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"플라즈마기체화" 검색결과 541-560 / 1,740건

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    (졸업논문)신재생에너지와 2050년 미래의 에너지 개발
    (酸化) 시켜서 생기는 화학에너지를 직접 전기에너지로 변환시키는 기술재생 전지고체 산화물 전지인산염 전지▶ 수소 에너지수소를 기체 상태에서 연소 시 발생하는 폭발력을 이용하여 기계 ... 고 있다. 이것은 핵융합 에너지 때문인데 핵융합에너지는 플라즈마 상태에서는 가벼운 수소와 헬륨 입자들이 서로 합쳐져서 무거운 원자핵으로 바뀌는 ‘핵융합 반응’이 일어난다. 이 때 합쳐다.
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    | 리포트 | 25페이지 | 5,000원 | 등록일 2018.07.03
  • 로이유리의 제조공법 및 특징 분석
    플라즈마 내 이온화된 기체가 코팅재료에 강한 운동에너지로 충돌 코팅물질의 원자가 튀어나와 유리의 물리적인 결합으로 부착되어 코팅 코팅재료Low-E 유리 비교 구분 하드 코팅 ... 및 절단 서냉로 (Lehr) 주석조 (Tin Bath) 유리의 제작 과정 ( 플로트공법 )PYROLYTIC PROCESS 코팅원료를 기체상태로 분배하는 CVD(Chemical ... PROCESS 반응을 위한 Gas 가 일정압력을 유지하고 있는 챔버 내에 상온의 유리가 위치 고전압을 가하여 방전시키면 코팅재료 ( 뒷면에 영구자석 ) 표면 근처에 플라즈마가 형성
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    | 리포트 | 22페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.01.08
  • 자기유체역학발전
    사이를 수직으로 통과시켜 얻는 발전 . (= 전자유체역학 , 자기유체역학 , 유체자기학 )MHD 발전 플라즈마 (plasma) 고체 → 액체 → 기체플라즈마 이온핵과 자유전자 ... 발전 특징 MHD 발전 종류 MHD 발전 원리 MHD 발전 MHD 발전 현황 Plasma 밀폐 장치MHD 발전 자기유체역학 발전 기체 , 액체 따위의 유체 의 운동을 연구하는 학문 ... 발전 특징 플라즈마의 흐름을 얻을 수 있다면 어떤 에너지원이든 상관 없음 . 석유보다 넉넉한 석탄 , 천연가스를 이용할 수 있음 . 기계적인 회전부분이 없기 때문에 사용하는 기체
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    | 리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.03.27
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    [재료공학실험]주사전자현미경을 이용한 미세구조 관찰
    (wet etching)과 반응성 기체(reactive gas)를 사용하는 건식(dry etching)이 있다.습식에칭은 일반적으로 에칭 용액(액체)에 wafer를 넣어 액체-고체 ... 이 건식에칭이다.건식에칭은 wafer 표면에의 이온 충격에 의한 물리적 작용이나, plasma 속에서 발생된 반응 물질들의 화학작용, 또는 물리 및 화학적 작용이 동시에 일어나
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 3,500원 | 등록일 2018.01.31 | 수정일 2020.08.05
  • [발광디스플레이 실험] Sputtering
    플라즈마 상태화 한다.13. 본 실험의 경우 과다한 양의 Ar기체가 평형 상태 유지를 위해 빠져 나가게 되어, chamber 내부에 소량 남게 되므로 플라즈마가 형성되지 못하 ... )은 뜨겁고 윗부분은 냉각되어 차가운 것을 느낄 수 있을 정도이다.4. Argon 기체를 사용하는 이유는 비활성이며, 높은 질량을 가지고 있으므로 플라즈마 형태에서 높은 운동에너지 ... 를 가질 수 있고, 이로 인해 쉽게 metal의 증기화를 시킬 수 있기 때문이다.5. 기체 유입 시 굳이 10-2torr 근방에서 평형을 이루게 하는 이유는 플라즈마의 형성이 10-2
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    | 리포트 | 8페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.01.01
  • 신소재프로세스공학 설계 예시(인공뼈설계)
    으로 보수해 마무리함⑤ 변형 또는 고강도화를 위해 열처리함⑥ 비파괴검사(X-선 검사, 침투탐상시험), 정밀도 검사 등⑦ 플라즈마 분사법에 의해 2~4겹의 작은 구슬로 코팅or 수산 ... 화아파타이트(HA, Hydroxyapatite)로 코팅⑧ 최종적인 스템, 인공대퇴두, 인공비구컵 완성5. 가공변수- HIP처리 시 분위기 : Ar 분위기(비활성기체) → 반응성 높 ... 은 기체 사용시 고온에서 위험- HIP처리 시 온도 : 900~1000℃의 범위- HIP처리 시 압력 : 100~200 MPa- 열처리 시 온도 : 650~750℃(통상
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.12.30 | 수정일 2014.01.06
  • 건식식각공정
    을 식각하는 것을 말한다.*플라즈마 - 기체 상태의 GAS 분자에 전기적 에너지를 가하면 GAS 분자들은 이온화, 분해 과정을 거쳐 활성화된 이온, 라디칼, 전자 등이 생성되게 된다 ... . 즉 물질 고유의 중성 상태에서 이온화 된 제 4의 물질 상태를 말한다.CCP(Capacitively - Coupled Plasma)플라즈마 형성을 위해 평행한 전극간에 직류 또는 ... 교류 인가파워 전달 효율이 상대적으로 낮지만, 아주 균일한 플라즈마 형성 가능ICP( Inductively - Coupled Plasma)코일에 교류전압 인가, 플라즈마로 파워
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.21
  • [무기분석실험] 8.제올라이트_A를 이용한 이온교환-예비
    으로 얻어지는 회절이 일반적이다. 산란에 주로 기여한 것은 원자의 배열과 원자 안의 전자 밀도 분포도 X선의 회절에 영향을 준다. 비결정질, 액체, 다원 기체에서도 회절 고리를 얻 ... ], [8]마. ICP : inductively coupled plasma(고주파 유도 결합 플라스마)주로 석영 등의 유전체 반응기 외부에 코일을 감아 이고주파 코일의 축을 따라 ... 아르곤 등의 불활성 기체와 분무 시료의 혼합물을 흘림으로써 전자적(電磁的)으로 플라스마 상태를 생성시켜, 이에 의한 발광을 광원으로 사용하는 것. 원래는 이렇게 획득한 광원의 호칭이
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.08.21 | 수정일 2014.09.14
  • [초전도체][초전도체 특성][초전도체와 전기전도][초전도체 성형법][초전도체 응용기술]초전도체의 정의, 초전도체의 특성, 초전도체와 전기전도, 초전도체 성형법, 초전도체 응용기술
    Onnes에 의해 처음으로 발견되었다. 1908년 지구상에 존재하는 물질 중 가장 낮은 온도까지 기체로 존재하는 헬륨을 액화하는데 성공한 Onnes는 금속의 전기저항을 온도 ... 상법, 기체상법의 원리에 따른 각종의 제법에 대하여 유효한 선재화 방법의 개발이 모색되고 있다. 또 후자에 대하여는 주로 기체상법에 따른 스퍼터법, 진공 증착법 등에 의한 박막 ... 으로는 비교적 산소 투과능이 큰 순수한 Ag가 사용된다.선재 제작법 중의 하나인 플라즈마 스프레이법에 대해 간단히 설명하고 넘어가겠다. 플라즈마 스프레이법은 입도를 조제한 소성미분말
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    | 리포트 | 6페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.03.01
  • RF sputtering
    RF sputtering(1) sputtering plasma 발생 oscillating power source를 사용하므로 DC방법보다 많은 장 점이 있다.- 부도체재료를 s ... putter 할 수 있고, 낮은 압력하에서 사용가능하다.(2) 주파수가 50kHz이상이면, negative glow region에 있는 전자들은 기체 원자들을 직접 이온화 할 수 있 ... 하는 것은 이차 전자이다. 플라즈마 내에서 이차 전자는 추가적인 이온화를 일으키고 플라즈마의 광학적 발산의 color, intensity는 target 재료, gas의 종, 압력
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    | 리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17
  • 플라즈마 용접
    플라즈마 생성과정정의 : 기체상태의 물질에 계속 열을 가하여 온도를 올려주면 이온 액과 자유전자들로 이루어진 입자들의 집합체가 만들어진다. 물체의 세가지 형태인 고체, 액체 ... , 기체와 더불어 `제 4의 물질상태` 라고 불리며 이러한 상태를 플리즈마라 한다. 플라즈마의 생산과정물질의 상태로는 고체, 액체, 기체로서 통상 물체에 열(에너지)를 가하면 순차 ... 적으로 변하게 된다. 2원자 분자인 수소기체를 예로 들면, 수소기체에 열(에너지)를 가하여 온도를 올리면 해리되어 수소원자로 된다. 수소원자의 상태에서 더욱 열(에너지)를 가하게 되
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    | 리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.07.14
  • 재공실 - sputtering 결과보고서
    로 나눌 수 있다.1) Pump : 챔버내에 있는 기체분자를 제거하여 진공상태로 만들어준다. 진공펌프는 배기원리와 사용조건에 따라 매우 다양한 펌프들이 있고 모든 진공범위에서 작동 ... 을 시키고자 하는 물질이다. Gun의 위쪽에 장착되어 플라즈마 발생에 의해 이온이 타겟을 때리면 타겟 표면의 원자 및 분자가 튕겨져 나가 기판에 달라붙게 된다.5)Substrate ... 는 타겟을 증발 재료로 형성하면 높은 융점 재료나 합금 등 진공 증착하기 어려운 물질도 박막화 할 수 있다는 장점이 있으며 충격 이온원인 이온화 가스 또는 방전 플라즈마의 발생방식
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    | 리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29
  • 생활과학
    게 만들 수 있다는 최대의 장점. LCD보다 크게 만들기 어렵다는 단점.LCD vs PDPPlasma Display Pannel 플라즈마를 이용한 방식 비활성 기체에 고압의 전압
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.07.05
  • 석탄가스화 IGCC + 신재생에너지 (핵융합)
    라 불립니다.핵융합의 발생 원리* 플라즈마 상태 고체,액체,기체도 아닌 제4의 물질로 1억도 이상의 고온에서 원자의 핵과 전자가 분리된 자유로운 형태를 지닌상태.(태양이 대표적인 ... 플라즈마 상태)중수소와 삼중수소를 플라즈마 상태로 가열플라즈마를 약1억℃ 이상으로 가열해 핵융합반응을 일으킴이 융합 과정에서 엄청난 핵융합 에너지가 방출 됨.핵융합에너지 발생 과정 ... 초고온 플라즈마를 가두는 토카막 방식의 발전과정핵융합에너지의 장,단점장점 무한 에너지 안전 에너지 평화 에너지 청정 에너지 고효율 에너지단점 국내에서 핵융합의 가치를 높게 평가하지
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    | 리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.11.17 | 수정일 2015.06.12
  • 플라즈마의 종류와 가공기술
    , 다량의 활성입자를 갖는 플라즈마의 특성을 이용하여 다양하고 효율적이며 환경면에서 깨끗한 초고온 열원이나 물리화학 반응으로 사용된다.- 저온플라즈마 : 기체의 온도는 낮고 전자의 온도 ... 용 기체를 넣고 1차 코일에 충격적 펄스전류를 흘려주면 강한 유도전류의 영향으로 전리되면서 플라즈마로 되고, 더불어 용기의 토로이달 방향으로 강한 유도 전기장이 형성되면서 플라즈마 ... 1. 플라즈마의 종류- 고온플라즈마 : 전자, 이온, 분자의 온도가 모두 높은 플라즈마를 고온플라즈마라 한다. 직류 아크나 고주파 유도결합 방전을 이용하는 플라즈마 토치에서 발생
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.10.22
  • 85화합물 반도체 공정(유전막 증착)
    ○○○○○○○○○○○○○PLASMA○○○○○++--○○○○○VACUUM CHAMBERSputter의 구조(반응관)플라즈마의 생성Target쪽을 음극, 기판쪽을 양극으로 한다. 고진공 챔버내에 Ar가스 주입 ... *비교적 낮은 증착률 이지만 한 공정에 최대 200장정도의 웨이퍼를 장착할 수 있어서 APCVD보다 큰 생산량을 나타낸다.플라즈마 보강 기상 증착 (PECVD : Plasma ... 과 본래의 반응 물질들이 박막속에 잔류하는 경향이 많다. 열 공정시 기체를 밖으로 분출하거나 박막의 벗겨짐 현상 등이 나타나게 된다.기판흑연전극평행판 PECVD 반응장치`플라즈마
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    | 리포트 | 43페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18
  • PLA의 고유점도와 표면개질 측정
    ] Viscometric Terms② 플라즈마(Plasma)를 통한 표면개질 측정1. 플라즈마(Plasma)기체 상태의 물질에 계속 열을 가하여 온도를 올려주면, 이온핵과 자유전자로 이루어진 ... 입자들의 집합체가 만들어진다. 물질의 상태인 고체, 액체, 기체와 더불어 '제 4의 물질상태'로 불리어지며 이러한 상태의 물질을 플라즈마라고 한다.1-1플라즈마의 생성물질 중 ... PLA의 고유점도와 표면개질1] 목적▶ 나노 섬유의 고유점도 측정을 통해 분자량을 구할 수 있다.▶ 플라즈마를 이용해 나노 섬유의 표면개질을 알 수 있다.2] 이론① 고유 점
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    | 리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.10.16
  • 50박막형스피커
    중성을 띄며 반응성이 큰 이온화된 기체 상태로 변화한다. 진공관 속에 필름을 놓고 이온 빔을 쏘면 전극이 필름의 양쪽 면에 심어지듯이 달라 붙는데, 고석근 박사는 플라즈마를 통해 ... PVDF는 1950년대에 개발 당시에는 실용성이 낮음 최근 한국과학기술연구원(KIST)의 고석근박사팀이 PVDF의 표면을 플라즈마 처리로 백금 등의 금속전극을 강하게 붙혀서 압전 ... 플라스틱을 만드는데 성공 고석근박사 팀의 기술사용권을 받은 벤처기업이 압전 플라스틱 필름을 이용한 제품을 개발할 예정PVDF에 플라즈마를 이용한 이유본래 PVDF는 전기가 통하지 않
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    | 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18
  • ETCHING
    Plasma 양전하를 띤 입자 ( 양이온 ) 와 전기적 중성입자의 라디칼 즉 , 전리하지 않은 원자나 분자 및 음전하를 띤 전자가 거의 같은 밀도로 존재하는 기체상태 - 중성 유지 ... etching Equipment 19 1. 원통형 플라즈마 식각기 (Barrel Plasma Etcher) 20 등방성 Wafer 의 물리적 sputtering 이 아니기 때문 ... 을 통해 필요 없는 부분을 제거하고 미세한 회로 패턴을 형성 시켜 주기 위해 가공하는 단계의 공정 Substrate Deposition PR 4 Dry Etching By Plasma
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    | 리포트 | 56페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17
  • ICP-AES 실습 -시료 중 소듐이온 정량-
    의 영향이 작다.다음은 ICP의 전체적인 모식도이다.기기를 작동 시키면 시료요액이 펌프에 의해서 옮겨진다. 분무기에서 혼합기체와 섞이고 분무장치에 의해서 분무된다. 이때 Ar플라즈마 ... 1000mPas = 1Pas = 1000cPs = 10P , 1dPas = 1P플라즈마 불꽃기체 상태의 물질에 계속 열을 가하여 온도를 올려주면, 양전하를 띤 이온핵과 음전하를 가진 ... 수백~수천℃ 범위에 드는 플라즈마 기체로서 물질이 타면서 생긴 열에너지로 인해 주변의 기체가 이온화되어 플라즈마 상태로 되면서 빛을 발산하는 것이다. ICP-AES에서 사용되는 온도
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.06.23
  • 콘크리트 마켓 시사회
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2025년 11월 26일 수요일
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