"박막공정"의 검색결과 입니다.

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집적회로공정 반도체 증착 OLED 반도체 공정실험 박막공정 cvd 페로브스카이트 가공단가 나노소자> 무기공업화학

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"박막공정" 검색결과 1,961-1,980 / 3,367건

OLED

-공정 단순화 가능OTFT (유기박막트랜지스터)-공정단가 높음 -균일도 나쁨 -높은 누설전류-높은 이동도 -회로집적 가능 -고 해상도 가능 -우수한 안정성LTPS (저온 다결정실리콘 ... OLED (Organic Light Emitting Diode)What is OLED?Organic Light Emitting Diode 유기물 박막에 전자와 정공이 재결합 ... 에 따라 다른신호(다음frame)가 입력될 때까지 계속 발광하는 방식.Active Matrix Operation*TFT의 종류와 특징-균일도 나쁨 -문턱전압 변화 큼-낮은 공정단가

리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.07.24

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Introduction of ITO Sputter & Technology

ColorITO Light CharacteristicTechnology of ITO81) ITO는 굴절율 2.05, 흡수계수 0.01을 가진 물질임 (Bulk 상태). 박막상태는 특성 ... 이 달라짐. 2) Glass 위에 ITO 박막이 형성될 경우 빛의 파장에 따라 빛의 보강 상쇄 간섭이 반복적으로 일어나 게 된다. 따라서 보강 상쇄에 따라 빛의 투과 반사율의 차이 ... 의 휨으로 인해 그 한계를 가질 수 밖에 없다. 따라서 아래 Data를 근거하여 공정에 적합한 온도를 취해야만 한다.Carrier Concentration (개

리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.09.09

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Developing, Etching, Stripping

으로, Pattern이 형성된 부분의 박막은 남게 되고 PR이 없는 부분의 박막은 제거된다. 식각 공정에는 Gas Plasma가 사용 되는 건식 식각과 화학용액을 이용하는 습식 식각 ... & Stripping물리적, 화학적인 반응을 이용하여 Glass 상에 PR에 의하여 형성된 Pattern대로 박막을 선택적 제거함으로써 실제의 박막 Pat tern을 구현하는 방법 ... 방법이 있으며, Etching 후에는 유기용매 등에 의한 PR Strip 공정이 이루어진다.에칭은 종래의 금속부식 가공기술이 진보된 기술로서 첨부된 제조공정도와 같이 가공하고자 하

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.11.03

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[공학기술]반도체증착기술

으로 하여 박막이 형성 되면 하부 층의 Metal Line에 Damage를 주어 제품 불량이 초래되어 Metal Line에영향을 주지 않을 온도의 층간 절연 막 내지 보호막 공정 ... PVD(물리 기상 증착) 공정의 정의는 생성하고자 하는 박막과 동일한 재료(Al, Ti, TiW, W, TiN, Pt 등)의 입자를 진공 중에서 여러 물리적인 방법에 의하여 기판 위 ... 1. CVD란?(1) CVD(화학 기상 증착법)공정의 개요외부와 차단된 반응실 안에 Substate(기판)를 넣고 Gas를 공급하여 열, 플라즈마, 빛(UV or LASER

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.07.19

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초 경 합 금 공구

초 경 합 금 공구초경합금 개요 초경합금 제조공정 완분 공정 형압 공정 소결 공정 인서트 연삭 공정 코팅 공정목 차1/201. 초경합금 개요금속 탄화물 (WC, TiC, TaC ... ) 형성 - 초경합금의 기계적 성질에 유해 - 탄소량이 건전상의 2상 영역이 되도록 조절하는 것이 매우 중요4/20소 결완 분프레스◈ 인써트 제조 공정Spray Dryer를 이용 ... 하여 분말을 만드는 공정프레스 된 제품을 고온으로 소결하는 공정프레스와 금형을 이용하여 제품을 만드는 공정가 공연삭 가공을 이용하여 합금 소재를 원하는 치수 형상의 제으로 만드는 과정

리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.04.05

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건축폐기물의 건축재료로의 활용사례

폐유리 분말을 혼합한 이중바닥재 : 휨강도의 증진효과 탁월 경량 골재를 복합적으로 이용 : 이중바닥재의 경량화 및 박막화로 기존 무기질계 이중 바닥재의 두껍고 무거운 단점 극복 ... 포장박스 ) 산지에서 발생되는 폐목재를 모음 파쇄기에서 파쇄 → 미세한 칩사이즈로 만든후 선별 , 도포 , 성형 , 열압 , 냉각 공정을 거쳐 제품을 생산 Subject 4. 폐목재 ... 가능 여부 상담 → 건 설성 중부 지방 건설국과 공동 개발 특징 항상 변화하는 건설 오니의 성질에 따라，단위 공정마다의 원료 조합이나 제조 방법을 확립 건설 오니를 원료로 사용 하

리포트 | 55페이지 | 4,000원 | 등록일 2013.06.22

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플라즈마 생성과 응용

확대되고 있다.플라즈마의 응용그림 4. 플라즈마를 이용한 반도체 공정장치의 예. 이 장치는 유도 결합 플라즈마를 이용한 박막 제조 장치인데 반응 용기 위 부분에 플라즈마 발생 ... 고도 높은 밀도의 플라즈마를 생성할 수 있다.플라즈마의 응용공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 공정에서 플라즈마 식각(plasma etch ... ) 및 증착 (PECVD: Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), 금속이나 고분자의 표면 처리, 신물질의 합성 등에서 이용되고 있고, 공정

리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.29

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[공학기술]박막증착 기술보고서<스퍼터링&CVD>

어 대부분의 Sputtering 공정에서 이용되고 있는 추세이다.박막증착이 특히 핵심적인 분야인 반도체 산업에서는 RF 스퍼터링 혹은 Ion beam 스퍼터링 기술을 이용해왔으나 최근 ... 제조 공정에 중요하게 적용되기 시작하였다. ALD는 향후 기존의 모든 CVD 박막 공정을 대체할 잠재력을 갖고 있는 공정으로 거의 모든 CVD 장비 업체들이 개발에 박차를 가하고 있 ... □ 목 차1. 목 적2. Sputtering3. CVD4. 결 론5. 참고문헌1. 목 적Sputtering 공정과 CVD 공정을 배워 보았는데 현재 산업의 Sputtering

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.14

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신소재 사업계획서

NURION 모델Presentation Title 14β선 포착기술(특허기술) 반도체 공정기술 중에 하나인Photolithgrapy를 이용하여 전자포착가능한 Site를 균일하고 미세 ... 원리Ni 박막방출 전자pn junction deviceNi 박막에서 베타선의 방출로 전자가 pn junction 소자로 침투하게 되면 소자 내부에서는 전자 투입에 따른 energy ... 의 제작기술박막형 Ni 제작 기술 (특허 보유) - NURION 소형화의 핵심기술로서 적용기기의 출력전압과 모형에 따라 다양한 제작 가능다공성 pn junction 소자 제작 기술

리포트 | 65페이지 | 7,000원 | 등록일 2009.10.27

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반도체 레이저 다이오드

층 적층기술, Lidge 형성기술 등 반도체 레이저 개발에서 시작된 기술도 많다.아래의 그림중 BH형 레이저 공정은, 단결정 박막 성장에 의한 각 층의 성장 후에 식각 기술 등 ... 도록 요구된다.- 표면결함: 적층하는 박막의 결함이기 때문에 매우 중요한데, 이는 피트, 부착물 등을 맨 눈으로 또는 표면 조사장치로 관찰한다.- 웨이퍼의 휨과 크기: 에피텍셜 성장시 ... 고려해야할 기본적인 품질로 매우 중요하며, 사양 등에도 엄격하게 규정되어 있다.- 첨가물 활성화율: 격자 사이에 들어간 첨가물 원자는, 그 다음 공정에서 이동하기 쉬우므로 활성

리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.10.19

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가스센서 반도체식 가스센서의 제조공정

성을 구현반도체 식 가스센서3감지 물질의 제작형태 에 따라 분류3. 박막 형 기본적으로 후막 형과 같은 적 층 구조 단지 히터 층과 감지 층의 두께를 얇게 증착하는 박막 공정으로 제작 ... 소자를 구성하는 층들을 박막 화 하여 초소형으로 센서를 제작 히터의 소비전력을 줄 일수 있음반도체 식 가스센서3감지 물질의 제작형태 에 따라 분류반도체 식 가스센서3박 정 태

리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.14

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포토마스크 제조공정 및 재료와 제조설비

된 크롬 박막을 이용하여 반도체 집적회로와 LCD 패턴을 실제 크기의 1~5 배로 식각 해 놓은 제품 사진의 필름과 유사한 역할을 수행1. 포토마스크 제조공정 , 재료 및 제조설비 ... 포토마스크 제조공정 , 재료 및 제조설비 노광 공정 및 스테퍼장비 20031111 배용준 20032222 송승헌 20033333 이병헌목차 포토마스크 제조공정 , 재료 및 제조 ... 설비 1 노광 공정 및 스테퍼장비 2 참조 31. 포토마스크 제조공정 , 재료 및 제조설비 포토마스크란 ? 유리기판 위에 반도체의 미세회로를 형상화한 것 투명한 석영기판 상층에 도포

리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.10.05

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LOW-E 유리

에 전기전도성이 우수한 금속이나 금속산화물 박막을 입혀서 가시광선 영역에서는 소정의 투과특성을 유지시키면서 코팅면의 방사율을 0.2이하로 낮추어 복사되어 오는열에너지를 차단 ... . Low-E 유리의 제조공법4-1. 열분해법(Pyroysis, Hard-coating)√열 분해법 이란?: 플로트 판유리 제조공정시 유리가 주석조에서 빠져나올 때, 고온으로 달궈진 ... 적 안정성이 뛰어남유리 공정도주석조 확대도건축재료와 구법 4. Low-E 유리의 제조공법4-2. 진공 증착밥(Magnetron Sputtering, Soft-coationg)√진공

리포트 | 19페이지 | 4,000원 | 등록일 2012.06.28

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MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)

.3nm의 속도로 증착이 된다.(3) Photo-lithography(사진식각공정)① 웨이퍼 위에 PR약을 뿌려 5초 동안은 500rpm, 그 뒤 35초간 3500rpm의 속도 ... .5V정도 떨어져있는데 그 이유는 박막이 완벽하지 않고 산화막내의 결함으로 인해, 또는 계면에 전하가 묶였기 때문이다.I-V그래프를 보면 SiO2는 약-8V에서 HfO2는 약-26V ... 에서 그래프가 갑자기 쭉 내려간다. 이러한 현상을 break down이라고 한다. 과도한 전류가 흐르게 되어 다이오드 Oxide박막이 파괴되는 현상을 말하고 같은 말로 항복현상이

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.26

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lcd 개론

Sputtering금속막 및 투명전극의 박막 증착에 사용• 원리: Ar 가스에 플라즈마 방전을 일으켜 이 때 생성되는 Ar+ 이온으로 target 금속(증착 물질)을 s ... puttering 시켜, Sputtering된 원자들은 상호 충돌과 간섭을 통하여 가진 에너지를 소모하고 유리 기판 표면에서 상호 결합하여 박막 형태로 성장. (통상적으로 RF 방전 이용 ... 으로부터Sputtering 되는 원자들과 주입된 Gas들이 반응하여 Layer별로 화합물이나 Oxide 막을 증착.Photolithography• Mask에 그려진 Pattern을 박막

리포트 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.09.24

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Ion plating(이온플레이팅)

, 광학재료 등의 박막형성에 이용되는데 비해 이온플레이팅은 내마모성을 목적으로 한 경질막의 형성에 주로 이용되고 있다. 최근에는 ZnO, AlN막 등 전자재료분야의 연구도 활발하지 ... heath의 두께(L)는 중요한 공정변수로써 child-lagmuir이 관계식으로부터 다음과 같이 예견된다.: cathode sheath thickness: the ... 생성 및 성장을 하게 되어 초경박막이 형성된다.이온도금방법은 다른 PVD 방법에 비하여 증착물의 증발 효과가 높고, 피복률이 크며, 고융점 금속을 전자빔에 의해 쉽게 증발시킬 수

리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.05

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신재생에너지(renewal energy)검토

전지 금속판에 실리콘을 붙여 생산하는 방식 , 박막형에 비해 전기효율 높음 , 긴 제품 수명 시장점유율 80% 2 세대 박막형 태양전지 유리나 플라스틱 기판에 전극을 입히는 방식 ... 저온형 ( 100 ℃이하 ) / 중온형 ( 300 ℃이하 ) / 고온형 ( 300 ℃이상 ) 이용 분야 온수 . 급탕 시스템 / 냉난방 시스템 / 태양열 산업공정열 시스템 / 태양 ... 설비 설치자금 ) 신 . 재생에너지설비 부품 . 제품생산공정 설치 사업자 신 . 재생에너지관련 사업자 이자율 분기별 변동금리 ( 현재 약 3%) 지원한도액 ( 전력기금 ) 30 억

리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.04.12

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박막의 표면처리 및 식각 실험 예비보고사

/1./실험제목/박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거/2./실험목적/여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정은 박막재료의 세 가지 공정으로 나눠 지는데 첫째 ... 로 증착공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나눠진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정은 박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것 ... 이다. 본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화 등에 대하여 고찰하고자 한다./3

리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.04

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MOF........

) 기체 저장 : H2, CO2, CH4, SF6, O2, 등 2) 기체 분리 : H2/CO2, H2/CH4, CO2/ NOx,Sox → MOF 는 박막으로도 성장이 가능 ... 을 한다 . 대략 나노미터 크기의 세공을 갖는 이들은 끓는점이 높은 중질유를 분해하여 휘발유 , LPG, 경유 등을 제조하는 이른바 cracking 공정에 촉매 활성을 보이기 때문

리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.10.28

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나노 태양전지의 종류

:엠파스→광결정→하이브리드태양전지)⑶나노결정박막 태양전지①CIS계 박막태양전지 -CIGS 광투층,buffer 층 및 투명전극을 나노 입자 공정으로 대체하여 값싼 태양전지를 제조(출처 ... :엠파스→태양전지→태양전지연구센터 →박막형태양전지)예)Cu(ln,Ga)Se₂(출처:네이버→박막형태양전지→uosop의 블로그→ Cu(ln,Ga)Se₂공정)⑶나노결정박막 태양전지②Si ... 이용한 태양전지 -하이브리드 태양전지 ⑶나노결정박막 태양전지 ① CIS계 박막태양전지 ② Si계 박막 태양전지태양전지의 종류(출처:엠파스→태양전지→이미지 →태양전지역사

리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.09.21

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