"박막공정및실험"의 검색결과 입니다.

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"박막공정및실험" 검색결과 521-540 / 1,226건

2. microwave를 이용한 금속황화물 나노분발 제조 예비

다.① 공정시간이 짧고 에너지 소비가 작아 단가를 낮출 수 있다.② 제품의 균일성과 수율을 증가 시킨다.③ 균질한 미세구조를 통한 물성 증진이 가능하다.④ 새로운 복합 재료 및 난소결 ... 으로 청색편이 하는 것을 볼 수 있다.아래의 표에서 나노분말 기술의 주요 분야를 살펴 볼 수 있다. 나노분말 기술의 주요 분야기술분야핵심기술기반기술분말합성공정설계 및 장비제작화학공정 ... 설계공정제어(형상 및 물성 제어)화학반응 제어분말 회수유체역학, 분체공학분말표면 개질분말평가형상 분석분체공학(데이터 프로세싱)성분 및 표면 분석표면화학 및 국소영역 미소분석상 및

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.22 | 수정일 2016.09.21

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[A+]기계공학실험1 에릭슨 실험

REPORT제목 : 2015-05-28 < 에릭슨 시험 >과목명 : 기계공학실험1교수명 :학 과 : 기계공학과학 번 :이 름 :실험일 : 2015-05-28제출일 : 2015 ... -06-04목차1. 서론2가. 실험목적2나. 실험이론32. 본론4가. 실험장치4나. 실험방법4다. 실험 시 유의 사항53. 결론5가. 실험결과5나. 고찰61) 에릭슨 실험의 장단점62 ... ) 연성 측정 시험 방법63) 토의124. 참고문헌14[표 2] 시험편의 종류3[표 3] 그라파이트 그리스의 종류4[표 4] 실험 측정값 표6[그림 2] 에릭슨 실험 결과 사진6

리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.03.09 | 수정일 2021.04.10

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8주차 고분자 표면개질(UV & Plasma) 및 접촉각(예비)

고분자 표면개질(UV & Plasma)및 접촉각1. 실험제목 : 고분자 표면개질(UV & Plasma) 및 접촉각2. 실험날짜3. 이론 및 배경(1) 고분자의 표면개질- 다른 ... 처리의 응용분야는 매우 다양하다.표면활성 에너지가 낮은 재료의 접착력 향상친환경적 공정표면손상의 최소화상대적 저 원가 가능고분자의 포면 접착력 향상- PTFE, PP, PVDF첨단 ... 이 전혀 없는 점 등 많은 이점을 가지고 있다.③ 자외선 처리방법의 이점형상이 복잡한 입체물에서도 램프형상 및 반송장치의 연구로 균일하게 조사할 수 있다.포면에 손상이 플라즈마 처리

리포트 | 12페이지 | 5,000원 | 등록일 2016.03.20

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박막공정을 이용한 설계[박막을 이용한 설계]

아닐린(Polyaniline)과 진공 증착방법의 하나인 PECVD방법을 통해 ZnS계 형광체에 고분자 박막코팅을하는 방법을 실험방법으로 한다.공정은 아래의 그림과 같은 과정이다.ZnS. ... 목차1. 배경 및 필요성 - 2 -1.1 설계 배경 - 2 -1.2 본 설계의 필요성 - 4 -2. 기대 효과 - 5 -3. 실험 방법 - 5 -3.1 전도성 고분자의 정의 및 ... Vapor Deposition) - 7 -3.5 실험방법 - 8 -4. 결과 및 분석 - 9 -4.1 내식성 효율 검사 - 10 -4.2 분석 - 12 -5. 결론 - 13 -6. 질

리포트 | 15페이지 | 4,000원 | 등록일 2013.06.19

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Cu 박막 전기적 특성 분석

(1nm=10??m) ※ 구리의 비저항 1.67μΩ-㎝5. Data 분석(고찰) 및 결론이번 실험에서는 반도체 공정중 하나인 배선공정에서 구리의 전기적 특성에 영향을미치는 인자 ... 들에 대한 실험을 하였다. 실험은 크게 1x1 SiO₂시편제작, Sputtering증착, 열처리(수평관상로), 비저항 및 박막의 표면 확인으로 구분할 수 있다.Cu 증착을 위해 실험 ... 를 측정하여 박막 및 시트(sheet)의 저항값을 측정하는 계측기로써, 4 probe head, FPP, 4PP등으로 불리고 있다.모두 탐침이 4개 달린 표면저항 측정용으로 사용

리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2012.09.21 | 수정일 2015.09.17

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Solar Cell

으로도 상당기간 사용될 전망이다. 2세대는 신소재 및 신공정 개발이 지연되고 있어 시장 전망이 불확실하다.○ 지속적인 성장이 예상되는 태양광발전 시장에 대하여 국내기업들이 더욱 적극 ... , III 및 IV족 원소는 빛 흡수율이 높고 전기적 특성이 좋아 반도체로 이용된다. Se는 박막의 균질성을 높이고 CIGS는 Si 태양전지와 달리 여러 가지 소재들이 복합적인 다층 ... 가 80%를%, CdTe, CIGS, 비정질 실리콘 등의 2세대 박막 태양전지가 20%를 차지하고 있다. 1세대는 상용 최대 효율이 22%로 높고 가격 하락이 지속하고 있어 앞

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.12.11 | 수정일 2014.08.20

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아주대 분야별실험 기계설계실험 LDV, Gap sensor를 이용한 변위측정

을 통해서 실제의 값과 비교와 분석을 해본다.2. 실험 이론1) LED 제조 공정LED 제조공정은 에피 웨이퍼 제조 -> 칩 생산 -> 패키징 -> 모듈 등으로 진행된다.① 먼저 기초 ... 소재인 단결정 웨이퍼에 단결정 박막을 성장시켜 에피 웨이퍼를 제조한다.② 칩 생산 공정은 전극을 형성하고 개별 칩으로 절단하는 단계③ 패키징 공정은 제조된 칩과 리드를 연결하고 빛 ... 별 분류 13. 외관검사 14. 포장 15. 출하검사 및 출하LED칩의 계열별 제작공정은 ①InGaAIP/GaAs 계열의 공정과 ②InGa(AI)N/GaN 계열의 공정으로 분류

리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.03.31 | 수정일 2014.04.07

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Alq3의 발광 박막의 제조

발광 박막의 제조목차 목적 이론 실험 방법 실험 결과 고찰목적 발광 특성이 있는 물질을 사용한 간단한 발광 박막의 제조를 통하여 박막 재료 제조 공정의 이해를 돕는다 .이 론 ... 의 간섭에 의해 착색 현상 발생이 론 박막제조공정 ( Thin film process) thin film deposition( 증착 ) 과 photolithography( 사진식각 ... 박막 (Thin firm) 기계가공으로는 실현 불가능한 두께 μ m 이하의 엷은 막 성 질 물리적 · 화학적 성질이 크게 변함 . 일반적으로 점성이 커짐 . 표면장력이 작아짐 . 빛

리포트 | 16페이지 | 4,000원 | 등록일 2011.05.28

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[실험레포트] 온도변화에 따르 저항 변화 측정

는다기 보다는 화학반응을 일으켜서 고체 상태로 변화하는 것이다.● PVD & CVDPVD와 CVD 모두 반도체 공정이나 기타 산업에 많이 이용되는데 대개 PVD는 고품질의 박막 ... 을 통기 위해 진공 환경에서 실험해야 하는 것이다.● CVDCVD는 화학적 증착법으로 MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE ... 이나 나노구조를 만들 때 쓰이지만 진공이 필요하므로 장비가 고가이며 증착속도가 느리고 CVD는 넓은 면적에 빠른 속도로 박막이나 나노구조를 증착시킬 때 사용한다. CVD도 PVD 못지

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.12.05

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재료공학실험-재료의 산화 및 박막성장

재료공학실험1재료의 산화 및 박막 성장-예비REPORT실험목표- 실리콘 집적 회로 제작에서 가장 기본적이며 자주 사용되는 열 산화막을 형성하는 방법을 알아본다.- 열 산화막 ... 두께를 측정, 비교 하여 wet oxidation과 dry oxidation의 차이점을 알아본다.실험이론< 실리콘 산화막의 용도 및 성장방법 >(1)실리콘 산화막의 용도실리콘 산화 ... 의 성장기구, 성장에 영향을 주는 인자들, 산화막의 응용 등을 익힌 다.- Silicon의 Thermal oxidation의 원리를 이해하고 실제 실험을 통해 oxide를 성장시켜 그

리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.08

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ITO Pattering 공정 예비보고서

되는 ITO를 원하는 pattern으로 식각하는 법을 습득한다.◦Photo lithography에 사용하는 각 공정의 원리와 공정 시 주의점을 습득한다.2)실험이론 및 배경저분자 ... ※ 실습과제 ITO Pattering 공정· 학과 :· 학번 :· 이름 :· 조 :· 공동실험자 :1)실험목적◦OLED/PLED/OTFT/OPV device의 투명전극으로 사용 ... 특성에 따라 다르나 어떠한 경우에도 ITO glass 전면에 형성된 박막의 두께 균일도를 5%이하로 유지하여야 한다. PR의 도포에 영향을 미치는 주요 요소로는 PR의 점도 및

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.02.23

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상전이 고분자의 제조(예비)

전도성 고분자의 제조1. 실험제목 : 상전이 고분자의 제조2. 실험날짜3. 이론 및 배경[1] 전도성 고분자(1) 전도성 고분자 (Conducting Polymers)고분자 ... 는 합성섬유, 고무, 플라스틱류로 일반적으로 전기가 통하지 않는 부도체이다. 그러나 전도성 고분자가 발견되고, 개발되어 오고 있다. 응용분야로는 투명 전도체, 전자파 차폐용 박막, 이차 ... 기의 전자소자 (molecular electronics)등으로 다양하다. 실리콘과 같은 무기 반도체에 비해 고분자를 이용한 전자 소자는 훨씬 쉬운 제조 공정과 그에 따른 낮은 생산

리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2016.03.20

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세라믹 유전체 제작과 평가

세라믹 유전체 BaTiO3의제작과 평가1. 실험 목표 및 이론(1) 실험 목적대표적인 세라믹 유전체인 BaTiO3의 제작하기 위한 공정조건을 알고 XRD를 이용해 확인해본다.(2 ... ) 실험 관련 이론① 세라믹 유전체절연체에 전기장을 걸어주었을 때 재료의 결정구조에 전기분극이 생기는 현상을 띠는 물질을 유전체라 한다. 유전체에는 상유전체, 강유전체, 초전체 ... 의 슬릿 위치, 스펙트럼 결정면, 검출기는 모두 같은 원주 위에 놓이게 된다. 이러한 방법은 분해능이 좋고 회절 X선 강도가 강하다.2. 실험 방법1) 평량 (BaCO3, TiO2

리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.07.01 | 수정일 2019.06.07

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Nanowire 기술동향 및 AlN nanowire by HVPE

bottom-up 공정이 그 대안으로 등장하였다. 외국의 선진연구그룹을 중심으로 관련 연구가 진행되고 있으며, 그 중 정보처리 및 표시소자 등 전자산업을 진일보시킬 수 있는 재료로 평가 ... buffer layer 등 벌크나 박막에 대한 연구에 매우 편중되어 있다. 이에 대한 기존 문제점은 다음과 같다.- 고순도 AlN 합성 및 성장에 있어서 고온(1700℃ 이상 ... 제조가 어려움- 유전박막 혹은 MEMS를 이용한 기능성 소자제작에 있어서 식각 및 Chemical Etching에 대한 연구가 미비- 순수한 AlN 재료에 대한 기초 연구 및 관련

리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.05.01

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ITO Scribing & Cleaning 예비보고서

으로 사용되는 ITO glass를 원하는 크기로 자르는 방법을 습득한다.◦원하는 모양으로 자른 ITO glass의 오염된 표면을 세정하여 소자의 성능 및 수율을 향상시킨다.2)실험이론 ... 및 배경Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요하다. Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다.●UVO ... 고려되어야 한다. 유기EL 소자제작공정은 기본적으로 박막이 도포 되는 영역에 기준 하여 진행이 되므로 Plastic 기판 상에서도 적용이 가능한 장점을 가지고 있으나 이는 장래

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.02.23

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표면공학 - 화학증착법 발표

스퍼터링 및 전기도금공정 , 이온주입 및 확산 , 열처리 공정 그리고 저유전 절연막의 spin coating 공정 정도를 제외하고는 대부분의 박막이 CVD 기술에 의하여 형성 ... 에 의해 , 고체물질이 증기로부터 증착되어지는 공정 ☞ 피복력 이 우수하고 균일하며 복잡한 기판에 코팅이 가능 . 국부적 , 선택적 증착 가능 . ☞ 전자산업 , 내마모성 및 내식성 ... 도 ,으며 최근에는 소자의 집적도가 증가함에 따라 기존에 사용되지 않던 더욱 다양한 재료의 CVD 공정이 요구되고 있다 . 소자의 미세화 및 고밀도를 구현하는 집적호가 성공

리포트 | 35페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.10.14

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진공 및 박막의 전제척인 개념 및 박막의 3가지 성장모델, CVD & PVD 비교 정리

, 초고진공으로 나눌 수 있다.저진공은 1atm~10^-3Torr 정도이고 음식건조, 네온사인, 플라즈마공정, LPCVD 같은 곳에 쓰인다. 고진공은 10^-3~10^-7Torr ... 정도이고 기체의 평균자유행로가 진공용기보다 길다. 그러므로 공기분자간의 충돌보다 용기내벽과의 충돌이 더 많다. 이 환경은 진공관제작, CRT모니터, 이온주입공정 ... 실험을 할 때 사용된다. 보통 우주관련연구, 표면분석, 핵융합연구에 쓰인다. 이렇게 진공도에 따라서 알맞은 작업환경을 만들어주는데 무조건 고진공으로 만든다고 해서 좋은 것이 아니

리포트 | 8페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2022.11.21

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SiO2 박막의 식각 및 PR 제거 실험 예비

1. 실험제목박막재료의 표면처리 및 PR 제거2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정은 박막재료의 세가지 공정으로 나뉘어 지는데 첫째로 증착공정 ... 다. 본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화등에 대하여 고찰하고자 한다.3. 실험내용가장 ... 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나뉘어 진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정은 박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.08.07

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디스플레이 기술현황 및 전망

을 이용한 TFT 결정화 및AMOLED 화소형성기술27 inch AMOLED 개발SonyLITI 방식을 이용한 AMOLED 제조방법4세대급 설비 가동300 ppi급 고해상도 공정 ... 1. 디스플레이 기술 현황 및 전망11-1. 대면적 OLED 기술 현황 및 전망11) 서 론12) 대면적 화소형성 기술의 정의13) Fine Metal Mask (FMM) 법24 ... ) 대면적 레이저 인쇄법45) 대면적 용액기반 RGB 인쇄법66) White OLED + Color Filter 형성기술87) 결 론91-2. OLED 조명 기술 현황 및 전망91

리포트 | 29페이지 | 3,500원 | 등록일 2013.12.05 | 수정일 2014.02.26

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[발광디스플레이 실험] CNT소자의 제작과 특성평가

실험 제목: CNT 소자의 제작과 특성평가실험 날짜: 2011. 11. 24.실험 목적CNT 소자를 제작하기 위해 cathode와 anode를 각각 제작하면서 각 공정들을 이해 ... 하고, CNT소자의 특성을 평가한다.4. 실험 도구 및 실험 방법1) Experimental instruments and SamplesCathode 제작RF sputtering ... - 정밀한 공정제어 가능 : 공정변수에 따라 반응장치가 달라지며 용도에 따라 다양한 형태의 박막을 고도의 공정제어를 통하여 형성가능하다.- 복잡한 형태 위에 균인한 Coating

리포트 | 16페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28

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