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"박막공정" 검색결과 981-1,000 / 3,368건

  • 현대물리실험-Thermal Evaporation (열 진공증착) 결과레포트
    (wafer) 공정, 산화(oxidation) 공정, 포토(photo) 공정, 식각(etching) 공정, 박막증착(depositioin) 공정, 금속(metallization) 공정 ... 이 있음을 예비레포트에 서술한 바가 있고, 증착은 반도체 제조공정에 이용된다고 한다. 그래서 반도체의 제조공정에 대해서 알아보았다.? 반도체에는 8대 공정이 있다. 순서대로 웨이퍼 ... , EDS 공정, 패키징 공정이 그것이다.? 웨이퍼(wafer) 공정 : 웨이퍼는 반도체 집적회로의 핵심재료이며 실리콘, 갈륨, 갈륨 아세나이드(GaAs) 등을 성장시켜서 얻
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.05.30 | 수정일 2022.06.01
  • 스퍼터링(Sputtering) 결과 레포트
    증ow Discharge) 영역이다. 스퍼터링 박막 공정에서 사용하는 영역은 바로 비정상 글로우 방전 영역이다.Sputtering을 일으키기 위해서는 공정 중에 지속적인 양이온 ... 의 생성을 필요로 하는데, 이를 위해서는 증착 공정 중 진공조 내부는 플라즈마 상태를 유지하여야 한다. 일반적으로 Sputtering으로 박막을 증착할 때는 비교적 압력과 온도가 낮 ... 두께가 거의 정비례하므로 조절이 쉽다. 또한 박막의 균일도가 크고 높은 에너지의 공정이어서 밀착강도가 높다. 하지만 Target 재료가 금속에 한정되고 높은 Ar 압력이 필요
    리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.05.18
  • 판매자 표지 자료 표지
    진공 증착의 종류와 특징 레포트[A+자료]
    를 물체 표면에 박막 형태로 응착시키는 일 또는 화학적 방법에 의해 피막을 형성시켜 부착하는 공정을 말한다.
    리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.12.17 | 수정일 2016.12.26
  • OLED 실험 보고서 Exciplex 와 Excimer
    의 용액이나 액체 물질을 기질 위에 ㄸ?ㄹ어뜨리고 고속으로 회전시켜 얇게 퍼지게 하는 코팅 방법이다. 용액을 사용한 박막형성법 중 가장 널리 쓰인다. 박막 형성 기구가 복잡하지 ... 만 재현성이 우수하고 건조공정에 이점이 있어 대면적의 균일한 제작이 가능하다. 공정변수로는 기판의 회전속도, 용액의 점도 및 휘발성, 확산도, 분자량, 농도 등이 있다. 주로 두께 제어 ... -MTDATA 0.0040g+PBD 0.0040g+PMMA 0.0020g)4) 3개의 용액을 Bare glass에 spin-coating하여 박막을 제조한다. 3개의 용액 모두 2 s
    리포트 | 4페이지 | 4,500원 | 등록일 2016.03.29 | 수정일 2016.04.06
  • 그래핀 합성 예비레포트
    기판에 코팅한 뒤 환원하거나 용액상에서 환원한 뒤 기판에 코팅하여 rGO 박막을 제조하는 공정이다.이 방법은 단층으로 얻을 수 있는 비율이 높고, 저가격의 용액 공정을 이용 ... 하여 프린팅 공정에 적용할 수 있으며 기계적인 안정성이 우수하고 높은 투명도를 가진 전도성 박막을 제작할 수 있다는 장점이 있다.반면, 산화 과정이 들어가기 때문에 상대적으로 낮은 전도 ... 도 및 전하 이동도를 가진다는 단점이 있으며, 기판상에 균일한 단층 박막을 제조하는 것이 매우 힘들어 광학적인 특성이 다른 공정에 비해 떨어진다는 단점이 있다.②탄소원으로부터 화학
    리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.04.01
  • ITO(In2O3·SnO2)의 대체물질
    에 대한 저항변화가 거의 없으며 용액공정, 롤투롤 공정이 가능하기 때문에 주목을 받고 있다. 최근에는 많은 합성법 및 박막 제조 공정 기술의 개발로 비정질 ITO 전극의 광학적, 전기 ... (polyethylene terephthalate), PES (polyethersulfone) 등과 같은 유연성을 가진 기판 위에 박막을 형성하여 높은 전도도와 가시광 영역에서 우수한 투과도 ... oxide, ITO) 박막이 있다. 하지만, ITO박막은 미래의 전자기기에서 유연한 소재로의 사용에 있어서 여러 단점들을 갖고 있어 사용되기는 어려운 실정이다.이에 ITO박막의 단점
    리포트 | 25페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.01.08 | 수정일 2023.04.29
  • [고분자재료실험] 6. ITO Patterning - 예비
    한다. 유기전자 디바이스의 Patterning 공정에서는 wet etching 방식을 사용한다. ITO 박막의 대표적인 etchant로서는HCl + Fe2Cl3 + H2O = 2 : 1 ... 에 Positi 펼침.스핀코터는 평평한 웨이퍼나 평판에 얇게 막을 형성하는 것으로 박막 공정의 기본장비이다. 평판 위에 코팅하고자 하는 물질(PR 또는 액상의 물질)을 놓고 회전시키면 얇은 막 ... 으로 사용되는 ITO를 원하는 pattern으로 식각하는 법을 습득한다.?Photo lithography에 사용하는 각 공정의 원리와 공정 시 주의점을 습득한다.4. 실험이론 및 배경
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.12.26
  • 판매자 표지 자료 표지
    표면개질공학 sputtering 원리와 특징, 현상과 응용
    고진공 상태에서 고체를 증발시켜 박막 thin film 이나 후막 thick film 을 형성하는 경우에 사용 된다.(1) 원리Sputtering은 chamber 내에 공급 ... 를 보인다. Plasma 내의 Ar+이온은 큰 전위차에 의해 cathode(target)쪽으로 가속되어 target의 표면과 충돌하면 중성의 target 원자들이 튀어나와 기판에 박막 ... 압력?기판 온도 감소?산업적 규모의 공정으로 변환이 용이⑤ Unbalanced magnetron sputteringa. 특징?내부 자석과 외부 자석의 자장의 세기가 다르다. → 자
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.01.05
  • 판매자 표지 자료 표지
    전기변색소자 예비보고서(학부 실험)
    ) 위에 산화텅스텐(WO3) 박막을 합성하고, 순환 전압 전류법(Cyclic Voltammetry)을 통하여 합성된 박막의 전기적 특성을 파악하여 전기변색소자 장치 ... athode)으로 이동하고 음이온(anion)은 양극(anode)으로 이동하게 된다. 전해액은 공정에 영향을 주는 다른 성분을 보통 포함하고 있다. 음극 전착 반응은 전자가 소비되기 때문
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.06.17
  • PDLC(polymer dispersed liquid crystal, 고분자 분산형 액정) 실험 결과레포트
    Photolithography는 해당 기판 위에 형성된 박막을 빛(자외선)을 이용하여 마스크의 패턴대로 식각하는 공정을 말한다. ITO가 증착된 기판 위에 감광제 ... ) Photolithography 공정 과정을 파악한다.2. 실험 원리(1) PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)의 원리를 이해한다.PDLC란, 고분자 분산 ... 공정을 진행한다. PR코팅 후 UV램프로 노광을 할 때 제작된 마스크를 필름 위에 올려놓고 노광을 하여 원하는 PR의 패턴형성을 한다.(3) Photolithography 공정순서
    리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.10.22 | 수정일 2017.10.16
  • OLED 봉지 기술 종류
    과 무기 박막의 반복적인 구조로 이루어지며 일반적으로 2~5쌍으로 구성된다. 향후 공정시간 단축과 저가격화를 위해서는 1쌍으로 줄어들 것으로 예상된다. 전면에서의 습기와 산소 차단 효과 ... 가 우수하지만 Edge에서 취약한 문제가 있어 이에 대한 Edge의 완벽한 차단이 박막 봉지 공정에 대한 핵심 기술이라고 할 수 있다.③ 유리 봉지 기술과 박막 봉지 기술을 합친 ... 하고 대면적 및 Flexible OLDE 패널 제작에 어려움을 갖는다.< 봉지 기술을 이용한 Flexible OLDE>② 소자 상층을 다층 박막으로 적층하는 박막 봉지 기술(TFE
    리포트 | 2페이지 | 3,500원 | 등록일 2014.07.17 | 수정일 2018.01.03
  • 고체화학-Solar Cell Based on Bulk Si
    Si 결정 Si 단결정 고순도 , 낮은결함 , 고가 32% 24% 15% Si 다결정 저렴한공정 , 저순도재료 53% 20% 14% 박막 Si 비정질 최초박막 , 저가 8% 12 ... % 8% Non-Si 결정 GaAs 가장고효율 , 우주용 ,AS 유해성 , 고가 1% 29% - 박막 CuInGaSe 이종접합 , 물질합성용이 3% 11% - 적층 박막 AGaAs ... / GaAs 고효율 , 연구실실험용 1% 40% - 유 기 염료 용액 TiO 2 투명전지 , 저가재료 , 환경친화 , 안정성문제 - 10% - 유기 박막 Polymer 저가
    리포트 | 23페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.07.11
  • 전자재료 및 실험9(면 저항측정기(4-Point Probe)의 이해 및 Wafer의 면 저항 측정)
    에 트랜지스터나 다이오드 혹은 그러한 간단한 회로 부분을 만들어 넣는 일도 있다.4) 증착(Deposition)증착 공정은 웨이퍼 표면에 원하는 물질을 박막의 두께로 입혀 전기적인 ... 에 매우 중요한 공정 중 하나이다. 또한 박막의 두께가 워낙 얇기 때문에 정교하고 세밀한 기술이 필요하다.증착은 크게 물리적 기상증착방법(PVD, Physical Vapor ... )를 적용한다. 면 저항 값은 Wafer, LCD, 태양전지(Solar cell), 연료전지, OLED 등의 벌크 및 박막의 전도성을 검사하기 위하여 쓰인다.2) Van Der
    리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.12.17
  • 판매자 표지 자료 표지
    삼성전자 무선사업부 DS 합격자소서
    하고 있기 때문입니다. 그러므로 최고기업 반도체 공정기술의 중요성은 더욱 커질 것입니다. 대학 4년 반도체 공정 이론 과목 이수와 PVD, CVD, 포토리소그래피 실험을 통해 장비 ... 를 SET-UP하고 장비 구동 원리에 대해 이해할 수 있었습니다. 그리고 Mo, 단결정 Ag, CIGS 태양전지 등 다양한 재료를 통해 박막 증착 경험을 했습니다. 이를 바탕 ... 완주해 3km 달리기, 팔굽혀펴기, 윗몸일으키기 등 임관 체력평가에서 1등급을 받고 공군 장교로 임관할 수 있었습니다. 삼성전자 DS 반도체 공정기술 직무를 수행할 때 다양
    자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.10.31
  • Chalcogenide-based memory application(칼코지나이드)
    의 높은 효율을 나타내는 통상적인 CIS 혹은 CIGS 박막은 다소 복잡한 공정인 동시증발 방법으로 제작되고 있다. (그림 9)에 표시한 장비를 이용하여 Cu, In, Ga, Se ... 혹은 S 소스를 동시에 증발하여 CIGS 박막을 형성하는 방법으로 박막형 태양전지의 광 흡수층 박막을 증착하고 있다. 이러한 방법은 대면적 증착, 고온공정 및 새로운 구성 원소 ... -rich 한 박막을 형성한 후 In, Ga을 공급하여 표면에 Cu-poor한 조성을 만들어 주는 공정이다.* 의료 산업에서의 적용의료산업에 사용되는 칼코지나이드 재료의 대표적 예
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.10.13
  • SK하이닉스 공정알앤디 자소서
    며 체력을 길렀습니다.둘째, 재료과학과 반도체공정공학 등의 전공과목을 배우며 반도체 관련 전문지식을 쌓았고 ‘박막의 패터닝 및 표면처리실험’을 통해 조건에 따라 etching ... 를 제공할 수 있는 공정, 소재, 설계 기술 요구가 커짐에 따라 SK하이닉스도 차세대 메모리 분야발전에 집중하고 있습니다. 입사 후 DRAM 및 Flash 분야의 차세대 제품 개발 ... 프로젝트에 참여하고, 제품개발을 위한 공정 개발에 힘쓰고 싶습니다. 이를 위해 세 가지 노력을 하였습니다.첫째, 공정(R&D)직무에 있어 공정의 문제점을 찾아내고 발전시키기 위한 끈기
    자기소개서 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.03.01
  • [기술용어해설]ALD Atomic Layer Deposition(ALD)
    은 현재 반도체에서 박막 증착 기술인 CVD와 PVD 기술에 비해서 우수한 장점을 가지고 있다. 즉, 대부분의 ALD 공정은 400℃ 이하의 낮은 온도에서 이루어진다. 또한 원자 단위 ... 로 박막이 증착되어지기 때문에 매우 얇은 막을 정밀하게 제어 가능하며, 낮은 불순물의 함량과 핀홀이 거의 없다. 또한 ALD 공정은 높은 종횡비(Aspect Ratio)에서 100 ... 을 정밀하게 제어해야 하는 공정을 위주로 활용 범위를 넓혀 나가고 있다. 이처럼 ALD 기술은 기존의 반도체 박막 증착 기술에 비해 여러 면에서 우수성을 가지고 있어 국내 반도체 기업과 미국, 유럽, 일본의 해외 반도체 기업에서 ALD 연구 개발에 총력을 기울이고 있다.
    리포트 | 1페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.05.18
  • 판매자 표지 자료 표지
    플라즈마를 이용한 Sputtering과 식각 (GZO증착)
    )을 정확히 이전할 수 있고, 적은 양의 가스를 이용해 비용이 적게 들며 환경오염의 가능성도 낮다. 공정자동화가 손쉽고 플라즈마의 특성변화를 통해 식각이 끝나는 시점을 쉽게 파악가능한 장점 ... 준다⑧ Free Sputtering을 진행한다.⑧ 증착을 완료시킨 후 순서대로 기기를 끈다.⑨ 증착된 박막의 면저항, 두께, 투과율을 측정한다.◀MKS : 챔버 내의 유량을 조절 ... 해 주는 장비. 10mmTorr로 설정해준다.▲Sputter System : 다양한 소재에 금속박막을 코팅하는 장비. 특정 고주파로부터 인체를 보호하고 정밀기기의 오동작을 방지할 수
    리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.07.01 | 수정일 2019.06.07
  • 판매자 표지 자료 표지
    박막 태양 전지를 이용한 태양에너지 변환 및 활용, 박막 태양전지에 관한 ppt
    박막태양전지의 시장성세대별 태양전지의 발전프렉서블 태양전지(건물일체형)의 공정기술프렉서블 태양전지의 기술적 과제참고 문헌..PAGE:3CIGS 박막태양전지 선택이유박막태양전지란박막 ... 가 매우 높아우주분야에 사용..PAGE:12프렉서블 CIGS 박막태양전지의 공정기술건물 일체형 박막태양전지의 조건Flexible 특성저렴한 가격공정 기술의 용이성1. 표면을 매끄럽 ... 게 다듬는 공정(제거공정)2. 낮은 기판온도에서 In, Ga, Se을 증발시켜 전구체를 형성 >두 번째 단계에서 기판의 온도를 상승시켜 Cu를 공급하여 전체적으로 Cu가 많은 박막
    리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.11.25
  • 전력반도체 기술
    는 추세이므로, 앞으로 시장규모가 크게 확대될 것으로 기대되고있다. 현재 세계 각국에서는 산학연 체제를 구성하여 에너지를 절감할 수 있는 친환경,절전형 전력소자 공정, 회로 모듈 ... 를 활용한 설계보다 주로 공정 경험을 활용한 공정설게기술로 진행되며, 큰 전력을 처리하는 디스크리트 및 모듈 형태의 전력반도체소자는 사용 시 구동을 위한 구동용 파워 IC를 필요로 한다 ... .전력반도체는 소량 다품종 생산 특성과 공정 및 패키지/모듈 기업이 핵심이 되는 분야로서 시스템반도체보다 더욱 더 고객의 요구에 맞추어야 하는 산업이다.전력반도체는 다양한 분야
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.11.10
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2025년 08월 26일 화요일
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