반도체 집적소자 단위 공정

소개

반도체 집적소자 단위 공정에 대한 실험리포트입니다

목차

제목 : 반도체 집적소자 단위 공정
1. 실험 제목
2. 실험 목적
3. 실험장치 및 시
4. 실험방법 및 이론
이론
세정공정 Cleaning Process목적
1) Soda Lime Galss 기판
2) 세정(Cleaning) 의미 및 필요성
3) Glass 기판의 세척 방법
진공 증착
Sputtering
사진공정 Photolithography
Glass상 Mask의 pattern하기 위한 PR Coating
PR
노광 (Exposure)
현상 (Development)
금속식각공정 Etching Process
습식 식각 (wet etching)
실험방법
5. 실험 결과
6. 고찰 및 제언
7. 참고문헌

본문내용

2) 세정(Cleaning) 의미 및 필요성
세정(Cleaning)은 초기 투입이나 공정 중에 기판이나 막 표면의 오염, particle을 사전에 제거하여 불량이 발생하지 않도록 하는 기본 개념 이외에 증착될 박막의 접착력 강화를 목적으로 하며, 넓은 의미에서는 etching공정 후의 감광막 제거 공정도 포함할 수 있다.
기판의 세척은 그 위에 생긴 박막의 성질에 영향을 미친다. 예를 들면 더러워진 Glass에 Al이나 Ar를 증착하여 거울을 만들면 거울에 백탁이 들어가 반사율이 떨어지는 것을 볼 수 있다. 일반적인 의미에서 오염을 제거할 수 있는 세척과정은, 오염을 기판에서 떨어뜨리는 과정 외에. 오염을 떨어뜨리기 위한 매질의 제거, 건조하는 과정이 포함되는 경우가 많다. 아주 깨끗이 하려해도, 최후의 마무리면을 보면, 찌꺼기와 같이 것이 남아있는 경우를 많이 볼 수 있다. 이것은 세척과정이나 건조과정에서 양쪽에 또는 어느 한쪽에 불충분한 점이 있기 때문이다.
3) Glass 기판의 세척 방법
① Pre-cleaning 손가락 세척에 의한 방법
먼저 손을 충분히 비누를 가제에 대해서 Glass 표면을 싹싹 문지른다. 그래서 흐 르는 물에 자주 세척하여 떨어뜨린다. 손가락으로 Glass 면을 강하게 문질렸을 때. 매끈매끈한 감촉일 때는 아직 오염이 붙어있는 것으로 깨끗하게 되면 급히 마찰을 강하게 느낄 정도가 된다. 이 단계에서 기판은 핀셋을 들고 흐르는 물로 잘 닦고 나서 비등하고 있는 순 알코올 중에 넣고 나서, 기판의 증착면이 수직으 로 되도록 끌어올려서 드라이어 등으로 될 수 있는 한 빨리 건조시킨다. 빨리 건 조시키지 않으면, 공기 중에 오염물질이 알코올에 녹아서 Glass에 부착하고 만 다. 이 방법은, 거울이나 반투경을 만들 때와 같이 그리 구조민감하지 않은 성질 의 이용을 목적으로 할 때 이용된다. 단, 이 방법으로는 기판이 제법 두껍고 튼튼 할 필요가 있다.

참고자료

· ․임동규 : ‘광 리소그래피에서 상 전이 및 적용에 관한 연귑그래피에서
· 상 전이 및 적용에 관한 연구
· ․서울대학교 석사학위 논문, (1994)
· ․전자자료사 편집부 : 반도체(공정 및 측정) (주)전자자료사, (1995)