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리소그래피 웨이퍼 제조공정 포토레지스트 한일 무역전쟁 photoresist 동진쎄미켐
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"포토레지스트" 검색결과 261-272 / 272건

  • 자료 표지
    반도체 제조 공정
    이러한 공정은 일반적으로 'Stepper'라는 공정을 이용. stepper는 포토레지스트로 코팅된 웨이퍼에 하나의 소자층의 이미지를 가진 reticle을 통해 단파 UV light ... 의 물질을 제거(산 혹은 부식용액을 사용) SiO2를 제거하는데는 NH3F로 완충된(buffered) 불화수소산 포토레지스트를 제거할 때는 황산 작업자의 안전과 균일성을 위해 자동
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 36페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.09.23
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  • 자료 표지
    [반도체 제조공정] 반도체 제조공정
    게된다. 형성된 포토레지스트 패턴은 후속 공정인 식각 또는 이온 주입 공정시 마스크 역할을 하게 되며 최종적으로 O2플라즈마에 의하여 스트립된다. 포지티브 단층 레지스트 공정은 양산
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.11
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  • 자료 표지
    [PCB 제조공정] Imaging(회로형성) 제조공정
    )■ 정면된 기판 표면상에 Dry Film을 일정한 열과 압력을 이용해 압착?도포하는 것■ Laminae 하는 동안, 폴리에틸렌은 제거되고 포토레지스트와 폴리에스테르는열과 압력
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.24
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  • 자료 표지
    [반도체공학] 반도체기초과정
    은 파장의 광원을 사용해야 한다. 그러기에 DOF의 기준은 점점 더 엄격해지고 있는 추세이다.그림10. 화학증폭성 포토레지스트의 미세 패턴 형성 공정9. 현상(Development)공정
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.04.21 | 수정일 2021.03.30
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  • 자료 표지
    [반도체] 반도체 시장 정보
    조립용재료 시장규모 및 전망단위 : 백만달러, %자료 : SEMI세계 포토레지스트 제조업체 및 시장점유율-22.9100.0859.4100.0662.9Total Market-28
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.01
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  • 자료 표지
    [반도체공학] pn접합의 제작
    하는 작용이다.. Etching(식각)포토레지스트 패턴이 형성된 뒤에 그 패턴은 아래에 있는 물질을 식각하는 마 스크로 사용될 수 있다. CFC(ChloroFluoroCarbon
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2002.10.25
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  • 자료 표지
    [고분자, 석유화학, 기능성] 기능성 고분자 프리젠테이션 자료
    , 새로운 개념의 건식 에칭기성 포토레지스트의 개발, 새로운 내열성 고분자의 합성법 등 21세기의 핵심적 기술의 하나인 광전자산업용 고분자 개발에 그 목표를 두고 있다.기능성 고분자
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 29페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.06.01
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  • 자료 표지
    [마케팅/컨텐츠/기획] LG 그룹 분석
    업 철수등을 통해 2578억원의 자금을 확보했다. 또 미국 다우케미컬사와 폴리카보네이트 사업 합작 및 미국 롬&하스사와의 포토레지스트 사업 합작으로 모두 3억5000만달러의 외자
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 50페이지 | 2,000원 | 등록일 2003.06.02
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  • 자료 표지
    [집적회로] 집적회로에 관하여
    ) 인(P) 도너주입과 포토레지스트 마 스크를 사용한 n-웰의 형성, 전체적인 도핑농도를 높게 하는 것은 캐리어의 이동 에 좋지 않은 영향을 끼치는데, 그것은 이온 화된 불순물 산란
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2002.10.25
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  • 자료 표지
    [광전자] 광전자재료에 대하여...
    , 느린 반응속도포토레지스트(Photoresist){반도체(半導體, semiconductor)란 상온에서 금속과 같은 도체보다도 전하를 잘 이동시키지 못하지만 유리나 자기와 같은 부도체(
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.04.06
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  • 자료 표지
    [전자정보용 고분자] 반도체용 저유전물질
    을 가지는 유기·고분자 물질이 합성되기 시작하였다. 현재 유기·고분자 물질은 포토레지스트 (photoresist), 초박막 절연막 (interlayer dielectrics
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    | 리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2002.05.11
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  • 자료 표지
    Spinless coating의 균일성 향상을 위한 연구
    포토레지스트 물질로 도포된다. 웨이퍼는웨이퍼를 고정시키기 위해서 자신의 표면 위에작은 진공 구멍을 가진 테플론 디스크 혹은평평한 금속인 진공 척(vacuum chuck) 위에탑재 ... (mount)된다. 액체 포토레지스트의 정확한양을 웨이퍼에 공급되고 웨이퍼는 웨이퍼 위에레지스트의 균일한 코팅을 구하기 위해서 회전된다.다른 레지스트들은 각기 다른 스핀 코팅상태 ... 를 요구한다. 포토레지스트 응용에서 중요한품질 측정은 시간, 속도, 두께, 균일성, 미립자의오염, 그리고 핀 홀과 같은 레지스트 결함이다.2.1.3 약하게 굽기레지스트가 웨이퍼 표면
    Non-Ai HUMAN
    | 논문 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.12.15
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