"반도체제작공정"의 검색결과 입니다.

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"반도체제작공정" 검색결과 2,221-2,240 / 3,665건

유비쿼터스와 RFID(Introduction to Ubiquitous Computing & RFID)

는 견고한 산업용 tag 부터 신축성이 있는 스마트 라벨까지 다양함 필립스 반도체와 TI( 텍사스 인스트루먼트 ) 가 대부분의 13.56MHz 대 RFID 시장을 점유 필립스 반도체 ... 주요특징 및 적용 분야 R/W 유무에 따른 분류 Read Only 제조 시 제조사에서 프로그래밍 된 tag 정보내용은 변경불가 가격이 저렴하고 write 과정이 필요 없는 공정 ... Introduction to RFID 인정번호 Class 칩 명칭 외관 및 주요 특징 01-001 Class 1 Mu chip 히타치에서 제작 세계 최소형으로 Read Only 칩 128bit

리포트 | 27페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.04.03

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Ellipsometer

면 표면구조나 결정구조 등으로 그 응용 범위가 제한적이나 그 결과에 대한 신뢰도는 높다. 이에 반해 ellipsometry는 md용할 수 있는 분dirk 매우 넓은데 반도체 제조에 있어 실리콘 공정에서만 보더라도 표와 같이 다양하게 이용할 수 있다. ... 는 자로 구분이 가는 것이 아니라 십수년에 걸쳐 바둑처럼 그 숙달된 정도의 차가 변하게 되는 것이다.◆ Ellipsometer의 용도실리콘 관련 공정Ellipsometry 적용분야 ... 결정 성장solidificationwafer 제작표면 상태oxidation산화막 두께, 굴절률, 성장과정 관찰deposition박막두께, 굴절률, 성장과정 관찰cleaning표면

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.11.17

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MEMS 란

기술 시장 의 전망02. MEMS History현재MEMS 의 역사[MEMS 의 다양한 공정]면미세가공, 기판미세가공.LIGA 등 여러 제작 기술 개발MEMS 의 다양한 공정 ... 제작 ]개 요장 점LIGA 공정은 거의 평면적인 구조물을 만들 수밖에 없다는 점과는 달리, 매우 큰 종횡비(aspect ratio)를 갖는 구조물을 제작 가능공정 방법X-ray ... AMEMS 제조 공정 기술[ 입체적 구조물 제작 ]공정 과정04. MEMS Technology2007.05.31. Nano material / Dankook University01

리포트 | 38페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.11.13

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이온빔 리소그라피

까지는 반도체산업에서 광학 리소그라피 기술이 압도적으로 많이 사용되고 있으나 광학 리소그라피는 앞으로 두가지 큰 약점에 의하여 한계에 곧 부딪칠 것으로 생각되는데, 그것은 반도체 집적도 ... 0.13um), 또 하나는 광학리소그라피는 종횡비(aspect ratio)가 1:1 정도여서 깊이가 요구되는 초소형정밀기기 제작에는 부적합하다는 측면이다. 광학리소그라피 방법 ... 가 되는 것은 마스크이다. 현재의 수준으로는 그림에서와 같이 선폭 0.2um에 도달하려면 contrast가 불과 0.5 밖에는 되지 않으며, 이 정도는 반도체 리소그라피에서 요구

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.12

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[인간과건강]에너지 절약 레포트

는 이 시스템은, 제품생산공정에서 발생되는 저온 페열의 자기증발증기나 간접 열교환에 의한 열 매체 증발증기를 모터 또는 터빈구동방식의 압축기로 흡입, 압축시켜 생산공정의 가열 열원 ... 으로 재 사용하는 기술이다. 이 시스템은 원래 증발공정의 배출증기를 재압축하는 데서 시작된 것으로 기계적 압축을 위한 전기에너지(전력)와 회수증기(유류)와의 가격대비로 그 경제 ... 성이 결정되고, 식품 및 석유화학산업의 증발 및 증류공정 등에서 적용효과가 크다고 하나 응용방식의 다양성과 적용공정에 따른 시스템 제어기술의 난이성으로 일반화된 시스템 개발에는 어려움

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.12.11

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열증착

와 CVD의 사용분야PVD와 CVD 모두 반도체 공정이나 기타 산업에 많이 이용되는데 대개 PVD는 고품질의 박막이나 나노구조를 만들 때 쓰이지만 진공이 필요하므로 장비가 고가이며 증착 ... 1.실험목적Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는다.2.실험이론박막이란, 두께가 단원자층에 상당하는 0.1nm ... 전기소자, 집적회로, 광학부품 등 여러 응용분야에 이용되고 있다.산업분야에 사용되는 박막기술은 수평 및 수직자기 기록매체, 광자기 기록매체, 박막헤드와 같은 정보기억용 매체 제작

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.02.08

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포토리소그래피(Photolithography)

감도의 화학증폭성 포토레지스트 재료를 이용한 원자외선 미세가공기술이 256Mb, 1Gb DRAM 반도체 제작에 실용화되고 있다.(라) 화학증폭성 포토레지스트 재료포토레지스트 감광 ... 포토리소그래피(Photolithography)- 사진공정 (Photolithography) -가. 개 요사진공정은 마스크 상에 설계된 패턴을 공정제어 규격 하에 웨이퍼 상에 구현 ... 공정시 화학반응에 의해 패턴형성을 한다. 형성된 감광막 패턴은 후속공정인 식각 또는 이온주입시 barrier 역할을 하게 되어 최종적으로 chemical이나 식각용 O2 플라즈마

리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.11.30

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바이오 모방공학

enhanced CVD) 방법도 있다.이들에는 모두 금속촉매가 필요하다. 이때의 플라스마 전원은 dc로부터 마이크로 웨이브 전원까지 다양하게 이용된다. 반도체의 공정처럼 나노 튜브 ... 의 액츄에이터 및 센서 등의 제작이 가능해지고 있으며, 특히 최근에는 전기/기계 에너지에서 기계/전기 에너지로의 변환을 이용하는 단방향의 압전 세라믹스와 함께 두 가지 변환을 동시 ... ) 액츄에이터에 대한 연구도 진행되고 있다.적층형 액츄에이터 제작법에는 cut-bond법, tape-casting법 등 두 종류가 있으나, 주로 tape-casting법을 사용

리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.03.22

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반도체와 삼성

- 이 밖에 전자제품을 만드는 업체가 반도체 메이커에 의뢰해서 제작하는 주문형 반도체라는 것도 있다.-이처럼 다양한 반도체 시장에 진입하려는 기업은 처음 선택이 사업의 성패를 판가름 ... 한 공정을 거쳐야 비로소 한 개의 반도체가 탄생. 반도체 제조공정은 사진기술을 연상하면 이해가 쉬운데, 반도체 웨이퍼는 사진의 인화지, 마스크는 필름 역할에 해당한다고 볼 수 있음. ... 의 품질을 결정하는 불량 여부 판정 매우 중요함. 제조 회사에서 담당< 웨이퍼와 회로 제조 공정 - Video Clip >>>4.세계 반도체 산업 트렌드우리나라의 반도체 산업은 그

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.05.05

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마이크로열유체-MEMS

,센서와 액추에이터를 실리콘 기판 위에 집적화 시킨 것으로 소형이면 서도 복잡하여 고도의 동작을 하는 시스템 마이크로시스템이나 마이크로머신 등으로 불림 MEMS는 반도체 집접회로 ... 의 구조 기술을 기본으로 함 장점: 소형화, 집적화, 저전력, 저가격2. MEMS의 기술개요 마이크로(1㎛=10-6m) 단위의 작은 부품과 시스 템으로 설계,제작 및 응용 mm(1 ... 는 기계부품에 적당치 않음. 금속계 재료: W,Mo,Ni,Cu 고분자 재료: 폴리이미드(Polyminde)5. MEMS 설계 특징 구조에 관한 장치 설계(마스크 레이아웃) 제작에 관련

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.13

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Soft lithography

스케일 패턴을 쉽게 제작할 수 있는 반면에 soft lithography는 주로 soft한 mold를 이용하여 패턴을 제작하는 공정을 말한다. 지금까지 주로 PDMS가 mold ... 아니라 그물 구조를 형성하고 있는 미세 형상의 제작도 가능하며 무엇보다도 굴곡진 표면에의 패터닝이 가능하고 기판과의 접촉이 나중에 이루어지는 방법이기 때문에 3차원적인 LBL 공정 ... 로 많이 사용되어 져 왔으나 최근에는 새로운 기능을 가지는 몰드재료에 대한 연구가 많이 진행되고 있다. Nano imprint에 비해 나노 스케일의 패턴제작에는 단점을 가지고 있

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.16

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MRAM 박막공학

). RAM의 향후 전망◎ 참고문헌1. 현재 메모리 사용 현황 및 문제점? 1947년도 Ge을 기초로 한 트랜지스터가 개발된 이래 현재까지 반도체는 우리 생활에 없어서는 안 되는 존재 ... 로 자리매김 하고 있다. 지금까지는 반도체의 크기를 작게 하는 고전적인 방법으로 칩 내의 집적도를 높이려는 노력을 하였고, 이로 인하여 현재의 발전된 반도체 사업에 이르게 되었다. 하지 ... 다. 이 MRAM이 성공하면 오늘날 반도체 SRAM의 빠른 속도와 고밀도의 DRAM의 장점을 겸비한 비휘발성 메모리가 실현될 것이다. 반도체 메모리 소자에 비해 전력소모가 현저히 적

리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.12.08

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광감성 포토레지스트를 이용한 패턴형성

)는 설계된 회로를 웨이퍼에 전사시킬 때 빛의 조사 여부에 따라 달리 감응함으로써 미세 회로 패턴을 형성할 수 있도록 하는 노광 공정용 감광재료를 말한다. 제작된 장비와 Spin c ... 에서 광반응으로 카복실 산으로 변하게 되어 용해 촉진제로 작용하여, 모든 반도체 제조공정에서 사용되는 표준적 알칼리 현상액인 2.38% TMAH(tetramethylammonium ... 이란..- Micro 및 Nano scale의 미세패턴이나 현상을 그대로 복제하거나 각인(Imprint) 전사하는 기술- 고온 또는 가열공정이 필요 없는, 상온 저압 가공 기술

리포트 | 16페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.11.30

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PEMPC DSSC 예비보고서

1. 실험목적신재생에너지인 고분자전해질 연료전지와 염료감응 태양전지의 제작 및 성능 측정을 통해 에너지 변환 기술에 대해 이해한다.2. 기본이론조사ⅰ) 연료전지 및 PEMFC ... 로부터 활성 슬러지와 같은 혼합 균을 이용하여 전기 생산이 가능함이 밝혀졌음. 이후 하,폐수내에 존재하는 유기 오염물질을 처리함과 동시에 에너지를 생산할 수 있는 공정으로 인정받 ... 가 다양하기 때문에 미래에 충분히 경제성을 가진 실용화 기술로 발전될 가능성이 충분하다.1. 실험목적신재생에너지인 고분자전해질 연료전지와 염료감응 태양전지의 제작 및 성능 측정

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.11.26

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박막재료의 표면 처리 및 PR제거

1. 실험제목박막재료의 표면 처리 및 PR제거2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정은 박막재료의 (1) 증착공정, (2) 마스크의 패턴형성 ... 이 필요해짐에 따라 1970년대 중반부터 각종 전자선 묘화장치가 개발되었다. 이 장치는 이미 일부 반도체의 제조에 실용화되고 있으며, 버블메모리 제작 등에도 이용된다. 전자선 묘화 ... 전자임이 알려져 있다.-반도체 제조 공정의 종류와 간단한 정의-1) 세정과정- 반도체 칩형성 과정중 실리콘 웨이퍼를 SC1,이 등의 세정제를 사용하여 웨이퍼상의 자연산화막, 이온

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.20

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RFID 사업 분석

부분 기업은 태그 제작 시 일부 공정만 수행할 수 있는 능력* RFID 태그는 반도체로 제작된 트랜스폰더 칩과 안테나로 구성, 데이터 기록여부에 따라 읽기전용(Read-Only ... 형 단말기 제작▲ 칩(Chip) 부문* RFID 기기에 내장되는 반도체 부품은 태그칩과 리더칩으로 구분* 태그칩 : 상품에 내장되어 상품에 대한 정보를 리더기에 전송* 리더칩 : 태그 ... 의 소형화+가격하락으로 가축관리, 철도차량 식별 등 특정 분야에서 활용되기 시작* 1990년대 들어, 반도체 기술의 발달로 저가격, 고기능 태그가 개발되면서 의료, 유통, 교통

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.22

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나노임프린트-soft nano lithography의 이해

의 주요변수가 제작과정에서 고려되어야 할 것입니다.PDMS stamp를 제작한 후 실험실의 장비를 이용하여 실제적인 임프린트 공정을 진행하게 되는데, 이장비는 온도의 균일성, 가해지 ... . 특히 반도체 위에 자가조립단층을 직접적으로 형성하거나 현재 공정이나 사용된 물질과의 적합성이 최적화된 시스템이 필요합니다.즉, 개발과정이 응용분야에 적합한지에 대한 융통성과 재현 ... 는 장시간의 공정시간의 요구되므로 상대적으로 비용이 높아지는 단점이 있습니다.2. 위의 단점을 극복하기위해 전자빔 리소그래피로 제작한 고가의 stamp를 반 영구적으로 이용하기

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.30

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박막 재료의 표면처리 및 PR 제거

1. 실험제목 : 박막 재료의 표면처리 및 PR 제거2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정은 박막재료의 세 가지 공정으로 나눠지는데 첫째 ... 에서 반도체라는 물건에 둘러싸여 사는 셈이다. 반도체를 마법의 돌 전자 산업의 꽃, 산업의 쌀, 20세기 최대의 발명품등으로 부르는 것은 어찌 보면 당연하다.2) 반도체 제조공정반도체 ... 과 검사(cleaning & inspection)(2) 반도체 제조 공정① 단결정 성장 : 고순도로 정제된 실리콘 용융액에 SPEED 결정을 접촉, 회전시키면서 단결정 규소봉

리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.05.27

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LED와 OLED의 기술과 응용 논문 PPT자료

OLED의 발광원리 및 특성2-4 OLED의 제조공정2-5 OLED의 응용..PAGE:31-1 LED 의 정의사전적 의미“반도체의 p-n 접합 구조를 이용하여 주입되는 소수 ... 물질을 사용하지 않는다...PAGE:71-4 LED의 제조공정1) LED 기판 제작2)에피 웨이퍼 제작3)칩 제작4)패키징..PAGE:81-5 LED의 응용조명일반 조명(왼 ... LED1-1 LED의 정의1-2 LED의 역사1-3 LED의 발광원리 및 특성1-4 LED의 제조공정1-5 LED의 응용2 OLED2-1 OLED의 정의2-2 OLED의 역사2-3

논문 | 17페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.01.27 | 수정일 2014.02.23

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LCD 제조공정

분야, 인쇄 회로기판분야 및 정밀 가공 금속 제품이나 유리 제품의 제조 등 산업 전반에 널리 이용된다.?반도체 또는 LCD 제조공정에서의 Photo Resist는 빛에너지에 의해 ... ● LCD의 제조 공정●.액정 Cell 공정● Module 공정● 참고문헌● LCD 개요?. LCD의 역사: CRT는 1887년 브라운이 최초로 전자관(음극선관 또는 브라운관이라고도 한다 ... 의 형성법은 Masking Resist 도포공정의 차이로부터 Screen 인쇄법, Offset 인쇄법, Photolithograph법의 3가지 방법이 있다.? 앞의 2가지는 비교적 거친

리포트 | 32페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.12.03

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