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"박막공정및실험" 검색결과 541-560 / 1,226건

  • Cu film의 전기적 특성 분석 실험
    를 보이게 되는데, 0.18㎛ 및 0.13㎛ 공정을 적용하고있는 현 상황에서의 RC delay의 개선은 중요한 의미를 갖는다고 할 수 있다. 이러한 RC delay의 증가는 RC ... Cu film의 전기적 특성 분석 실험1. 실 험 목 적전자제품 (반도체, display)에 전기배선 재료로 사용되는 Al(알루미늄)이 있다. 하지만 최근의 경향이 고집적화, 대 ... -㎝)에 비해 매우 낮다. 이러한 특성으로 인하여 RC delay로 인한 신호의 지연으로 응답속도의 차이를 극복하는데 이용할 수 있는 좋은 재료이다. 하지만 이러한 Cu 박막의 전기적 특성
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.04.03
  • [전자재료]Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조 결과
    결 과Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조1. 실험목적Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해 ... 적으로는 광학렌즈의 반사방지막이 유명하며, 전자장치의 초소형화 경향에 힘입어, 초소형 박막 전자회로의 제조 및 전자부품의 박막화가 활발히 추진되고 있다. 이러한 박막화는① 소형 ·경량 ... 와 조절장치 등 크게 두 부분으로 나누어져 있다.조절 장치에는 두께 및 온도 조절 장치와 장비의 동작에 필요한 스위치, 장비 내 기체의 흐름을 제어하는 밸브, 박막의 두께 형성을 제어
    리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.03.15
  • 고려대학교 재료공학실험1 일반적인 세라믹 공정의 이해 및 나노시트의 제조(예비보고서)
    AMSE305일반적인 세라믹 공정의 이해 및 Nano Sheet의 제조(예비보고서)실험 목적일반적인 세라믹 공정(Soild State Reaction)을 이해하고 세라믹 공정 ... 세라믹 공정의 이해 및 Nano Sheet의 제조(예비보고서) PAGE \* MERGEFORMAT 1고려대학교 신소재공학부 ... 을 통해 합성된 분말을 통해 나노시트를 제조하여 본다.2-1의 세라믹 공정에서 각각의 과정에 대하여 조사하고, Ball-Milling 과정에서 변화시킬 수 있는 요소에 대해 알아보
    리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.07.16
  • 1. 마이크로웨이브를 이용한 금속황화물 나노분말 제조 결과
    나노 분말을 합성해 보았다.목차1. 서론2. 이론3. 실험 방법4. 결과 및 토론5. 결론6. 참고 문헌 및 자료1. 서론Microwave 에너지를 이용하여 반도체산업 재료에 사용 ... 은 결정구조의 해석, 격자결함이나 상전이의 연구, 생체 고분자의 구조연구 등 널리 이용되고 있다.3. 실험 방법-3.1 실험 장치 및 시약Microwave-oven :삼각 플라스크 ... 되는 CdS 나노분말을 합성한다.2. 이론이번 실험에는 Microwave가 이용되는데 Microwave란 파장이 센티미터 단위인 전자파를 총칭한다. 주파수의 대역은 300MHz
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.01.01
  • 반도체공정 레포트 최종
    방법에는 화학기상증착 또는 열증착 및 스퍼터링 등이 있다.그 중 이번 학기 실험에서는 반도체의 기본 제조 공정인 Photolithography(사진식각공정), Evaporation ... 반 도 체 공 정DISP463(00)과목명 : 반도체공정교 수 :학 번 :제출자 :《 목차 》1. 실험 일자.2. 실험 목적.3. 실험 이론.4. 실험 과정 & 주의 사항5 ... : Sputtering6월 3일 : 비저항 측정.2. 실험 목적.반도체 공정의 Photolithography, Evaporation, Sputtering에 대해서 실험을 통해 그
    리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.01.25
  • 발광박막의 제조 Fabrication of Light Emitting Thin Films
    목차실험목적 실험이론 실험기구 및 시약 실험방법 실험결과 실험고찰 참고문헌발광특성이 있는 물질을 사용한 간단한 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕 ... 에 다른 특성들은 용액의 본질적인 성향이나 스핀공정에 관한 회전속도, 가속도, 건조 시간, 온도 등의 변수들에 의존하게 되는데 이 같은 변수들은 코팅된 박막의 특성이 어떻게 정의 ... 유기발광재료TPDN,N'-bisphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'diamine)녹색청색Chloroform1) 실험기구 및
    리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.05.10
  • 산화공정 oxidation
    한 절연체(insulator)로 전류와 도핑물질(dopant)의 이동을 막는데 사용되는 물질로 고품질의 SiO2 박막을 성장시키는 산화 기술은 반도체 공정에서 매우 중요하다.2. 실험 ... 신소재기초 실험OXIDATION(산화공정)1. 실험 목적반도체 소자 제조 공정 중 하나로 고온(800-1200℃)에서 산소나 수증기(H2O)를 주입시키고 열을 가해 실리콘 웨이퍼 ... 번 실험은 웨이퍼 클리닝과 산화공정의 과정을 거쳐 시간에 따른 산화막의 두께를 측정하는 실험을 하였다. 표와 그래프로 보아 산화공정 과정 중 시간을 늘릴수록 산화막의 두께가 두꺼워
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.05.12
  • 나노시트와 그래핀
    , 촉매제11.새로운 물질의 템플레이트나 기판12.섬유산업유전성을 가진 층상화합물의 조성 및 배향 제어를 통하여 유전체를 제조하고, 저온 습식공정에 의해 통상 두께가 1~5㎚의 분자 ... 을 만들어내듯 실험도 그렇게 하는 것이 소위 그의“레고(Lego)교리”라고 이야기 한다.그래핀은 구리보다 100배 이상 전기가 잘 통하고, 반도체로 주로 쓰이는 단결정 실리콘 ... 단위인 매우 얇고 통상 수 ㎛ 너비의 이방성이 매우큰 2차원 단결정 나노시트를 제조하는 기술, 그 나노시트를 적층하여 유전체 박막을 제조하는 기술, 그 박막을 다층구조로 전극과 교대
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.30
  • 마이크로팹 설계 실험 Hall effect 및 막 두께 측정, 면 저항 측정
    carrier 농도, mobility값을 도출한다. 면저항 측정이론을 공부하고 박막의 두께측정방법 및 장단점을 알아본다.실험이론1. Hall effect란?Metal이나 Semi ... 과목명마이크로팹설계 및 실험실험제목Hall effect이론과 측정, 막두께 및 면저항 측정실험목적Hall effect이론을 이해하고 측정을 통해 type구별 및 Majority ... 적 방법 (alpha-step의 경우)Wafer 표면 위의 단차가 있는 박막의 두께 및 Step profile을 측정하기 위하여 개발된 장비로, 탐침이 Wafer 표면을 긁고 지나감
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.21
  • 막분리
    1.실험목적서로 다른 membrane의 투과수의 유량 및 투과수의 성분을 비교 분석하고 혼합가스 중에 산소 및 질소만을 membrane으로 분리하여 농도를 측정해 봄으로써 기체 ... 들과 함께 분리공정의 조업조건(온도, 압력 및 화학적/생물학적 환경)에 따라 활용할 수 있는 공정과 종류가 다르다.2.2 막의 종류분리막은 막을 구성하고 있는 물질의 물성, 구조, 막 ... 은 막의 두께를 얇게 하면 막투과 유속이 증가한다는 용해 확산설을 기초로 하고 있으며, CARNELL & CASSIDY법,FRANCIS법 및 초박막을 다공층 지지체에 직접
    리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.03.08
  • [발광디스플레이 실험] Ni Sputtering을 통한 박막형성
    실험 제목: Ni sputtering을 통한 박막형성실험 날짜: 2011. 9. 22.실험 목적RF sputtering을 이용해 Ni 박막을 형성하고, SEM을 통해 그 두께 ... 와 표면을 관찰한다.4. 실험 도구 및 실험 방법1) Experimental instruments and Samples초음파 세척기, 비이커 : Glass 세척 (DI water ... 을 Capture한다.5. 실험 장비의 작동 원리 및 실험 이론1. Sputtering: Sputtering 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며 현재는 여러 가지
    리포트 | 8페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28
  • E-Beam Evaporator를 이용한 박막 증착 원리 이해(결과보고서)
    -beam evaporatorE-beam evaporator 공정은 주로 용융점이 높은 금속 (W, Nb, Si)과 유전체(SiO2)의 박막을 기판 위에 증착 할 수 있는 장비 ... 로써, 반도체 공정 및 MEMS 공정에 필요한 전극 제작에 주로 사용되는 공정이다. E-beam source인 hot filament에 전류를 공급하여 나오는 전자 beam을 전자석에 의한 ... ReportE-Beam Evaporator를 이용한 박막 증착 원리 이해Beam evaporator의 각 부분의 명칭과 기능E-beam evaporator 장비는 크게 6개
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.05.20
  • SiO2 박막의 식각 및 PR 제거 [결과]
    < SiO2 박막의 식각 및 PR 제거 >1. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정박막재료의 세 가지 공정으로 나눠지는데 첫째로 증착공정 둘째 ... +1262)-11000Å / 2min= 1131(Å/min)6. 고찰 및 느낀 점이번 실험에서는 반도체 소자 공정의 중요한 세가지 공정박막의 식각공정에 대해서 알아보았다. SiO2 ... 로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나눠진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이다. 본 실험
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.07 | 수정일 2014.02.02
  • [LCD실험]Color Filter 제작 및 광학적 특성 평가
    Color Filter 제작 및 광학적 특성 평가1. 실험목표: Color Filter를 직접 제작하고 광학적 특성을 평가한다.2. 실험장비Spin coaterHard bake ... S림7과 같이 여러 종류가 있는데 본 실험에서는 안료 분산법을 이용하였다.그림 SEQ 그림 \* ARABIC 7 Color filter 공정의 종류염색법은 안료 분산법보다 우수 ... 이 존재한다. 이번 실험에서 Hard baking 때문에 염색법으로 공정을 진행했다면 염료가 열에 의해 견디기가 힘들었을 것이다.안료 분산법은 LCD 제작 공정에 사용되는 acids
    리포트 | 10페이지 | 6,000원 | 등록일 2012.07.11
  • 판매자 표지 자료 표지
    Solar cell(솔라 셀) 조사 레포트 솔라셀에 대한 자료
    반도체 공정실험 레포트주제: 솔라 셀 (태양전지)1.태양광 에너지와 태양광 발전태양은 지구의 1백9배크기로 이곳으로부터 1억5천만km떨어진곳에 위치해 수소 73%,헬륨 24 ... 및 급탕 시스템, 온수기, 농·수산물 건조기, 저가 집열기 및 소규모 태양광 발전 등이 주류를 이루고 있으며, 태양열 발전에 관한 연구는 발전에 필요한 고온 획득 방법과 고온 ... 투자를 계속하고 있어 2000년대에는 가장 강력한 태양 에너지 이용 방법으로 광범위하게 보급될 전망이며, 향후 고갈되어지고 단가상승 및 환경의 위협적인 화석에너지의 대체 할 중요
    리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.06.12 | 수정일 2015.06.13
  • 판매자 표지 자료 표지
    [LS파워세미텍자기소개서 + 면접기출문제][LG파워세미텍자소서][LG파워세미텍공채자기소개서][LG파워세미텍자소서항목]
    내용인 반도체 공정기술과 관련성이 높습니다. 공정의 기본인 펌프 종류와 진공 증착법, 박막 성장에 관한 것이 주요 내용이기 때문에 회사에서 근무할 때 도움이 될 것입니다. 공정 ... 며, 미래의 LS파워세미텍의 참인재가 될 수 있도록 노력하겠습니다.2.자신의 성장과정 및 개인특성, 장점 중심으로 기술“친근하게 다가가는 매력”저는 사람들에게 친근하게 다가가는 면 ... 생활 중심으로 기술“반도체 발광 소자 연구”반도체 과학과를 다니면서 주로 반도체 소자와 공정에 대해 배웠습니다. 그중에서 저는 발광 소자에 대해 매우 관심이 높았습니다. 특히
    자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.07.29 | 수정일 2014.07.18
  • [기계공학응용실험] 실험 8. 절삭력 측정실험 링압축에 의한 소성마찰 측정실험
    , 2009링 압축에 의한 마찰상수 측정 실험1. 실험목적금속성형공정에서 금속유동은 금형으로부터 소재로 전달되는 압력에 의해 일어난다. 또한 재료와 금형 접촉면에서 마찰 조건은 금속유동 ... 실험보고서실험 8. 절삭력 측정실험/링압축에 의한 소성마찰 측정실험실험일자 : 2013년 10월 30일제출일자 : 2013년 11월 6일절삭력 측정실험1. 실험 목적압전형 힘센서 ... 를 이용한 공구동력계를 사용하여 선반작업에서 바깥지름 절삭실험을 행하면서 절삭력을 측정한다. 공구동력계에서 측정된 값은 전기적 신호로 변환하여 PC에서 신호분석하는 과정을 통해
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.11.18
  • 산화공정 (Oxidation)
    고, 둘째 증착되는 박막의 순도가 높으며, 셋째 대량 생산이 가능하여 비용이 PVD법에 비해 적게 들고, 넷째 여러 가지 종류의 원소 및 화합물의 증착이 가능하며, 공정 조건의 제어 ... 과목명마이크로팹 설계 실험성명 / 조박 준 영 / 4조실험제목Wafer Cleaning 공정산화 시간에 따른 SiO₂산화층 두께 비교실험목적1. Wafer Cleaning (Si ... 웨이퍼 준비 및 세척)2. Thermal Oxidation (시간에 따른 SiO₂산화층 두께 측정 및 비교)=>산화시간에 따라 SiO₂산화층 두깨를 비교해 본다.실험이론우리가 이번
    리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.05.10
  • 실리카 나노입자를 이용한 super hydrophobic한 표면 측정
    Silica 나노 파티클을 이용한 Super-hydrophobic surface 형성목차 실험목적 이론 기구 및 시약 실험방법실험목적 소수성의 성질을 가지는 Silica 나노 ... 다 . 얇은 박막 제조시 전하 이동도에 한계 Dip coating method 장점 : 공정이 간단하다 . 단점 : 코팅두께의 정확한 조절이 불가능하다 . 표면을 균일하게 얻을 수 ... 방수 부식 방지 자가 세정 페인트 자동차용 유리 의류 오염되지 않는 표면기구 및 시약 Silica nanoparticle (500nm)기구 및 시약
    리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.09.10
  • 박막 증착에 관한 진공장비(시스템) 소개 및 원리 숙지
    과목명마이크로팹 실험 및 설계실험제목박막증착에 관한 진공장비(시스템) 소개 및 원리 숙지실험목적PVD/Sputtering/CVD/등의 박막증착의 원리를 알아보고 그에 따라 쓰이 ... 펌프(rotary vane pump)로터리 펌프의 내부구조 및 작동순서일반적으로 실험실에서 저진공 용도로 가장 많이 사용되는 로터리 펌프의 구조와 작동 순서를 나타내었다. 로터리 ... 는 장비에 대해 숙지한다.실험이론1. 진공기구1) 소개진공이란 대기압보다 낮은 상태의 압력, 분자 밀도가 2.5*1019 분자/CM3 이하를 말하며 압력 차에 의한 힘의 발생, 극
    리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.21
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2025년 08월 16일 토요일
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