"박막공정"의 검색결과 입니다.

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"박막공정" 검색결과 1,201-1,220 / 3,367건

신소재공학 (spin-coating,ALD,CVD)

을 형성하는 것이다. 박막을 형성하는 과정은 실리콘 웨이퍼에 있는 물질을 이용하지 않고 주로 가스를 외부로부터 반응실로 인입하기 때문에 다른 공정과는 구별된다. CVD공정은 광범위 ... 에 의해 분해된 원자나 분자의 반응을 촉진하거나 형성된 박막의 물리적 성질을 조절하기도 한다. 공정중의 반응로의 진공도에 따라 대기압 화학 기상 증착(APCVD)과 저압 화학 기상 ... 에 분사한 후 건조와 열처리 과정을 거쳐 박막을 형성하는 방법으로 물질의 얇은 박막으로 코팅되어진 평면인 물제로 구성된 장치에 많이 사용된다. 여기에 코팅재료로 쓰이는 물질

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.12.20

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태양전지 소재 및 공정의 개발 동향

에 비해 낮은 변환 효율을 개선하고 박막 태양전지의 양산화에 대한 기술을 확보해야 한다. 박막 태양전지는 대면적 모듈을 일관 공정으로 생산할 수 있어야 하는데 대면적 박막 제조 시 ... 태양전지 소재 및 공정의 개발 동향15년 전 중국 인구 81%는 ‘자동차’를 타지 못했으나, 이제는 대부분 이용한다.2020년 이후, 뉴욕거래소에는 들어오는 석유보다 가져가는 양 ... 다.태양광 생산 프로세스는 Poly-Si 생산에서 Ingot/Wafer, 태양전지, 모튤, PCS, System 제작의 순서를 따르며 각 공정에서 관련업체들이 경기도, 충청도, 전라도

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.10.12

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반도체공정 (Metallization)

안정성GGGGGG공정 온도(℃)500-800-800800주: G(좋음), N(불가), Y(가능), D(어렵다), H(높다), B(최적), F(보통)(2) Al 박막의 성격① 장점 ... 을 많은 주의도 필요하다.Figure 1.1 Multi-metal level structureFigure 1.2 Two metal structure자세한 공정 스텝은 다음과 같다.(2 ... 의 집적 회로 금속 공정에의 적합성 비교성질AlAuMoPtTaW막형성방법증착증착Sputtering 또는 불화물로부터 CVD다른재료와 적합성G-GGGG표면접착GNG-GG패턴정의

리포트 | 18페이지 | 4,500원 | 등록일 2007.01.27

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[실험레포트] 온도변화에 따르 저항 변화 측정

는다기 보다는 화학반응을 일으켜서 고체 상태로 변화하는 것이다.● PVD & CVDPVD와 CVD 모두 반도체 공정이나 기타 산업에 많이 이용되는데 대개 PVD는 고품질의 박막 ... 이나 나노구조를 만들 때 쓰이지만 진공이 필요하므로 장비가 고가이며 증착속도가 느리고 CVD는 넓은 면적에 빠른 속도로 박막이나 나노구조를 증착시킬 때 사용한다. CVD도 PVD 못지

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.12.05

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폐전지 코발트 금속 회수 PPT

제 구리박막 전해질 - LiPF3, LIBF4 구성 물질 구성 물질 비율 (wt.%) LiCoO2 27.5공정 설계국내기술 코발트 회수 공정도 복잡한 공정 출처 . 한국 지질자원 연구소 ... 폐 리튬이온이차전지에서 코발트 회수목차 폐 리튬이온 이차전지 코발트 회수 이유 리튬이차전지란 공정 설계 국내기술 코발트 회수 공정도 설계시 고려사항 수정된 코발트 회수 공정 우리 ... 공정의 장점 설계를 마치며폐 리튬이온 이차전지 휴대기기 판매율 증가와 교체주기 단축 전기자동차의 동력원으로 사용 증가 폐 리튬이온 이차전지 발생 증가코발트 회수 이유리튬이차전지

리포트 | 27페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.06.02

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태양전지

merit가 큼태양전지는 조밀한 모듈 구조로 제조되기 때문에, 양산성이 풍부하고, 수요의 확대에 따라서 연속자동화 제조공정 등에 의한 저가격화를 실현할 수 있다.5) 확산광 ... 결정 실리콘 태양전지다결정 실리콘 태양전지는 단결정에 비해 효율이 떨어진다. 그러나 제조공정이 단결정에 비해 간단하고, 고생산성으로 인해 가격 면에서 저렴하여 다결정 실리콘 태양전지 ... 의 기술과 다량의 에너지가 필요하며, 필연적으로 태양전지 제조단가가가 높다. 실리콘 태양전지는 고효율이지만 가격이 비싼 문제가 있고, 이에 대한 대책의 하나가 박막형 태양전지이

리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.12.19 | 수정일 2017.09.05

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전기적 에이징에 따른 유기 박막 트랜지스터의 특성에 관한 연구

전기적 에이징에 따른 유기 박막 트랜지스터의 특성에 관한 연구국 문 요 약유기 박막 트랜지스터(Organic Thin-Film Transistor)에 대한 연구는 1980년대 ... 부터 시작 되었으나 최근에 들어서야 전 세계적으로 본격적인 연구가 활발히 진행되고 있다. 유기물을 이용하여 소자를 제작하게 되면 상온이나 혹은 100℃ 이하의 저온에서 공정이 가능 ... 하다. 때문에 스핀코팅이나 진공 증착 등의 단일 공정으로 소자를 제작할 수 있어 제작 공정이 간단하고 공정 단가가 저렴하다. 또한 유연성(flexibility)이 있어서 플라스틱 기판

리포트 | 53페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.10.13

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공주대 반도체제조공정 중간고사 족보

의 액증착(확산)2photolithography:wafer에 패턴을 만들기위한 사진찍는 공정3dry etch:포토공중에 의한 pr패턴을이 이용하여 박막에 패턴을 형성4ion ... impant:가스를 이온화하여 가속기를 통해 웨이퍼에 주입5thin films:금속막과 절연막을 증착(막을덮는공정)6clean:각공정 사이에엇 웨이퍼의 세정7cmp:박막의패턴에 따른 저하 ... 응력을 통한 구조적 완결성▶cvd:가스혼합물을 통해서 웨이퍼 표면 위에 고체박막을 증착시키는 공정1.화학작용은 화학적반응을 통하거나 열분해를 통해 이루어진다. 2. 박막에 사용

시험자료 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.11.08

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졸겔법에 관한 보고서 입니다.

로는 유기물의 열분해 및 증발과 같은 열반응에 의한 산화물 박막제조로 볼 수 있다. 따라서 화학반응을 잘 조절함으로써 유리와 세라믹스의 초미세구조공정을 잘 제어할 수가 있다.3. 졸겔법 ... 할 경우 생산효율을 높일 수 있다.(2) 단점- 생성물과 무관한 용매가 도입되고 건조공정의 시간과 비용이 생긴다.- 재료(알콕사이드)의 단가가 높다.- 수분에 민감하다.- 재연 ... 성이 떨어진다.5. 졸겔법 공정- 순서Uniform particle -> Sol -> Gel -> Aging -> Solvent drying -> Sintering졸의 제조에 있

리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.01.04 | 수정일 2016.03.30

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OCI머티리얼즈 기업분석

증가량에 맞춰설비를 증설하여 시장 내 공급을 증대하였다. SiH4의 신규 경쟁사 진입 및 a-Si 박막태양전지의 성장 정체로 SiH4의 공급과잉상태가 지속되었다. 중국에 NF3 ... 는 기존 컴퓨터나 IT기기를 벗어나 백색가전용, 자동차용 반도체 등으로 그 사용범위가 점점 더 넓어지고 있으며, 미세 공정의 성장 등으로 수요처가 다양해지고 있어 반도체 산업은 꾸준히 ... -Si 박막 태양전지의 성장 정체로 수요 성장이 둔화되고 있다.(회사의 경쟁 우위 요소)OCI머티리얼즈는 자체 플랜트 설계 기술을 보유하고 있어 생산설비 증설에 따르는 비용이 다른

리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.12.22 | 수정일 2014.01.20

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ALD (Atomic layer Deposition) 원자층 증착

한층을 조절하고자 하는 기술을 말한다.최근 반도체 소자의 고집적화에 따라 박막 제조공정이 나노(nano)급 이하로 미세화되고 있으며 원자층(atomic layer)의 박막조절 ... 이 가능한 공정개발이 요구되고 있다. 따라서 나노크기(nanoscale)로 증착할 수 있는 다양한 박막 증착기술이 개발 되고 있다. 나노크기 박막 증착기술은 크게 PVD법과 CVD법 ... 함으로써 박막의 조성 및 두께 조절이 용이하며, purge 공정을 삽입하기 때문에 불순물이 적고 박막 도포성이 매우 우수하며, 화학반응시 형성될 수 있는 불순물 입자의 형성을 효과

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.07.05

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디스플레이 기술현황 및 전망

개발 현황기술명개발단계개발내용개발주체레이저전사공정R&DPilotRIST 방식을 이용한 patterning2.4'' (222 × 284 × RGB) AMOLEDKodakLIPS 방식 ... 을 이용한 TFT 결정화 및AMOLED 화소형성기술27 inch AMOLED 개발SonyLITI 방식을 이용한 AMOLED 제조방법4세대급 설비 가동300 ppi급 고해상도 공정 ... patterning 에 의한 organic thin film transistorDupont레이저 전사용공정 설비R&D레이저 전사용 설비개발Shibauramechatronics200 mm 이하

리포트 | 29페이지 | 3,500원 | 등록일 2013.12.05 | 수정일 2014.02.26

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고분자재료실험 예비보고서(ITO)

및 수율을 향상시킨다.4. 실험이론 및 배경Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room 에서 빛에 노출 ... 되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다.Cleaning & Wet-Station 의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향 ... 을 미치게 된다. 각 공정 후 Glass 표면의 오염물은 기하급수적으로 늘어나게 되고 이 오염물에 의해 반도체 소자의 수율은 급격히 감소하게 된다. 반도체 세정 공정은 Glass

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.11 | 수정일 2022.09.29

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[재료공학]박막의 두께 측정방법

박막의 두께 측정 방법서문반도체 제조 공정 중 중요한 공정인 두께 측정에 대한 조사를 동하여 반도체 설계 시 표면의 거칠기와 두께 측정이 얼마나 반도체의 성능을 좌우 할 수 있 ... 는가에 대하여 조사하고 또한 종류는 어떤 것 들이 있는지에 관하여 조사한다.반도체 박막두께 인증표준물질최근 반도체 소자가 고집적화ㆍ소형화됨에 따라 반도체 소자 제조공정에서 사용 ... 되는 박막의 두께가 단일 원자층 수준으로 급격히 얇아지고 있다.반도체 소자는 실리콘 웨이퍼에 얇은 막을 입힌 후 그 표면에 식각이나 산화ㆍ증착ㆍ배선 등 다양한 공정을 거쳐 만들어지

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.11.18

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판매자 표지

x-ray 리소그래피 정리

는 다음과 같습니다 : 실린콘 웨이퍼 위에 얇은 박막을 입힙니다.( SiC, Si3N4)Onto this layer, a chromium etch stop layer and the ... masking layer of 300-500 nm of a high-atomic number material is evaporated (e.g. Au, Ta).이 박막에 크롬 식각 ... lithography 공정은 x-ray가 resist 분자내의 원자에 흡수될 때 생성되는 광전자에 의해서 일어나는데, 광전자에 의해 여기 이온화, 자유반응기의 생성 등이 일어나 기존의 화학

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.07.28

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XRD 분석, SEM 분석 예비레포트

, 플라스틱, 조제약, 박막 코팅, 세라믹스 및 반도체를 포함하여 다양한 범주의 물질을 분석하기 위한 고성능, 비파괴적 분석기술이다. 산업과 연구 기관을 통해, XRD는 원료 조사, 특성 ... 하면서 마무리 연마 후의 피검면을 경면화하는 작업공정이다. 먼저 예비 폴리싱으로 조립도의 폴리싱 분말을 쓰므로 연마조흔 및 연마 영향층을 신속히 제거할 수 있다. 이어서 마무리 폴리싱킨다.

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.11.26 | 수정일 2020.05.13

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진공 및 박막의 전제척인 개념 및 박막의 3가지 성장모델, CVD & PVD 비교 정리

, 초고진공으로 나눌 수 있다.저진공은 1atm~10^-3Torr 정도이고 음식건조, 네온사인, 플라즈마공정, LPCVD 같은 곳에 쓰인다. 고진공은 10^-3~10^-7Torr ... 정도이고 기체의 평균자유행로가 진공용기보다 길다. 그러므로 공기분자간의 충돌보다 용기내벽과의 충돌이 더 많다. 이 환경은 진공관제작, CRT모니터, 이온주입공정 ... 고 각 작업환경에 알맞은 진공도가 존재하는 것이다.이러한 진공이 우리에게 필요한 이유는 공학적으로 박막증착 할 때 깨끗한 환경을 제공해주고 박막증착 방법에 따라 다양한 진공상태가 필요

리포트 | 8페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2022.11.21

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반도체 박막 두께 측정법

Ⅰ광학적 방법1. 박막의 색을 이용하는 방법실리콘 산화막과 질화막은 웨이퍼에서 색이 다르다. 웨이퍼에 빛이 들어 왔을 때 일부는 산화막에 반사되고 일부는 통과해서 실리콘에서 반사 ... 된다. 산화막에서 반사된 빛과 실리콘에서 반사된 빛이 간섭을 일으켜 색이 나타나게 된다.산화막의 색의 세 가지 요인으로써 투명 박막의 특성인 굴절률, 측정각도, 막의 두께를 들 수 ... 이상의 두께를 측정하는데 유용하다. 이 장치는 박막에 수직으로 입사된 단파장 빛의 반사파를 검출한 후, 이것의 위상 변화를 근거로 주어진 박막에 대한 흡수 스펙트럼을 알려준다. 이

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.03.31

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07CVD (2)

의 화합물을 공급하여 기판과의 화학적 반응을 유도함으로써 반도체 기판 위에 박막층을 형성하는 공정 외부와 차단된 반응실 안에 기판를 넣고 Gas를 공급하여 열, 플라즈마, 빛(UV ... or LASER), 또는 임의의 에너지에 의하여 열분해를 일으켜 기판의 성질을 변화 시키지 않고 solid Deposition를 이루는 합성 공정CVD법의 원리Gas흐름기판CVD법 ... (s) + 4HCl(g)CVD법의 반응표면에서의 화학반응이 빠르면, 박막의 퇴적속도는 원료가스가 기판 표면에 도달하는 비율로 결정(공급률속) 원료가스가 기판 표면에 도달하는 것

리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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반도체공정-유전체증착

반도체 공정 – 유전체 증착목 차 1. 반도체제조공정 - 박막증착 2 . 박막증착방법 - 물리증착 (PVD) - 화학증착 (CVD) 3 . 박막증착과 박막의 특성 - 유전체증착 ... 진공으로 유지하거나 박막을 입히는 상대물질을 가열 , 혹은 진공과 가열 두가지를 동시에 이용하여 상대물질을 기상으로 만들어 타겟 물질에 입히는 기술 - 공정시간이 빠르고 공정 ... - 공정별로는 용액을 스핀코팅하여 박막을 얻을 수 있는 spin-on 형 물질과 기 체 또는 감압상태에서 박막을 얻을 수 있는 화학기상증착법 (CVD) 물질로 분류 spin-on 및

리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.05.19

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