"Nanoimprint Lithography(나노임프린트 리소그래피)"의 검색결과 입니다.

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"Nanoimprint Lithography(나노임프린트 리소그래피)" 검색결과 101-118 / 118건

박막재료의표면처리및식각실험(예비).

손상(Charge Damage)이 없는 0.1 마이크론 이하의 선폭 식각 기술-50nm 이하의 선폭 리소그래피 기술-나노 스케일 초미세 박막 증착 기술-저온 탄소 나노튜브성장 기술 ... 공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나눠진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정은 박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이다. 본 ... (patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용(3) 패턴된 산화막을 반응성 이온 식각장치를 사용

리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.09.23

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Soft lithography

실험기법 보고서 4수요일 5조Soft lithography과목명 :제출일 :담당교수 :학번 :이름 :AbstractNano imprint가 주로 단단한 스템프를 이용하여 나노 ... 적인 미세패턴 가공에 있어서는 경제성과 현재의 감광기술 자체의 한계성 때문에 새로운 대안기술이 개발되고 있다. 이러한 기술 중에서 대표적인 기술로는 soft lithography ... 스케일 패턴을 쉽게 제작할 수 있는 반면에 soft lithography는 주로 soft한 mold를 이용하여 패턴을 제작하는 공정을 말한다. 지금까지 주로 PDMS가 mold

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.16

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플라즈마 생성과 응용

(Lithography) 공정에서 사용되며 양질의 탄소 나노 튜브 성장 공정에서도 사용될수 있다. 강력한 EUV를 내는 광소스는 리소그래피에 사용되며 전자빔, 이온빔과 같은 전하 ... 에서 사용되는 저온 플라즈마의 종류-. 응용분야 중성입자 빔의 응용분야로는 차세대 반도체 공정에서 나노 스케일 반도체 식각 장비, 나노 스케일 증착 공정 및 나노 스케일 리소그래피 ... 혹은 원자와 음전하를 갖는 전자가 생성된다. 이러한 양전하의 이온과 전자들이 다수가 모여 전체적으로 전기적인 중성을 가지며 이렇게 구성된 입자들의 상호작용에 의해서 독특한 빛

리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.29

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No.5 나노 크기 패턴을 위한 나노 리소그래피(논문형식자료)

나노 크기 패턴을 위한 나노 리소그래피Nano lithography for nano size patterningAbstractLithography for nano ... efforts for making nano pattern. This study will show NIL(Nano Imprinting Lithography), LIL(Laser ... Interference Lithography), SAL(Self Assembly Lithography). LIL can change nano pattern period easily

리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.14

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증착기를 이용한 반도체 공정

한다.5. 리소그래피 (Lithography)리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 이 공정은 모든 ... 에 고온의 환경이 필요합니다.PVD는 고품질의 박막이나 나노구조를 만들 때 쓰이지만 진공이 필요하기 때문에 장비가 고가이며 증착속도가 느린 반면 CVD는 넓은 면적에 빠른 속도 ... 물체 표면에 응축해서 부착하는 것을 이용하여 표피(表皮)를 붙이는 방식이다.모든 물품에 적용될 수 있다는 것이 특색이며, 천에 알루미늄을 붙이거나 플라스틱에 은을 붙일 수도 있

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.21

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DAC(design automation conference 2007) 참관기

을 수용할 수 있는 양산 체제를 갖추고 있으며, 45나노 공정을 본격적으로 시작하는 단계이다. IBM은 삼성전자, 차터드 등과 제휴하여 개발하고 있는 45나노 공동 플랫폼 기술 ... 을 보였다.DFM의 경우 기존의 OPC(Optical Proximaity Correction:광학적 보상방법)를 포함한 리소그래피 시뮬레이션(lithography s ... 44th Design Automation Conference를 다녀와서DAC(Design Automation Conference)는 세계적인 반도체 설계 자동화 컨퍼런스 및 전시

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.06.03

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[과학] 나노 테크놀리지

)을 이용하는 방법나노 각인 리소그래피(Nano-Imprint Lithography : NIL)는 나노 패터닝 기술의 하나이는 리소그래피에서 나타나는 회절, 스케터링, 화학 반응 등 ... 의 문제점들을 해결나노 각인 리소그래피(Nano-Imprint Lithography:NIL) 는 나노 패터닝 기술의 하나이다.나노 조작(Nano manipulation)원자나 분자 ... .1nm에 이르는 영역을 관찰 나노 리소그래피, 나노 영역에서의 조작 빛 핸들링 등의 기능SPM의 종류원자현미경 중 최초인 STM 부도체 시료의 측정을 가능케 한 AFM MFM

리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.01

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리소그래피

◈리소그래피◈- 리소그래피를 정의하기 전에 먼저 알아두어야 할 것은 나노과학, 나노기술이란 무엇인가 하는 것이다. 일반적으로 나노과학, 나노기술이란 다루는 대상의 크기가 나노영역 ... 다고 생각되어지고 있어서 새로운 방식의 패터닝 방식이 요구되고 있다고 한다.이러한 노력들에 NGL (Next Generation Lithography) 라고 불리는 새로운 리소그래피 ... Exposure공정에 사용하는 빛을 극자외선을 이용하여 하는 것이다.기존의 광리소그래피(optical lithography) 개념을 10∼14nm 파장까지 연장하는 기술로 현재의 설계 및

리포트 | 3페이지 | 4,500원 | 등록일 2004.12.20 | 수정일 2021.09.12

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[반도체 산업분석] 삼성전자의 반도체 산업

) – 메모리 분야의 생산능력에서 지속적으로 최고수준의 경쟁능력 보유 - 경쟁국에 비해 빠르게 생산비용을 절감 대량생산체제 구축 다양한 공정혁신을 통해 생산비용을 절감 나노임프린트 ... 성 향상을 통한 비용우위 - 경쟁국에 비해 빠르게 생산비용을 절감대량생산체제 구축메모리 분야의 생산능력에서 최고수준의 경쟁능력 보유- 나노임프린트 공정(nanoimprint ... 공정(nanoimprint lithogra phy·NIL)기술 개발Assessing Resource CapabilitiesC4 marketing 능력 -수요자에 대한 공격적인

리포트 | 47페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.02.08

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SiO2 박막의 식각 및 PR 제거

키는 패터닝이 갈수록 앏아지기 때문이다.Photo-Lithography공정 개념도(1) Lithography의 종류DUV 광원은 200㎚ 또는 그 이하의 CD 선 폭을 인쇄하기 위 ... )광학 리소그래피의 생산지식을 기초로 한다. 이는 UV 파장이 13㎚인 플라즈마 레이저를 사용하며 이는 약 30㎚이하의 이미지를 인쇄할 것으로 기대되며, 광원은 EUV 방사를 발생 ... 공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공 정으로 나뉘어 진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정은 박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.19

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박막재료의 표면처리 및 식각실험(예비)

한다.응용분야적용기술적용분야반도체 및 Nano 기술-하전 손상(Charge Damage)이 없는 0.1 마이크론 이하의 선폭 식각 기술-50nm 이하의 선폭 리소그래피 기술-나노 ... 공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나눠진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정은 박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이다. 본 ... (patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용(3) 패턴된 산화막을 반응성 이온 식각장치를 사용

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.07.28

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[공학]플라즈마와 투명전극, 투명전극 재료

장비, 나노 스케일 증착 공정 및 나노 스케일 리소그래피(Lithography) 공정에서 사용되며 양질의 탄소 나노 튜브 성장 공정에서도 사용될 수 있다. 강력한 EUV를 내는 광 ... ) 공정, ALD(Atomic Layer Deposition) 등이며 display panel 제조공정, 탄소나노 튜브(CNT)의 성장 등의 공정에서 사용된다.? 반도체 기술 분야 ... 전하를 갖는 전자가 생성되는데, 이런 과정을 이온화 과정이라고 한다. 양 전하인 이온과 음 전하인 전자들은 다수가 모여 군집활동을 하며, 전체적으로 전자와 이온의 수가 거의 같

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.13

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흡착원자의 거동에 대한 연구동향과 미래

까지 이루어진 나노스케일의 주기적인 구조는 이들을 “Template"으로 이용하여 흡착된 원자와 분자들을 나노 구조로 구성하여 리소그래피(lithography) 기술로는 만들 수 없는 크 ... 것이다. 현재 삼성전자와 하이닉스 반도체가 ALD기술을 적용한 나노 급 메모리 반도체 개발을 활발히 진행시키고 있다.◎서론-단결정 표면에서 나노스케일의 주기적인 구조 ... (periodic structure)를 만드는 것은 기초연구를 위해서도 매우 흥미로운 것이지만, 나노 기술을 산업화하고 여러 가지 응용을 가능하게 하기 위해서도 꼭 필요한 연구이다. 지금

논문 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.11.16

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[화학공학] [실험보고서]박막의표면처리 및 식각 보고서

어내는 것이다.2. Soft Lithography? 기존의 photo 공정이 고가인데다가 고에너지 등이 요구되고 빛의 산란으로 나노 단위 미세 패턴 성형에는 어려움이 있 ... 으로써고 있다.(2) Lithography 란?? Lithography는 리소(돌) + 그라피(인쇄술)의 합성어이다. 바로 석판인쇄술이라고 할 수 있다.1. Photo ... Lithography? 빛의 직진성을 이용한 형상 성형 기법이다. 일정한 빛에 민감한 재료로 만들어진 필름이나 액체(이를 photoresist라 부름)를 일종의 mask를 투과시켜 형상물을 만들

리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.06.14

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[나노가공] Nano Technalogy(나노공학)

Nano Technalogy - EUVLExtreme – UltraViolet Lithography (극단파 자외선 노광장비)나노 형상 가공 기술접촉 ... EUVLLithographyMoore's Law반도체 칩 내의 집적도는 매 18개월 마다 2배로 증가한다.Lithography제작하고자 하는 회로를 mask에 그린 후 이를 wafer ... 의 throughput 과 관계EUVL 의 장점① 기존의 광리소그래피(optical lithography) 개념을 10∼14nm 파장까지 연장하는 기술로 현재의 설계 및 요소기술

리포트 | 16페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.10.01

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나노테크놀로지와 화학공업에의응용

양자점 정렬 방법은 전자 빔 리소그래피(lithography)를 이용하여 나노 패턴을 형성시킨 후 δ-건식-식각(dry-etch) 방법으로 정렬된 양자점을 얻을 수 있었다. 그러나 ... 기술에 관해서는 아직 많은 것이 알려지지 않은 상태이며 일반인들에게도 생소한 분야로 남아있다.특히 나노 기술은 의학, 생물학, 정밀화학 등 무궁무진한 potetial을 가지고 있 ... , 그리고 화학공학으로써의 나노기술을 현위치에대하여 포괄적인 내용을 적었다.◇ 차 례 ◇Ⅰ.서론제1장 나노기술의 정의 및 등장 ???????????????? 1제2장 나노기술이란

리포트 | 42페이지 | 5,000원 | 등록일 2005.06.05

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[나노] 나노 프린팅

에는 너무도 구별하기가 어려운 단점이 있다. 그리고 이와 함께 diamond nanoimprint lithography 가 있는데 이 공정은 스템프를 제작할 시에 diamond ... 하여 새로운 기능을 발현시키는 소위 bottom-up 방식이다.나노기술의 다른 특징으로는 과학기술의 발전에 따른 환경, 에너지 등 지구 환경적 차원의 문제가 도래할 것으로 예견 ... 되며, 이에 대한 해결책으로 나노기술에 의한 기술적 breakthrough 로 한정된 지구자원의 효율적 사용 및 환경보존이 가능하다는 것이다.◎ 나노 기술이란최근, 21세기를 이끌어나갈

리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2003.06.11

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[미세가공] 맴즈와나노

다.현재 연구중인 대표적인 4가지 제조방식의 장단점을 요약해 보면장점단점포트리소그래피(photo lithography : 노광-전사기술)현재 마이크로 침제조에 사용되고 있는 방식 ... 어 반도체 일괄 가공방식에 의한 장점을 최대한 살릴 수 있다는 점이다.③ 초단파장의 X-RAY 리소그래피를 이용한 LIGA 기술 : LIGA 가공기술은 구조물 제작에 빛(X-선 ... 터닝 기술에 나노 구조를 제작(반도체), 대단히 정확하나 가격이 너무 비쌈기존의 반도체 집적공정기술의 연장선상에서 생각하는 것으로, 즉 박막을 증착하고, 리소그래피 패터닝

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.18

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