사용방법 sputter

분자의 이온화를 효과적으로 하기 위한 뜨거운 필라멘트 소스가 필요하지 않으므로, 이 공정을 냉음극 방전이라고 한다.비교적 무거운 입자인 양이온은 (-)전가를 띤 티타늄 음극 안 ... 한다.④. 냉각수를 흐르게 한다.⑤. 전원을 인가한다.⑥. shutter를 열어 박막을 제조한다.- 종류1) 직류 다이오드 스파터링(DC diode sputtering)진공으로 된 유리관

리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.03

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태양전지 (solar cell)

의 요구. 단결정은 순도가 높고 결정결함 밀도가 낮은 고품위의 재료로서 당연히 높은 효율을 달성할 수 있으나 고가이고, 다결정 재료는 상대적으로 저급한 재료를 저렴한 공정으로 처리 ... 된 바 있다.② 비정질 실리콘 태양전지(Amorphous Silicon Cells)비정질 실리콘 태양전지(a-Si) 는 가장 상업적으로 성공한 최초의 박막 형태의 태양전지이다. 그러나 ... % 이상의 고효율을 기록하고 있다.③ CuInSe2태양전지 (CIS Cells)다결정 박막 CuInSe2 전지는 p-n이종접합 구조를 기본으로 하며 약 1eV의 밴드갭을 가지고 있

리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.12

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[고체물리]차세대 메모리

수 있다.원리MRAM 구현의 핵심 기술은 우수하고 안정적인 자기저항 특성을 나타내는 자기박막의 제조기술과 기존의 반도체 회로와 공정을 이용한 집적 공정기술이라 할 수 있다. 터널 ... , 플라스틱 또는 종이에 도포해서 만든다. 기록헤드와 재생헤드는 일반적으로 고리모양을 한 자기철심에 머리카락 굵기의 가는 전선을 코일로 감아 만든 전자석을 사용한다. 최근에는 박막 형태 ... 로 전자석을 만든 박막헤드나 자기저항 헤드가 기록헤드와 재생헤드로 쓰인다.2-1-1. 자기저항 (magnetoresistance)자장을 가함으로써 전기저항이 변화하는 현상을 말

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.06.12

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지구상 가장 가벼운 고체 Aerogel (ppt)

성과 없이 있다가 1950년대에 Kisler가 다시 연구를 재개 하면서 개발한 제조법을 바탕으로 실리카 에어로젤의 생산을 자문하였다. 그러나 고가의 제조공정으로 인해 생산공정은 운전 ... (tetraethoxysilane)를 전구체로 사용하는 솔-젤 공정과 위험한 알코올 초임계 건조 대신 이산화탄소를 매개물로 사용하는 공정을 개발하여 에어로젤 제조에 큰 발전이 있 ... 여도 액화가 안 되는 비응축성 기체.초임계 건조 과정고온 초임계 건조 (methanol)저온 초임계 건조 (CO2)*고온공정에 비하여 안전하고 에너지 소모가 적다 *용매치환의 번거러움

리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.23

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[비휘발성 메모리] 비휘발성 메모리중 FRAM과 MRAM의 비교

유전체 박막이 가져야 하는 특성: 큰 잔류 분극, 작은 누설전류, 구동전압을 낮추기 위한 낮은 항전계, 600 이하의 공정온도 현재까지는 PZT 박막이 가장 적합함.(2) 구조 ... - FRAM에서는 별도의 면적이 필요한 이유는 공정 기술과 관계되는데 유전체 박막을 Si 기판위에 쉽게 캐패시터를 형성할 수 없기 때문임.- 적절한 전극물질과 보호막을 개발하여 Si 위 ... - 기존의 1T-1C형 구조에서 유전체박막을 대체한 분극반전형 소자가 주류- Capacitor에 (+), (-) 두 방향의 전계인가시 다르게 나타나는 잔류분극을 각각 1, 0으로 코드

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.09.05

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photo resist

했다. 반도체 산업은 1950년대에 웨이퍼공정에 이 기술을 적용시켰다. 반도체에 쓰이는 PR은 Eastman Kodak 회사에서 최초로 개발되었다.50년대 말, KPR과 KMER ... 등의 음성 PR이 만들어 졌다. 비슷한 시기에 Shipley 회사에서는 양성 PR을 만들었다. 그 뒤로 많은 회사들이 더 미세한 패턴을 균일성 있고 공정에 너무 민감하지 않게 형성 ... 할 수 있는 PR을 개발하면서 시장에 뛰어들었다.PR은 패턴 크기나 공정을 생각지 않고는 선택할 수 없다. 한 번 공정이 설정되었으면 PR을 바꿀 때는 충분한 테스트가 선행

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.07

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리소그라피(lithography)에 대한 조사

비슷한 뜻으로 사용되고 있다. 여기서는 반도체위에 극미세 패턴을 인쇄하는 공정을 의미한다. Lithography공정은 반도체 전체 공정의 30%이상을 차지하는 단위 공정 ... 으로, 웨이퍼위에 후속 애칭 공정의 방어막 역할을 하는 유기물의 특정 패턴을 적절한 파장의 빛과 마스크를 이용하여 정확한 위치에 정확한 크기의 패턴을 전사하는 공정이라고 할 수 있다. 즉 ... 하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자빔을 사용해 더 미세한 패턴을 만든다. Lithography공정은 반도체 공정의 꽃이라 불릴정도

리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.04.03 | 수정일 2017.03.21

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[전기회로이론]차세대 조명기구 LED(발광다이오드)에 대하여

와 특징5. 제조공정6. LED(luminescent diode) 국내 기술 현황7. LED의 새로운 용도와 발전방향Ⅲ. 결론Ⅳ. 참고문헌Ⅰ. 서론우리가 생각하는 인류의 발명품 ... ,AlAs 재료에서 먼저 이뤄졌다. 최근에는 InGAlP와 같은 4원계 조성의 화합물 반도체 박막 성장기술 발달에 따라 백열전구보다 높은 조명효율을 갖게 되었다.녹색 LED ... 든지 간접천이 형 반도체이기 때문에 발광효율을 비약적으로 향상시키기 어려웠다. 또한 순 녹색의 발광도 얻어지지 않았으나 추후 InGaN의 박막 성장이 성공하게 됨에 따라 고휘도 녹색

리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.18

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판매자 표지

[유기화학]유기 발광 소재

전력, 초 박막화 등의 장점으로 인해 폭넓은 활용성을 지니고 있다고 할 수 있다.휴대폰과 캠코더, 게임기 등의 시장이 확대되면서 여기저기서 심심찮게 듣는 디스플레이 관련기사 중 ... anthracen전자수송, 전자주입 등의 기능을 나누어 적층형으로 디바이스를 구성해야 하는 저분자 OLED 소자와는 달리, 단일 박막층으로 디바이스를 구현해도 다른 발광 소자에 견줄 만한 발광 ... 분자)박막에 양극과 음극을 통하여 주입된 전자와 정공이 재결합(Recombination)하여 여기자(Excition)를 형성하고, 형성된 여기자로부터의 에너지에 의해 특정한 파장

리포트 | 9페이지 | 3,500원 | 등록일 2006.05.19 | 수정일 2020.07.26

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열 증착

와 Diffusion Pump① Rotary Pump② Diffusion Pump1. Thermal Evaporator반도체 공정(1) 산화공정(2) Diffusion공정(3 ... ) 이온주입공정(4) 화학기상증착공정(5)사진식각공정(6) 금속공정반도체 공정이라는 것은 반도체를 이용한 소자를 만들기 위한 과정이다.이러한 일련의 공정을 통해서 웨이퍼에 불순물을 주입 ... 한 금속단자를 반도체 웨이퍼에 만들어주는 과정이 금속공정이다. 금속공정을 통해 단자를 형성하기 위한 방법에는 화학기상증착 또는 열증착 및 스퍼터링 등이 있다.▲Thermal

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.05.16

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photolithography

1. Photolithography란?ㆍ정의Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화 ... 하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정이 ... 다. Photolithography 공정은 일반사진의 film에 해당하는 photo resist를 도포하는 PR 도포공정, mask를 이용하여 선택적으로 빛을 조사하는 노광공정, 다음에 현상

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.13

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[반도체공학]박막증착

박막을 형성하는 공정, 리소그라피를 통해 패턴을 박막 위로 전사하는 공정, 박막 위에 전사된 미소기계를 가공하는 공정, 그리고 미소기계 소재의 물성을 조절하기 위한 전·후 처리 ... 공정 등 크게 4가지로 구성되며, 각 기본 공정마다 다양한 종류의 세부공정이 존재한다.{기본공정세부공정종류박막형성(deposition)화학기상증착(CVD)열증착(evaporation ... Surface micromachining1.개요표면(박막)미세가공법(surface micromachining)은 다층박막의 증착과 패턴닝(Pattening) 및 선택적인 박막

리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.12.23 | 수정일 2025.01.21

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에너지 환경 문제와 녹색성장 수단 Green IT

(현황) 생산성 위주의 기존 반도체 공정기술에서 에너지 절감과 친환경기술을 고려한 “그린반도체” 기술로 그 패러다임이 변화- 미세 공정기술과 고효율기술이 융합된 시스템반도체 등 ... LED BLUPDP 저전압 구동기술초대형 Solar Window 패널⑤ 친환경 조명(LED 등) 핵심기술 개발LED 조명용 고효율 컨버터LED용 광원모듈 및 박막형 방열소재환경감응

리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.09.10

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경영학원론 - 국내 & 국외 대기업 소개및 특징

반도체와 TFT-LCD(초박막액정표시장치) 등을 비롯하여 System LSI 반도체와 중소형 LCD, 광통신 등 고부가가치 성장사업 육성에 주력하고 있음.◇ 주가 ◇날짜시가고가 ... Stock 산업의 기초원료로 널리 쓰이는 가성소다와 PVC 기초원료인 염소를 제조하는 공정)부터 폴리염화비닐수지, 그리고 계열사 한화종합화학의 PVC가공사업에 이르기까지 국내는 물론 세계 ... 와 더불어 신규사업 진출에 강력한 투자 재원 원천을 확보하게 된다”고 말했다. 전기분해 공정에 쓰이는 전기 비용이 전체 제조원가의 40%를 차지할 정도로 높기 때문이다.신성장 전략

리포트 | 25페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.12.15

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[전자재료실험]열증발증착(Thermal evaporator)에 대하여

{진공증착의 기본 개념Langmuir-Knudsen에 의하면, 증착률은 증기압에 비례하므로 실제 VLSI 공정에 사용하기 위해서는 충분히 큰 증기압을 갖는 상태에서 증착 ... 으로써 증착될 분자와 잔류 기체 분자 사이의 충돌이 일어나지 않게 하고 있다. VLSI 공정에서는 {5BULLET10 ^{ -7}Torr정도에서 많이 상용한다.진공 증착이 Al ... 이나 다른 금속 물질들의 박막 형성에 많이 사용되는 이유는 다음과 같은 장점들이 있기 때문이다.- 증착률을 크게 할 수 있다.- 0.1eV 정도의 낮은 에너지로 기판에 손상을 주지 않

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.10.22

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PDP(Plasma Display Panel)란 무엇인가

로 대부분 구성되어 있지만 각 재료는 공정온도를 통과하게 되면 유기물은 거의 대부분 제거되고 최종적으로 무기물 성분만 남게된다. 따라서 실질적으로 PDP의 성능에 영향을 주는 것 ... 에 화소를 형성하는 paste재료를 도포하고 양 기판을 소성함으로써 제작된다. 기판은 42인치 기중에 중량은 약 5kg이다.PDP 제조공정에 있어서는 화소 형성 재료로 되는 frit ... 이나 paste재료가 550-600℃정도의 고온에서 소성/형성되어지기 때문에 기판 유리에 대해서도 온도 범위 내에서 반복 열처리가 행해진다. 이러한 고온 공정에서 기판 유리의 치수

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.11.02

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[전지]결정질 실리콘 태양전지

결정 실리콘 태양전지 - 순도가 높은 고품질 재료로 효율이 높다 (24%), 반면 고가임. 다결정 실리콘 태양전지 - 비교적 저급한 재료,저렴한 공정,저효율 (18%), 저가 ... . 박막형 실리콘 태양전지 - 다결정 실리콘을 박막으로 얇게 입힘, 저효율(16%), 굽힘성결정질 실리콘 태양전지의 구조CellArrayModule구조동작원리 1전류가 흐르려면, ... ·LG실트론, 현대중공업 등 상용화 목표로 개발 박차 태양전지 기술은 반도체 기술과 디스플레이 박막 코팅 기술과 흡사 하기 때문에 반도체 기술 강국인 우리 나라 도약 예상응용 분야

리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.17

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mbe(molecular beam epitaxy) 원리와 특징

로 기판에 박막 물질을 가함.MBE의 정의(1)10-10 Torr 이하 초고진공 상태의 적정온도에서 결정 작용으로 생긴 표면과 박막을 구성하는 요소의 분자 빔 사이의 작용에 의해 박막 ... 하다. 유해가스 사용이 적으므로 비교적 안전하다. 매우 얇은 박막 형성이 가능하다. 조성전환이 쉬워 조성이 다른 다층막의 제작이 용이하다.MBE의 특징(2)단 점 성장속도가 다른 ... 한 분석 방법을 보유. - 공정 중 즉시적인 관찰이 가능하여 다양한 정보를 얻을 수 있음. 많은 분야 연구에 이용 가능함. - 반도체, 금속, 절연체, 초전도체, 자성체, 인공재료

리포트 | 22페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.06.11

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[공학]Sputtering을 이용한 시간에 따른 ITO 증착의 특성

to target atoms4) Sputtering3. Sputtering의 특징 비교1) 비교적 저온에서 고융점 물질을 박막화할 수 있다.2) 비교적 넓은 면적의 균일한 막 ... 에 적합(Load Lock System).5) 금속 target에서 화합물 박막을 얻을 수 있다.6) 고주파 Sputtering을 사용하면 절연재료도 박막화 가능.4 ... 율이 높은 절연 물질의 표면에 형성된 광투과율이 높은 박막 전극. 금, 플라티늄 등이 금속의 박막에, 산화 제이주석, 삼산화인듐, 이산화티탄 등이 반도체의 박막에 쓰인다. 투과도 및

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.18

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[공학]공작기계의 기술 동향 및 차세대 공작기계의 기술조사

의 응용이 제한되고 있는 철강제품의 가공공구, 내 마모 코팅재료이다.? 철강 제품의 보호코팅 이외에도 반도체 및 광학, 유전특성이 우수하여 다이아몬드와 함께 차세대 박막재료로 각광을 받 ... 는다.국내의 경우 다이아몬드 박막 및 비정질 다이아몬드 박막에 대한 연구는 활발히 진행되어 왔지만, BN 박막에 대한 연구개발은 아직 많지 않지만 cBN 박막기술은 현재 실용화단계 ... 에 있는 다이아몬드 박막기술에 비하여 5~10년 정도 뒤떨어져있는 분야이지만, 다이아몬드 박막의 개발경험을 활용하고 체계적인 연구개발이 진행된다면 향후 5~10년 이내에 실용화

리포트 | 24페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.04.29

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