금오공대 정보디스플레이공학 중간고사 족보
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2024.07.05
문서 내 토픽
  • 1. 스마트폰 및 TV 출하량
    스마트폰 출하량은 14억대, WOLED TV 출하량은 1083만대, OLED 스마트폰 출하량은 7억대이며, 최대 배터리 생산회사는 삼성입니다.
  • 2. 디스플레이 기술
    디스플레이 기술에는 TFT, LCD, OLED 등이 있습니다. TFT는 a-Si, LTPS, HTPS 등의 재료와 특성이 다르며, LCD는 IPS와 VA 방식의 차이가 있습니다. 발광 원리에는 CL, EL, PL 등이 있습니다.
  • 3. LCD 구동 원리
    LCD는 액정에 의해 광학적 스위치 역할을 하며, 편광판과 배향막을 통해 빛을 조절합니다. 전압 인가에 따라 액정이 틀어지면서 빛의 벡터가 변화하여 밝기가 조절됩니다.
  • 4. 포토리소그래피 공정
    LCD 제조에는 포토리소그래피 공정이 사용되며, PR 도포, 노광, 현상, 식각, PR 박리 등의 단계로 이루어집니다.
  • 5. 액정의 종류와 구동 방식
    액정에는 네마틱, 스멕틱, 콜레스테릭 등의 종류가 있으며, 양(+)극성과 음(-)극성에 따라 전압 인가 시 배열이 달라집니다.
  • 6. BLU 구성 및 동작
    투과형 LCD에서는 BLU에서 발생한 빛이 편광판을 통과하여 화소에 도달하며, 반사형 LCD는 외부 광원을 이용합니다.
  • 7. a-Si와 LTPS TFT 비교
    a-Si TFT는 이동도가 작고 LCD, 노트북 등에 사용되며, LTPS TFT는 이동도가 크고 LCD, OLED, 스마트폰 등에 사용됩니다.
  • 8. PMLCD와 AMLCD 비교
    PMLCD는 순차적 구동, AMLCD는 셀별 구동으로 선명도와 속도 면에서 차이가 있습니다.
  • 9. 3DTV 기술
    삼성의 셔터 글래스 방식과 LG의 편광 방식이 있으며, 각각 장단점이 있습니다.
  • 10. a-Si와 LTPS TFT 공정
    a-Si TFT는 bottom gate 구조이며, LTPS TFT는 top gate 구조입니다. 각 공정 단계에 차이가 있습니다.
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  • 1. 주제2: 디스플레이 기술
    디스플레이 기술은 지속적으로 발전하고 있으며, 이는 우리의 일상생활에 큰 영향을 미치고 있습니다. 최근 OLED, MicroLED 등 새로운 디스플레이 기술이 등장하면서 화질, 에너지 효율, 두께 등 다양한 측면에서 기존 LCD 기술을 능가하고 있습니다. 또한 AR/VR, 플렉서블 디스플레이 등 새로운 응용 분야가 등장하면서 디스플레이 기술의 발전 속도가 더욱 가속화되고 있습니다. 향후 디스플레이 기술은 더욱 진화하여 우리의 생활을 혁신적으로 변화시킬 것으로 기대됩니다.
  • 2. 주제4: 포토리소그래피 공정
    포토리소그래피 공정은 반도체 및 디스플레이 제조에 핵심적인 기술입니다. 이 공정을 통해 마스크 패턴을 기판 위에 정밀하게 전사할 수 있으며, 이는 고집적 회로와 고해상도 디스플레이 구현의 기반이 됩니다. 최근 극자외선(EUV) 리소그래피 기술의 등장으로 더욱 미세한 패턴 구현이 가능해졌으며, 이는 반도체와 디스플레이 기술의 발전에 큰 기여를 하고 있습니다. 향후 포토리소그래피 공정은 더욱 정밀해지고 효율적으로 발전할 것으로 예상되며, 이를 통해 차세대 전자 기기의 성능 향상이 가능할 것입니다.
  • 3. 주제6: BLU 구성 및 동작
    BLU(Backlight Unit)는 LCD 디스플레이의 핵심 구성 요소 중 하나입니다. BLU는 LCD 패널 뒤에 위치하여 균일한 백라이트를 제공함으로써 화면의 밝기와 균일도를 결정합니다. BLU의 구성 요소로는 광원, 광학 시트, 확산판 등이 있으며, 이들의 최적화를 통해 높은 광효율과 균일도를 달성할 수 있습니다. 최근에는 LED 광원을 사용하는 Edge-lit 방식과 Direct-lit 방식의 BLU가 주로 사용되고 있으며, 이를 통해 LCD 디스플레이의 성능이 지속적으로 향상되고 있습니다. 향후 BLU 기술의 발전은 LCD 디스플레이의 경쟁력 제고에 중요한 역할을 할 것으로 예상됩니다.
  • 4. 주제8: PMLCD와 AMLCD 비교
    PMLCD(Passive Matrix LCD)와 AMLCD(Active Matrix LCD)는 LCD 구동 방식의 대표적인 두 가지 유형입니다. PMLCD는 단순한 구조와 저렴한 제조 비용의 장점이 있지만, 화질과 응답속도가 상대적으로 낮습니다. 반면 AMLCD는 TFT(Thin Film Transistor)를 이용하여 각 화소를 능동적으로 구동함으로써 고화질과 고속 응답이 가능합니다. 하지만 제조 공정이 복잡하고 비용이 높다는 단점이 있습니다. 최근에는 AMLCD 기술의 발전으로 인해 대부분의 LCD 디스플레이가 AMLCD 방식을 채택하고 있습니다. 향후에도 AMLCD 기술의 지속적인 발전을 통해 LCD 디스플레이의 성능이 더욱 향상될 것으로 예상됩니다.
  • 5. 주제10: a-Si와 LTPS TFT 공정
    a-Si(amorphous Silicon)와 LTPS(Low Temperature Poly-Silicon) TFT는 LCD 및 OLED 디스플레이에 사용되는 대표적인 박막 트랜지스터 기술입니다. a-Si TFT는 제조 공정이 단순하고 저렴하지만, 전자 이동도가 낮아 고해상도 및 고속 구동에 한계가 있습니다. 반면 LTPS TFT는 전자 이동도가 높아 고해상도와 고속 구동이 가능하지만, 제조 공정이 복잡하고 비용이 높습니다. a-Si TFT 공정은 저온 증착 및 패터닝 기술을 사용하여 비교적 간단한 공정으로 제조할 수 있습니다. 반면 LTPS TFT 공정은 레이저 어닐링 등의 추가 공정이 필요하여 더 복잡합니다. 향후 디스플레이 기술의 발전을 위해서는 이러한 TFT 공정 기술의 지속적인 혁신이 필요할 것으로 보입니다.