"집적회로공정"의 검색결과 입니다.

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집적회로공정 반도체 공정 MEMS 반도체 공정실험 mos capacitor 제작 리소그래피 학사편입

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"집적회로공정" 검색결과 1,261-1,280 / 1,433건

반도체

가격이 낮아서 대용량 메모리로 많이 사용이 되고 있다.SRAM은 STATIC RAM의 약자로 전원이 공급되고 있는 동안은 항상 정보가 기억되어 있는 메모리이다. DRAM에 비해 집적 ... , Inverter, AC-DC Converter등 모든 전원분야에 사용된다.ASIC는 Application Specific IC의 약자로 고객의 주문에 의해 설계된 특정회로를 반도체 IC ... 기타 각종 요소 기능의 광부품을 조합하여 특정 기능의 광부품을 기판상에 집적하는 기술이다.평면 광도파로(PLC:Planar Lightwave Circuits) 소자는 광의 분기

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.04.15

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[반도체] 다이오드 소자의 작동원리

에는 금속에 녹아있던 p형의 불순물이 n형의 반도체 속으로 확산해 들어가 pn접합을 생성하게 된다. 둘째는 평면 공정이라고 하는 방법으로, 오늘날의 모든 집적회로는 이 방법으로 제조 ... 하는 방법에는 두 가지가 있다.첫째는 합금 확산(alloying) 공정이라고 하는 것으로 p형의 불순물이 함유되어 있는 금속을 n형의 반도체 위에 녹여 붙이는 방법이다. 이 경우 ... (SiO2)이 형성된다. 사진 식각 공정을 사용하여, 이 산화막에 p형으로 도핑하고자 하는 영역만 산화막이 없어지도록 한다. 그리고, p형의 불순물 기체가 들어 있는 용기에 사진

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.18

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바이폴라 IC란?

를 제어하는 전기장 효과 트랜지스터를 집적한 것이다. 제조 공정이 비교적 쉽다는 점에서 P형 실리콘을 기판(基板)으로 사용하는 P-MOS 형이 처음으로 실용화되었다.그러나 동작 ... )가장 최초의 로직 회로로 저항이나 커패시턴스를 중간에 삽입하지 않고 TR과 TR를 직접 연결한극히 간단한 구조를 가지고 있다.장점 : 구조자체가 아주 간단하므로 게이트 집적도 ... ● BIPOLAR IC 란?바이폴러형은 원리적으로는 보통의 트랜지스터를 그대로 집적한 것으로 생각하면 좋다.전자와 정공(반도체의 결정에서 가전자가 결핍되어 생긴 구멍)의 2 종류

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2000.11.16

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FRAM에 대해

고 있다. 현재까지는 FRAM의 공정 개발 수준이 DRAM에 미치지 못하기 때문에 동작속도는 떨어진다. 하지만 전원 공급이 끊겨도 강유전체가 가지고 있는 자발분극 특성 때문에 저장 ... 적합한 강유전체 물질을 선택하고 일반적인 실리콘 집적회로와 호환 가능한 박막 성장, 식각 및 회로 설계 기술을 확립하는 것이다.FRAM은 꿈의 반도체라 불릴 정도로 많은 장점 ... 권, 전화기용 메모리, 스키장 리프트권, 비접촉식 식별기(smart tag)등으로 그 용도가 다양하며, 아날로그 신호를 축적 및 병렬 처리하여 신경회로망(neural network)소자

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.04.22

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[경영정책] 경영전략 토의과제 3장 삼성반도체의 사업부제

, - 국내 시장점유율 55%사 업 분 야삼성반도체도체와 부도체의 중간적인 성격을 갖는 성질을 이용하여 전기적 신호를 제어, 증폭. 기억 등을 하도록 만든 제품반 도 체집적회로 ... 기기에 사용되는 S램 - MP3용으로 FLASH 메모리 기술인정SYSTEM LSI - 첨단 Advanced 공정기술 기반 - core technology 기술을 기반 ... 램에 뛰어든 이유 - 다른 반도체분야에 비해 기술 격차가 낮음 - 단일품목으로는 가장 높은 시장 점유율 - 설계 기술보다는 공정기술이 중요 - 대량생산제품으로 투자회수기간이 짧

리포트 | 27페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.06.17

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[경영] 인텔의 평등경영

는 거의 없었다.이런 전략이 95년까지는 잘 작동했지만 중요한 산업변화가 발생했다. 정부의 연구자금이 줄어들고 기초적인 집적회로 연구를 수행했던 대학에 재정적인 압박이 가해졌 ... 에 참여했다.당시 이 연구소는 왕성한 연구활동을 벌여 메모리, 집적회로, 산화금속, 반도체 등에서 훌륭한 연구업적을 이룩했으나 연구결과 중 어느 것도 제품화되지 못했다.인텔의 경영진 ... ) 인텔 마이크로프로세서 공정 기술의 발전7) 인텔의 조직8) 협력 관게 및 기술 개발 프로그램9) 전망2. 인텔의 평등경영 ---------------------------- 61

리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.23

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나노

에 만약 수 나노미터 정도 크기의 기억소자나 회로를 만든다면 현재 최첨단의 집적회로 선폭의 백분의 일 정도가 된다. 넓이로 따져 만분의 일이므로 현재보다 만배 정도 집적도가 높은 칩 ... 년대에 나노재료 및 공정에 많은 투자가 이루어졌으나, 현재는 전자산업의 발전을 목표로 나노디바이스에 더욱 중점을 두고 있는 반면 미국과 유럽은 기반기술의 확립에 중점을 두고 있 ... 을 만들 수 있다는 계산이 나온다. 기억소자로 이야기하면 그 집적도가 테라(1012 즉 1조)DRAM에 이르게 된다. 다시 말해 엄지손톱 만한 면적에 Encyclopedia

리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.06.04

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[국제통상론]WTO협정문의 구성

적 표시, 의장, 특허, IC(집적회로)배치설계, 영업비밀, 라이센스 계약에 의한 반경쟁행위 통제)- 시행절차, 권리의 획득유지 및 관련 내부절차 등 규정{제 2 부속서1 분쟁해결규칙 ... 추진· 관세의 인하 및 모든 비관세장벽의 철폐· 무역관련 국내법령, 규칙 및 관행의 투명성 제고- 공정한 경쟁의 촉진· 덤핑 및 보조금등의 불공정한 경쟁에 대한 보복관세 부과· 농산 ... 강화, 덤핑마진 산정기준 객관화, 덤핑수입과 산업피해간의 고려요건 강화, 반덩핑관세의 소멸조항 도입 등▷ 관세평가협정- 관세목적의 상품평가를 하는데 있어서 공정하고 통일된 중립

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.04.02

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[디지털] VHDL 강좌4 - ASIC 용어 요약

로 집적시켜 개발하여, 반도체 제조 업자에게 주문 제조한 반도체 수요 업체가 주문 제조한 특정회로용으로만 사용되기 때문에 기존의 범용 반도체(반도체 업체가 생산하는 표준화된 반도체 ... 는 공정에 적합한 기능 블럭들을 사용, 완성된 설계를 제조하기 위하여 이용할 수 있는 반도체 제조 설비22. Gate두개 이상의 입력들과 하나의 출력을 가진 회로로, 출력은 입력 ... ASIC 용어 요약1 ASIC : Application Specific Integrated Circuit주문형반도체시스템 업체가 자기 시스템의 특정회로 부분을 하나의 반도체

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.11.11

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정밀절삭가공의 이론과 실제(MEMS)

자.1. MEMS의 정의MEMS는 Micro Electro Mechanical System의 약자로 초소형 전자회로와 기계부품이 같은 칩 위에 집적된 시스템을 말한다. 이를 제작 ... 에 따른 저항값의 변화로 유량을 측정한다. MEMS 기술을 적용하여 제작된 유량 센서의 경우 수 nl/min의 유량을 측정할 수 있다.대부분의 유량 센서는 제작 시 증폭회로를 동일 ... 는 많은 수의 칩을 생산할 수 있다.③ 반도체 및 MEMS 제조 공정에서 사용되고 있는 사진 식각 기술(photolithography)을 사용하여 수만개의 다른 염기들을 하나

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.21

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[경영정보] CPU의 변천

CPU의 변천● CPU란?central processing unit(중앙 처리 장치)의 약어. 명령어의 해석과 실행을 제어하는 회로를 갖는 컴퓨터 시스템의 부분. 기억장치, 입 ... 인터페이스 등이 있다. 대개 대형컴퓨터의 CPU는 큰 캐비닛이나 회로기판으로 되어 있으나 소형 컴퓨터는 VLSI로 구성된 마이크로프로세서 칩 하나가 CPU의 기능을 수행한다.● i ... 아 타사의 호환제품에 이용될 수 있으므로 고유의 이름을 사용하게 되었다. 1993년 3월 발표되었다. 3.1백만개 트랜지스터를 집적했고 273핀의 PGA 패키지에 13와트 전력소모

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.12.02

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QFD가 상품개발에 중요한 이유

이후 가전, 집적회로, 건설장비, 합성수지, 섬유, 금속제품 및 소프트웨어의 개발에까지 QFD가 폭넓게 사용되고 있다. 미국에서도 1983년Fuji-Xerox에서의 성공을 계기 ... : Quality Function Deployment)는 신제품 개념정립, 설계, 부품계획, 공정계획, 그리고 생산계획과 판매까지 모든 단계를 통해 고객의 요구가 최종 제품과 서비스 ... 를 다시 부품특성과 공정특성, 그리고 생산에서의 구체적인 사양과 활동으로까지 변환하는 것이다.QFD의 전체적인 목적은 신제품의 개발기간을 단축하고 동시에 제품의 품질을 향상시키는 것이

리포트 | 14페이지 | 2,500원 | 등록일 2005.03.03 | 수정일 2016.03.22

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[전자재료]전자 재료(초전도체)

시간을 짧게 하기 위해서는 회로의 집적화를 높이면 되지만 자체 내의 발열이 문제가 된다. 그래서 조셉슨 소자를 이용한 초고속컴퓨터 개발이다. 조셉슨 소자를 사용한 고속컴퓨터의 개발은 소자의 ... 반도체를 만드는 과정에서 웨이퍼의 단결정 인상 공정에서 자장이 필요하고 전사 공정에서도 빛이나 빔을 집속하는 자장이 필요하다. 또 노광하기 위한 빛을 X선으로 하는데에는 초전

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.12.17

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[컴퓨터구조] RAM의 종류

에 혼용하는 것은 좋지 않다. 제조회사에 따라서 제조공정이 서로 다를 수 있기 때문에 같은 뱅크에 혼용하는 것을 가능한 피하는 것이 좋다. 물론 100% 안된다는 말은 아니다. 그러나 ... 데이터가 저장이 되면 따로 전기의 추가 충전이 없이도 데이터가 유지된다는 것을 말합니다. DRAM의 경우 따로 충전 회로를 두어 특정한 주기마다 전기의 충전을 해주지 않으면 데이터 ... 라면 DRAM에 비해 SRAM은 덩치가 4배나 더 큽니다.(반대로 이야기하면 같은 크기에 집적되는 용량은 1/4밖에 안된다는 소리입니다. 펜티엄 II가 단 512KB의 2차 캐시

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.07.21

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센서란

할 수 있고, 또한 반도체 공정을 이용한 미소 전극의 제작은 이온 검출에 있어서 전기화학적으로 많은 이점을 준다. 이러한 마이크로머시닝은 회로설계공정과 호환이 가능하므로 검출회로 ... 를 센서에 같이 집적하는 것이 가능하다.미소전극 제작공정도에서 보듯이 반도체 공정을 이용하면 비교적 간단한 공정으로써 미소전극을 제작할 수 있다. .. 습도 센서(응용원리:전기저항 ... 금속에 의한 수질의 오염을 검출하는 센서를 반도체 공정을 이용하여 제작하는 것을 목표로 한다. 이러한 센서는 크게 3부분으로 나누어진다. 시료의 채취를 담당하는 flow

리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2003.10.23

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[경영전략, 경영학원론] 삼성반도체

회복체 회사가 집적회로를 생산하고 있다. 1999말 기준 중국의 휴대전화가입자는 전세계가입자의 10분의 1인 4324만명으로(보급율 3%에 해당) 미국과 일본에 이어 세계 제3위 ... 의 단독 공장 투자로서는 역대 최대 규모다. 후지쯔는 이 공장에 65∼90나노미터(10억분의 1 미터) 기술 공정을 도입, 월 1 만장의 웨이퍼를 가공할 수 있는 능력을 갖추게 될 것 ... 2002년 만해도 세계 플래시메모리 시장에서 정상을 차지했지만 지난해 삼성, 도시바, AMD/후지쓰 합작사 등에 밀리면서 4위로 추락했다.인텔은 90나노 공정에서 생산한 플래시 메모리

리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.03.25

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[고분자재료]고분자재료 폴리이미드(polyimide)

된 이래 급속히 퍼지기 시작했다.또 필름 재료 및 성형 재료로서도 잇따라 [Kapton H] 필름 및 [Vespel] 수지가 상품화되었다.1970년대 후반, 반도체 집적화의 진전 ... 다. 이특성 때문에 항공 우주용 접착제 및 전자 회로기판에 많이 사용되고 있다.전통적으로 선형 방향족 폴리이미드는 polyamic acid(PAA) 형태로 만들어진 후 적절한 과정 ... 와 압력을 요하는 공정상의 문제점이 있다.1) 전기.전자 기기의 소형화,경량화, 고밀도화에따라 재료에 대한 요구는 더욱더 엄격함을 더하고 있다. 예를들면, 소형화에의해 부품의 수납

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.11.23

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[글로벌 경영] 디지털 세계를 움직이는 힘- 인텔(INTEL)

, 모바일 인텔R 펜티엄R 4-M발표.2 인텔 마이크로프로세서 공정 기술의 발전1968년 집적 회로 생산을 위한 인텔의 공정 기술은 갈수록 고도화되고 정밀해지고 있다. 인텔 ... 은 마이크로프로세서 설계의 고도화에 맞춰 혁신적인 첨단 제조 공정을 개발해 왔다. 차세대 제조 기술이 도입될 때마다 반도체 회로 식각 공정의 정밀도가 향상되고 있다. 최초의 마이크로 ... 가 집적되어 있다. 비용대비 성능 측면에서 실로 엄청난 발전이라 할 수 있다.이러한 기술적 발전은 인텔의 0.13 마이크론 공정과정에 기반 해 가능하게 되었다. 이 기술의 접목으로 인텔

리포트 | 26페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.10.02

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[북한과학기술]남북 IT 협력 동향

당면 목표는 초대규모 집적회로 생산의 공업화로 설정하였으며 32비트 초소형 컴퓨터의 공업화와 64비트 초소형 컴퓨터 연구개발에 집중 투자하였다.2000년에는 ‘강성대국 건설 ... 과학기술 추진의 목표는 인민경제의 현대화, 과학화, 그리고 정보화로 집약할 수 있다. 이는 인민경제의 전 부문을 정보기술로 무장시키고 생산공정 및 생산방법에 현대적인 최첨단 과학 ... 로 배치- 일부는 산업분야로 진출평양인쇄공업대학생산공정의 컴퓨터화를 실현화성정보처리학과 색채학 과목 개설컴퓨터에 의한 전자출판 체계 프로그램 및 서체 개발함흥화학공업대학화학실험

리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.10.16

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[반도체] 이온주입법

(Annealing)7. 소자 및 집적회로 기술에 미치는 영향이온주입 (Ion Implantation)1. 개요확산은 적당한 도펀트 농도와 온도가 있으면 일어나는 자연현상이다. 그러나 이온주입 ... 분포도 이론적으로 가능하다.또한 이온주입 공정은 저온 공정이다. 여기서 저온공정이란 실리콘 웨이퍼와 표면층이 거의 상온에 가깝다는 것을 의미한다. 이것은 부분적으로 이온주입을 하기 ... , 질화막등이 있는데 이 경우에는 이들 박막을 형성하는 과정이 감광막을 마스크로 사용하는 경우보다 부가되므로, 이온 주입이 저온공정에서 가능하다는 것은 큰 이점이다. PR을 마스크로 쓰

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.07

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