"Nanoimprint Lithography(나노임프린트 리소그래피)"의 검색결과 입니다.

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"Nanoimprint Lithography(나노임프린트 리소그래피)" 검색결과 61-80 / 118건

연세대 창의설계 보고서

되면서 여러 원치 않는 물리적 현상이 발생하게 되었다. 대표적인 것이 short channel effect로 게이트 길이가 나노 스케일로 짧아지면 gate에 의한 수직 방향 전계 ... (ART) 방법을 사용하여 3D 채널 구조를 제작한다. 먼저, Si substrate에 유전체 물질층을 증착해주고 포토리소그래피(Photo-lithography) 공정이나 반응 이온 ... Si를 기반으로 하는 반도체는 스케일링을 통해 지속적인 기술적인 향상을 이루어왔다. 스케일링은 일정한 반도체 기판 면적에 더 많은 소자를 집적하게 하여 성능을 향상시키는 것이

시험자료 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.06.29

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재공실 - 은 나노 잉크 예비보고서

터닝을 완성할 수 있다.② 재료절감 및 친환경기존 반도체 제조공정의 핵심인 “리소그래피(Lithography)”는 서로 다른 회로 모양을 층층이 쌓아가며 원하는 구조의 다층 회로 ... polyol processing에 대하여 알아보자.현재까지 잉크젯 프린팅을 이용한 소자를 만들 때 가장 많이 사용되고 있는 잉크는 전도성 잉크인 실버나노 잉크이다. 이 실버나노 잉크 ... , Electrolysis Method 등 여러 가지 방법이 있다.이 중 Polyol Process는 실버 나노 입자를 만드는 대표적인 방법 중 하나로 산화력이 강한 은의 질산염

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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40나노_기술_응용(소자)

튜브)란?탄소 육각 망면과 단층 나노 튜브CNT-FED에 사용되는 나노 기술고정밀 미세화를 위해 photo lithography기술을 이용함으 로써, 게이트 전극을 CNT음극의 바로 ... 기술을 통해 만들어진 고분자가 그 자체로서 특정한 하 나 이상의 기능을 수행하는 것입니다. 특히 메모리 분야에서 각광 받는 기술인데, 나노 소자를 이용하면 분자 하나가 하나 ... 자 트랜지스터 구조기존 트랜지스터의 구조단일전자 소자에에 사용되는 나노 기술전자 한 개 한 개를 제아하기 위해서 제어하는 나노디바 이스의 기능블록인 양자점(Quantum dots)을 만

리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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예비보고서. 은 나노 잉크를 이용한 잉크젯 프린팅

1) 기존 반도체 제조공정의 핵심인 “리소그래피(Lithography)”는 서로 다른 회로 모양을 층층이 쌓아가며 원하는 구조의 다층 회로를 만드는 공정으로서, 금과 같은 고가 ... VI. 은 나노 잉크를 이용한 잉크젯 프린팅신소재공학부1. 반도체 제조 공정 중 기존의 lithograph 공정과 잉크젯 프린트 공정의 차이에 대해 조사하고 잉크젯 프린팅 공정 ... ) lithography 과정은 다음과 같다.① 건조- 감광제와 웨이퍼의 접착력을 향상시키기 위해 핫플레이트에서 수분을 증발시킨다.② HMDS처리- 이 부분은 선택적으로 하는 공정이며 필요에 따라서

리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.07.22

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전자빔(Electron Beam Lithography)

리소그래피(Nanoimprinting Lithography)에서 가장 핵심적인 공정인 마스터 또는 스템프제작에 있어 필수적인 기술이다. ▪ e-beam projection을 이용 ... 하거나, 현상된 레지스트 자체를 마스터로 하여 복제하는 방법을 이용한다 ▪ 이 전자 빔 리소그래피를 이용한 가공방식은 나노크기의 집속 빔을 원하는 패턴에 따라 하나씩 주사하게 되 ... 전자빔 리소그래피 기술 개발 서울대 재료공학부 김기범 교수팀AIPEL(Atomic Image Projection Electron-beam Lithography)로 명명한 이 기술

리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.07.31

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나노 임프린트 리소그라피

1. 리소그래피(Lithography)리소그래피는 반도체 집적회로소자의 패턴을 제작하는 기술이며 , 나노리소그래피(Nanolithography)는 나노스케일의 선폭을 패턴 ... Nanolithography) 및 마이크로접촉 프린팅 방법등 여러 방식들이 개발 응용되고 있다. 최근에는 나노임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography,NIL)에 대한 R&D ... 압연하는 방식에 의해 간단히 미세구조를 전사할 수 있는 나노임프린트 방법이 개발됨에 따라 종래의 하향식 미세가공방법으로는 불가능했던 곡면구조등 복잡한 형상의 구조나 다층구조의 가공

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.11

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Quantum dot을 활용한 나노 소재 제작

로 만드는 것을 뜻한다. 이러한 접근법은주로 리소그래피 (lithography)를 통해 이루어졌으며, 나노입자의 크기를 쉽고 정확하게 조절할 수 있을 뿐만 아니라 원하는 위치에 배열 ... 신재생에너지공학실험1 (New Renewable Energy Engineering Experiment 1)Preliminary ReportQuantum dot을 활용한 나노 소재 ... 제작2014.05.26.1. 주제 : Quantum dot을 활용한 나노 소재 제작Quantum dot화학적 합성 공정을 통해 만드는 나노미터(nm=10억분의 1m) 크기 반도체

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.11.29

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NGL(Next Generation Lithography)에 대한 조사

된 stamp를 substrate 위에 spin-coating된 고분자 소재의 resist 표면에 눌러 나노구조물을 반복적으로 전사하는 기술이다. 이 Nanoimprint ... 기술은 기본이 된다.현재 10nm급 나노구조물이 제작이 가능하다고 보고되고 있는데, 이는 현재까지 꾸준히 발전해 온 반도체의 공정기술 즉 Optical lithography 기술 ... 적, 경제적 문제들을 극복 할 수 있다는 점에서 관심이 집중되고 있다.왼쪽 그림은 Nanoimprint 공정을 개략적으로 나타낸 그림이다.나노크기의 패턴이 요철형태로 형성된 스탬프

리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.05.15

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나노과학 리소그래피기술

는 방식으로 resist를 가공한다. 이 전자 빔 리소그래피를 이용한 가공방식은 나노크기의 집속 빔을 원하는 패턴에 따라 하나씩 주사하게 되므로 넓은 면적을 패터닝 하기에는 많 ... )의 형태와 거의 유사한 크기의-을 만들기 위해 전자빔 리소그래피(Electron-beam lithography)법을 이용하였다. 이를 이용하여 DNA들이 패치 형태의 홈에 결합 ... 목 차① 나노기술 ② Lithography ③ Electron-beam lithography ( 정의, 원리, 장단점, 기술현황 ) “ 나노기술 Lithography

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.08.22

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Self assembly

Nanotechnology Bottom-up 서론… Lithography / Patterning 원료 Nano 크기 물질 E-beam lithography Nanoimprint Technology ... . CHEM. SOC. 2007, 129, 6082-6083목차 서론 - 나노 기술 ( nano technology) - 나노 기술의 접근법 본론 - Method of Synthesis ... - Measurement - Result 결론 - Result and discussion - References나노 : 그리스어로 난쟁이를 의미함 나노미터 (1nm = 1x10

리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.06.09

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나노 패터닝 기술

나노기술 자 체 역시 엄청난 시장 확대가 있을 것으로 예상된다.Ultraviolet nanoimprint----------------------■ 가열방식의 나노임프린트 리소그래피 ... 나노임프린트 리소그래피(ultraviolet nanoimprint lithography, UV-NIL)를 대안으로 제시■ UV-NIL의 특징△ 이 공정기술은 UV 경화소재를사용 ... 의 패턴 형성에 나노임프린트 기술을 적용하고 있고 앞으로 비메 모리 반도체 등으로 영역을 확대할 예정이다. 뿐만 아니라 초미세 패턴 광소자 개발을 목표로 나노임프린트 기술을 연구

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.07

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[재료공학실험]리쏘그래피 (lithography)

의 나노임프린트 리소그래피(nanoimprint lithography, NIL)은 선폭 100 nm 이하의 나노구조물을 경제적으로 제작할 수 있는 대표적인 나노패턴닝(nano ... )는 다층화 정렬작업에 불리하게 작용한다. 이러한 문제점들을 해결할 수 있는 방법으로는 상온저압 프린팅 공정기술인 UV나노임프린트 리소그래피(ultraviolet ... nanoimprint lithography, UV-NIL)를 들 수 있다.UV-NIL은 1996년 Philips 연구팀인 Haisma 등에 의해 발표된 바가 있으나 반도체공정에 적용하기 위한 체계

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.24

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[공학]나노임프린터 공정과 연구동향

하여 프린팅함.● 나노임프린트 리소그래피(Nanoimprint lithography, NIL)나노임프린트 리소그래피(Nanoimprint lithography, NIL) 기술은 경제 ... 은 상태이며 일반인들에게도 생소한 분야로 남아있다. 본 글은 나노기술에 관한 짧은 소개를 통해 나노기술이 좀 더 친숙한 분야로 다가오길 바라는 마음이다. 나노(nano)란 그리이스어의 ... 에는 그 보다 더 작은 세계, 그러니까 1백만분의 1인 마이크로 세계보다 1천분의 1만큼 더 작은 나노세계에 대한 제어기술이 새로운 시대를 열 것이다.● 나노기술의 등장나노기술이 본격

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.09.21

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nanotechnology

)을 이용하는 방법나노 각인 리소그래피(Nano-Imprint Lithography : NIL)는 나노 패터닝 기술의 하나이며 리소그래피에서 나타나는 회절, 스케터링, 화학 반응 ... 등의 문제점들을 해결나노 각인 리소그래피(Nano-Imprint Lithography:NIL) 는 나노 패터닝 기술의 하나이다.나노 조작(Nano manipulation)원자 ... 한 특징나노 공정 및 제조 기술Top-down 접근 방법 - 리소그래피는 DRAM(Dynamic Random Access Memory)를 기준으로, 2005년에는 16Gbit-0.1

리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.06.23

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Thermal 나노임프린트에 대해

여 스탬프를 제작하기도 하지만 수백 나노 이하의 패턴 크기를 갖는 나노임프린트의 경우 스탬프 제작용 기판에 포토 리소그래피나 전자빔 리소그래피에 의해서 패턴을 성형하고 도금공정을 통하 ... 1. Thermal 나노임프린트란?나노임프린트 기술은 폴리머 레진을 성형하는 방법에 따라서 UV 나노임프린트와 thermal나노임프린트로 나뉜다. UV 나노임프린트는 스탬프 ... 를 이용하여 레진에 패턴을 가형성한 후 UV를 조사하여 모노머 형태의 레진을 폴리머화 하여 성형하는 방법이고, thermal 나노임프린트는 UV 대신 열 에너지를 사용하여 폴리머

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.09.24

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리소그래피

를 이용하여 30nm부터 100μm 사이의 패턴 또는 구조물을 생성하는 공정이다.나노 각인 리소그래피(NIL, NanoImprint Lithography), 마이크로 접촉 인쇄 ... 1. 리소그래피란(lithography)? 리소그래피는 리소(돌) + 그래피(인쇄술)의 합성어로 직역하면 바로 석판인쇄술이다. 여기서 기원한 것이 리소그래피이다. 인쇄술이라고 하 ... )되면 negative(-) 타입이고, 빛을 받은 부분이 녹아내리면 positive(+) 타입이라고 한다.2.리소그래피(lithography)의 종류◎리소그래피의 분류 : 광학

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.07.19

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프로젝트공정, 개별공정, 뱃치공정, 대량생산공정, 연속흐름공정 등을 분류하여 특정을 비교하시오

된다. 반도체 리소그래피(lithography)는 현대의 접적회로로 구성되는 트랜지스터의 심장격인 미세한 채널과 게이트들을 반도체 위에 프린트하여 마이크로 칩을 만드는 공정을 가리킨다 ... . ‘마스크리스 리소그래피(Maskless lithography, ML2)’라 불리는 기술을 사용하는 이번의 매직(MAGIC, Maskless lithography for IC ... 에서 평가해야 하는 대안의 수가 급격히 증가하기 때문에 그 절차는 어려워진다. 따라서, 컴퓨터를 도입한 정교한 수학적 기법이 사용되어져야만 한다.- 프로젝트 관리의 주요 문제: 전체

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.06.18

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박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거 (반도체 식각)

용운 개념의 플라즈마 소스로 대체하는 기술이다.??◎반도체 및 나노 기술 분야??- 하전 손상(Charge Damage)이 없는 0.1 마 이크론 이하의 선폭 식각 기술? - 50 ... nm 이하의 선폭 리소그래피 기술? - 나노 스케일 초미세 박막 증착 기술? - 저온 탄소 나노튜브성장 기술? - Organic 기판에 상온 박막 증착 기술? (예: 유리 ... (Lithography)는 원래 석판화를 의미하는 프랑스어에서 온 말이다. 반도체에서는 그 소자형성에 마이크론()단위의 가공정도가 필요하게 되므로 사진기술로 원판을 만들고 이를 마스크

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.13

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나노기술의 정의와 활용분야

다.③ 전자선 리소그래피Maskless Lithography의 하나로 기판에 직접적인 나노패터닝을 할 수 있는 가장 강력한 툴이다. 하지만, 생산성이 매우 떨어져 양산에 적용 ... 의 제조기술은 비약적으로 향상될 것이다.?우리나라에서는 2002년 나노기술개발촉진법을 제정하여 국가적으로 나노기술의 육성 및 발전을 꾀하고 있다. 법률적으로 나노기술은 나노미터 크기 ... 리소그래피무어의 법칙(칩 하나에 들어가는 트랜지스터의 숫자가 1년마다 2배로 증가한다)이 깨어질 위기였던 2000년대 초반 193 nm 이머젼(immersion) 리소그래피 기술의 본격

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.26

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ITRS

리스트의 프린트보다는 더 작은 문제이긴하다. 에칭의 관점에서 FEP 리소그래피 PIDS 그리고 TWD 디자인 사이의 공동 작업은 결과를 가져올 수 있다. 큰 프린트된 게이트와 에칭 바 ... 화 생산성과 성능을 역사적으로 전례 없는 이익을 달성하는 주요 수단이다. 이러한 이득은 전통적으로 새로운 리소그래피 도구, 마스크, 포토레지스트 재료 및 중요한 차원 식각 공정 ... 이동도를 갖는 트랜지스터 채널을 특징으로 한다. 이러한 새로운 재료 중 강화 채널 이동도를 대상으로 한 잠재적인 해결책은 다음과 같다.: 왜곡 Si, Ge 및 탄소 나노 튜브마지막

리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.30

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