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[공학]Thermal Evaporation법을 이용한 발광박막의 제조

이 번 실험에서는 Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하 여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는데 그 목적이 있다. 먼저 준비된 glass를 DI Water, Methanol, Acetone 순으로 각각 거즈를 이용하 여 세척 후 N2 기체로 blow drying 하고, 잔류 유기물과 수분을 제거하기 위해서 Convection Oven에서 10분간 건조시켰다. 그리고 나서, Thermal evaporator chamber에서 세정된 기판과 시료를 이용해 박막증착을 하였다. 실험 결과 제조된 기판을 sem을 사용하여 기판에 증착된 유기발광박막의 표면 상태를 관찰한 결과 약간의 엉김현상이 있었지만 전반적으로 고르게 나타났다. 실험을 통하여 Thermal Evaporation법 뿐만 아니라 기상법(CVD,CVC 등)의 여 러 가지 종류와 발광재료의 종류에 대해서 알 수 있었다.
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최초등록일 2006.12.22 최종저작일 2006.01
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[공학]Thermal Evaporation법을 이용한 발광박막의 제조
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    소개

    이 번 실험에서는 Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하 여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는데 그 목적이 있다.
    먼저 준비된 glass를 DI Water, Methanol, Acetone 순으로 각각 거즈를 이용하 여 세척 후 N2 기체로 blow drying 하고, 잔류 유기물과 수분을 제거하기 위해서 Convection Oven에서 10분간 건조시켰다. 그리고 나서, Thermal evaporator chamber에서 세정된 기판과 시료를 이용해 박막증착을 하였다.
    실험 결과 제조된 기판을 sem을 사용하여 기판에 증착된 유기발광박막의 표면 상태를 관찰한 결과 약간의 엉김현상이 있었지만 전반적으로 고르게 나타났다.
    실험을 통하여 Thermal Evaporation법 뿐만 아니라 기상법(CVD,CVC 등)의 여 러 가지 종류와 발광재료의 종류에 대해서 알 수 있었다.

    목차

    Ⅰ. 서 론
    Ⅱ. 이 론
    Ⅲ. 실험 방법

    본문내용

    박막이란 기계가공으로는 실현 불가능한 두께 μm 이하의 엷은 막을 말한다. 박 막의 형성에는 `세척(Cleaning) - 증착(Deposition) - 포토리소그래피 (Photolithography) - 도금 (Plating) -에칭 (Etching) - 다이싱(Dicing)`의 과정 을 거친다.
    수면의 기름막, 비누방울이 아롱진 막, 금속 표면의 녹, 함석 ·생철의 아연막 · 주석막 등이 이에 속하지만, 이 밖에 여러 가지 금속이나 반도체 또는 절연물 등 을 재료로 삼아 금속박막 ·반도체박막 ·절연박막 ·화합물 반도체박막 ·자성(磁性) 박막 ·유전체(誘電體)박막 ·집적회로 ·초전도(超電導)박막 등이 진공증착법(증기 건 조법)을 위시하여 전기도금법, 기체 또는 액체 속의 산화법, 화합물 열분해법, 전 자빔 증착법, 레이저빔 증착법 등에 의해 만들어진다. 물질은 박막상태가 되면 물 리적 ·화학적 성질이 크게 변한다. 예를 들면, 불에 타지 않는 금속도 박(箔)으로 만들면 타는 경우가 있다. 일반적으로 점성이 커지고 표면장력이 작아지며, 빛의 간섭에 의해 착색현상이 일어난다. 이러한 특성은 각종 이화학 원리의 실험이나 이화학기계 제작에 원용되고 있다.
    한편 실용적으로는 광학렌즈의 반사방지막이 유명하며, 전자장치의 초소형화 경 향에 힘입어, 초소형 박막 전자회로의 제조 및 전자부품의 박막화가 활발히 추진 되고 있다. 이러한 박막화는 다음과 같은 이점이 있다.
    ① 소형 ·경량화 한다.
    ② 얇고 표면적이 크기 때문에 열방산이 좋아져서 큰 전력을 다룰 수 있다.
    ③ 인덕턴스가 감소하고 고주파 특성이 좋아진다.
    ④ 얇고 치밀한 보호막으로서 성능이 뛰어나다.
    ⑤ 자성체 박막은 히스테리시스 반전의 고속화를 가능하게 한다.

    참고자료

    · 없음
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