"고온플라즈마"의 검색결과 입니다.

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cvd 플라즈마 원리 원자 흡수 분광계 안과 수술 icp-oes ICP 레포트 진공증착 탄소나노튜브

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"고온플라즈마" 검색결과 1,021-1,040 / 1,392건

박막의증착

게 확장시켜왔다. CVD 공정은 여러가지 방법으로 분류될 수 있는데, 먼저 사용되는 반응의 활성화 에너지원에 따라 thermally-activated CVD , plasma ... (Atomi 고온을 생성하는데 아주 어려움이 많게 되고, 플라스틱이나 글라스등 저융정의 기판을 사용할수 없게 된다. 또한 박막원자의 기판중에서의 확산, 상온에서의 공정중에 열응력 발생등 ... 의 문제를 일으킨다. 이러한 단점을 극복하기 위한 방법으로 PECVD 공정을 도입하였다. PECVD는 chemical vapor를 진공상태의 쳄버에 주입하고, 전장을 형성하여 플라즈마

리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.26

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[플라즈마] PDP 에서 사용된 플라즈마

들이 플라즈마 상태라고 하면 이해하기가 쉬울 것이다.이중 공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 공정에서 플라즈마 식각(Plasma Etch) 및 ... debye length이다.따라서 플라즈마는 debye length보다 큰 공간범위나 plasma oscillation의 주기 보다 큰 시간범위에서 측정하면 중성상태이고 그 보다 작 ... 하는 방법이 개발되어 현재 적용되고 있으며 십 나노 미터 정도까지 적용될 수 있을 것으로 예상된다.2. 신소재 합성종래의 초고압, 고온에서 얻어지던 인조 다이아몬드가 플라즈마를 이용

리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.16

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[자연공학]플라즈마

물리학 세미나 발표자료-PLASMA-Ⅰ-1.플라즈마란 무엇인가??플라즈마라는 말을 물리학 용어로 처음 사용한 사람은 1928년 미국의 물리학자 Langmuir' (랑뮈어 ... 을 띄는 플라즈마 상태로 변환한다.플라즈마는 수만도 정도의 온도와 의 밀도를 갖는 저온 글로우 방전 플라즈마와 수천만도 이상의 온도와 의 밀도를 갖는 초고온 핵융합 플라즈마로 크 ... 게 구별할 수 있다. 이중 공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마이다.2.플라즈마 상태(plasma state)란 무엇인가??플라즈마 상태는 그 밀도와 온도를 그

리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2004.04.24 | 수정일 2015.11.18

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국가별 과학기술정책

. 대학건설(1) 60년대 : 제1차 7개년 계획 착수. 자립적 공업체계확립. 무연탄제철방법, 무연탄 가스화, 암모니아 합성, 갈탄의 고온건류등의 연구성과취득. 공업의 발전위한 연구 ... .가. 현재 러시아의 분야별 과학기술수준(0) 기초과학() 분자물리학 : 이론수준 매우 높으나 실험설비와 진단시설의 미비.(가) 플라즈마물리학 : 이론위주연구에서 엔지니어링 연구로 방향

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.30

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Thermal Spray Deposition

압축공기선 재아 크Thermal spray 의 종류대기 플라즈마 SprayingAr, He, N2 등의 가스를 아크열로 플라스마화 하고, 이것을 노즐로부터 배출시켜 초고온, 고속 ... thermal spray법은 산업전반에 폭넓게 이용되어 오고 있다.Thermal spray란?분말 혹은, 선형재료를 고온 열원으로부터 용융시킨후 고속으로 기재에 충돌시켜 급냉 응고 ... 원을 이용한 전기식 thermal spray1950년대플라스마 제트가 개발됨에 따라 그 theraml spray온도가 1000K의 플라즈마 thermal spray법으로 발전우주

리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.11.02

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[재료공학실험] CVD와 PVD

)으로 도핑된SiO2(PSG) 보호막 보다도 습기나 유동이온의 침투에 대해 실리콘 질화 막이 훨씬효과적인 장벽을 만들기 때문이다.1) CVD에서의 Plasma의 사용플라즈마 몰리 ... 나 플라즈마 화학은 고압영역으로 부터 글로우 방전, 불꽃방전,태양코로나등에 이르는 광범위한 상태를 다루고 있다, 여기서 논하고자 하는 것은 Plasma인데 이것은 어떤 용기내의 Gas ... )를 넣고 Gas를 공급하여 열, 플라즈마, 빛(UV or LASER), 또는 임의의 에너지에 의하여 열분해를 일으켜(Si 기판과 공급된 O2와 반응하여 산화막을 형성

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.17

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CVD로 성장시킨 실리콘 나노와이어의 분석

는 이지기, 광전자 소자등에 적용될 수 있는 가능성이 증명되었다.2. 실험 방법2nm 두께의 Au 박막이 코팅된 글래스 기판을 산소 플라즈마를 이용하여 클리닝 한다. 산소는 에너지 ... 가 높아 유기물을 비롯한 불순물의 제거에 효과적이다. 나노스케일의 Au 입자를 만들기 위해 고온에서 일정시간 가열하여 나노입자 형성과정을 거친다. thermal CVD 챔버를 진공상태 ... 는 것으로 알려져 있다. thermal evaporation을 이용하여 Au 코팅 후 VLS(Vapor-Liquid-Solid) 메커니즘에 따라 고온에서 일정시간 동안 유지하여 Au

리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.12.09

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분말야금

시킴으로서 각종 나노분말을 제조할 수 있다. 제조방법은 가열방법에 따라 저항가열법, 플라즈마가열법, 유도가열법, 레이저가열법 등으로 나눌 수 있다.*저항가열증발방법:여러 증발 원료인 금속 ... 들을 각기 다른 용기나 필라멘트 위에 올려놓고 증발을 시킴.특징: 실험실적으로 수 나노의 초미립분말의 제조가 가능하나, 대량생산에는 문제점이 있다*플라즈마제트방법: 플라즈마 제트 ... 에 의한 플라즈마 열원에 의해 증발원료를 가열 증발시킴특징:저항가열에 의해 제조된 분말보다는 약간 입자크기(30㎚)가 크지만 대량생산이 가능하며(20～30kg/batch) 또한 거의

리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.02.15

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[레포트]임신의 정의, 징후, 신체변화와 같은 전반적인 내용

정도. 임신 전과 비교해 그다지 차이가 없다. 하지만 자궁내막은 수정란이 착상할 것에 대비해서 부드럽고 두터워진다.▷ 체온 - 조금 높게 고온기가 계속된다.기초체온표를 작성하고 있 ... 는 경우, 저온기에서 고온기로 넘어가는 시점이 배란기. 배란 후 임신이 안 된 경우는 고온기가 2주 정도 계속되다가 저온기로 옮겨가는 시점에서 월경이 시작된다. 그리고 임신이 된 ... 경우는 고온기가 그대로 14주 정도 계속된다.▷ 몸이 나른하고 한기를 느끼는 등, 감기 증세를 보이기도..임신이 되었더라도 이 시기에는 자각 증세가 거의 없다. 다만 예민한 사람인

리포트 | 42페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.07.28

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[반도체공학]박막증착

Organic Filimsㆍ포리마이드(Polyimide)가 가장 일반적인 것ㆍ고온-고습에서 퍼지는 특징->습도센서ㆍ희생층으로도 사용=>산소플라즈마로 제거ㆍsubstrate 위에 열 ... (patterning)습식식각건식식각-플라즈마식각스퍼터 식각반응성 이온 식각(RIE)박막처리(pre/post processing)이온주입(ion implantation)]확산(diffusion ... annealing으로 증착ㆍ고온(500-700oC)에서 공기중 CVD, LPCVD(저압화학기상증착법)에 의해⊙ Amorphous SiliconㆍLCD 디스플레이의 박막트랜지스터의 제조

리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.12.23 | 수정일 2025.01.21

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인공태양

가 분리돼 각각 따로 움직인다. 기체, 액체, 고체와 다른 이른바 ‘제4의 상태’라는 ‘플라스마(plasma)’다. 초고온의 플라스마 상태에서는 수소와 같은 가벼운 원자핵들이 융합 ... 중심부로 모이게 됨으로써 수억℃의 초고온을 만들어 내는 방식이다. 그러나 플라스마의 온도를 올려도 계속 냉각되기 때문에 일정 시간 동안에 일정한 온도를 유지하기 어렵다는 단점 ... 이 있다.다음은 헬리컬(Helical:나선)형을 들 수 있다. 1㎤당 수백조 개의 수소를 수억℃의 초고온으로 높여 감금장치에 1초 이상 가두어놓는 방식으로, 토카막 방식과 달리 도넛

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.05.22

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[대체에너지]지속가능한 발전과 대체에너지

과 같은 이치이다. 바닷물에 0.015%의 비율로 포함된 중수소를 연료로 사용할 수 있으며 방사성 물질이 발생하지 않는 등 장점이 많으나 고온, 고밀도의 플라즈마 처리기술이 개발 단계 ... 하였는데 현재 세계 4대 토카마크는 유럽공동체의 JET, 미국의 TFTR, 일본의 JT6O, 러시아의 T10M이 꼽힌다. 일본원자력연구소는 그들이 가지고 있는 중수소이용 임계 플라즈마 시험 ... 장치인 JT60을 3개월간 가동한 결과 플라즈마 전류가 100만 암페어로 고압 가열시 플라즈마의 이온온도는 2.3억도를 초과했다고 밭표하였다. 국내에서는 기초과학지원연구소 주관

리포트 | 33페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.06.12

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PVD Evaporation & Sputtering 종류 및 원리,

한 관계로 AC형 플라즈마 디스플레이의 보호막(MgO)의 형성과 필름 콘덴서, VTR요의 증착 테이프 등의 생산에 응용되고 있다.이 방법의 특징으로는 전자선의 집속에 의해 국부 ... 적으로 고온을 얻을 수 있어 고순도의 박막 형성이 가능하고, 고융점의 금속을 포함한 모든 재료에 적용할 수 있다는 점이다. 그러나, 증발 분자와 잔류 가스를 이온화시켜 박막의 특성

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.09.28

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[화상공학]디스플레이 발전방향

다.■ PDP(Plasma Display Panel)▷ 발광원리 및 특징 : PDP는 기체 방전에 의해 생성되는 플라즈마를 이용한 영상 표시 장치이다. 전면유리(상판)와 배면유리 ... 사용하고, 현재도 전 세계 디스플레이 시장을 석권하고 있으며, 브라운관이나 진공관은 열전자 방출 현상을 이용한 것이다. 열전자 방출이란 금속 등을 고온으로 가열하면 그 물질을 형성 ... (Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display), EL(Electro-Luminescence), PDP(Plasma

리포트 | 5페이지 | 10,000원 | 등록일 2006.05.07

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임플란트 시장 분석 및 진입 타당성

한 표면을 가지고 있고 표면에 아무런 처리를 하지 않는 임플란트브레네마크Titanium Plasma Sprayed(TPS), Hydroxyl-Apatite Plasma Sprayed ... (HPS, HA) 임플란트의 몸체는 기계로 깍아서 만든 뒤 다른 타이타늄을 고온으로 녹여서 스프레이로 뿜어 임플란트 표면에 붙여 얻어진 표면TPS : IMZ, ITI HA

리포트 | 28페이지 | 9,000원 | 등록일 2009.01.08

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[반도체공정] 화학기상증착

에 따라서 thermal CVD, plasma CVD, photo CVD로 분류하기도 한다. 플라즈마(plasma)나 광자(photon)를 이용한 CVD는 반응물 기체를 플라즈마나 혹은 ... 는 플라즈마(plasma) CVD 또는 광(photo) CVD라고 한다. 이중 본 절에서는 반응공학을 기초로 한 열 CVD 공정에 대해 주로 살펴보기로 하자.CVD법은 기체상태 ... 반응을 일으키는 주된 에너지원으로 열 에너지가 많이 사용되는데 이런 경우를 열(thermal) CVD라고 한다. 또한 열 에너지 이외에 플라즈마나 빛 에너지도 사용되며, 이런 경우

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.29

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표면관찰 실험

가열, 가압하여 성형한다. 열경화성 수지는 고온에서 경화하는 종류로서 냉각 전에 고온에서 제거해도 되나 가급적 냉각 후 빼내는 것이 열 수축에 따른 문제점과 시편과 수지의 접촉상태 ... 에 유리하다. 열가소성 수지는 고온에서 녹고 저온에서 경화하는 수지로서 필히 상온까지 냉각한 후에 mold에서 제거해야 한다.사용하는 수지는 phenolic 수지, acrylic ... 에도 molten salt방법, 전해부식, 열 및 plasma 부식 방법등이 있다.① 화학 부식산이나 알카리의 선택 부식 성질을 이용한 것으로 물이나 알코올 등의 용액을 섞어 사용한다. 그

리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.03.15

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[플라즈마]무한한 가능성을 내재한 플라즈마 기술

플라즈마 기술은 고온에서 작업하여야만 하는 흡열반응에 응용하는 것이 매우 유리하다. 더욱이 플라즈마 공정은 다른 제련 기술 ( 습식, 건식, 전기 화학적 ) 보다 아주 광범위한 응용 ... ♠ 플라즈마 금속가공의 원리와 응용기술금속의 제련 기술은 알려진 모든 금속들을 한 가지 이상의 방법을 회수할 수 있는 수준까지 발전되어 있다. 이러한 방법 중 적당한 제련 기술 ... 의 선택은 편리성보다는 비용과 순도 등의 기술적인 제약에 의존하여 결정된다. 금속의 추출에 저온 플라즈마를 응용하는 것은 매우 특별한 경우이고 열역학과 반응 속도론적으로 볼 때

리포트 | 52페이지 | 5,000원 | 등록일 2004.11.13

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AAS, ICP/MS를 위한 시료 전처리

방출 분광법(ICP-AES, inductively coupled plasma - atomic emission spectrometry)에 의해 시료 중의 금속원소들을 분석하기 위해서 ... 은 전처리방법을 선정해야 한다. 특히 AAS나 ICP/MS에 의해 원소들을 분석하고자 할 때는 융제를 이용한 용융방법은 피하는 것이 좋다. 고온에서의 용융방법은 어느 방법으로도 전처리 ... 가 되지 않는 경우의 최후 수단이라는 것을 명심해야 한다.○ 물에 의한 용해산처리를 하거나 알칼리처리 또는 고온애서 융제로 처리하는 것은 가용성염으로 만들기 위한 조작이다. 시료

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.02.02

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[화학실험]Etching Process(final)

실험목적 11.실험방법 및 이론 11)ICP를 이용한 플라즈마 Dry Etching 12)Wet Etching 원리 및 V-groove 제작 2가)Ti Wet Etching나)V ... 하고, Etching time을 변수로 하여 각각의 Patterning 정도를 분석한다.2.실험방법 및 이론1)ICP를 이용한 플라즈마 Dry EtchingICP를 이용한 플라즈마 Dry ... Etching은 직접 수행하지는 못하였지만 대략적인 이론은 다음과 같다.유도 결합형 플라즈마 장치 (ICP)는 유도 코일에 RF전력을 공급하여 자기장이 발생하고, 이에 따라 유도된 전기장

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.02.02

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