"박막공정"의 검색결과 입니다.

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"박막공정" 검색결과 181-200 / 3,488건

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3-2. AMOLED Bottom Emission OLED report (A0)

AMOLED 소자 및 공정실험 캡스톤 디자인1. 실험 제목Bottom Emission OLED2. 실험 목표Spin coater를 이용한 고분자 기반 OLED제작 및 특성 관찰3 ... 는데 힘이 든다.-저분자 물질과 고분자 물질 비교-Spin coater스핀 코팅은 매우 쉽고 저렴하게 고효율로 재현 가능한 균일한 박막을 형성할 수 있는 다용도 코팅 기술이다. 용액 ... -공정 유기/무기 전자 소자의 제작에 널리 사용되고 있으며 이러한 특성들은 스핀코팅 도중 적용된 공정 조건, 용매의 성질, 기판의 온도 및 표면 특성, 용매의 증기압력, 스피닝

리포트 | 8페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.07.30 | 수정일 2023.08.18

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[반도체공학실험]반도체 패터닝

시킬 때 얼마만큼의 power을 줄 수 있을지 조절하는 파워 컨트롤러가 있다.나. 실험 시약1) Silicon wafers : 고순도의 실리콘을 녹여 절단 연마 등의 공정을 거친 얇 ... 어 플라즈마를 발생시킨 후 식각후에 남아있는 감광액(PR)을 제거하기 위해 사용되는 가스이다.2. 실험 방법가. 실험 과정1) 리소그래피 된 박막 2조각을 Main chamber ... }(20CCM)]4) 기체 압력을 0.2torr로 조절한다.5) power를 200W로 설정하고 플라즈마를 형성한다. (2분동안 진행)6) 식각이 끝난 박막은 광학현미경으로 관찰

리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.08.28

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film deposition issue

어낸다. 따라서 얇은 두께의 박막도 만들 수 있고, uniformity가 좋고, step coverage가 좋다. 하지만 throughput이 좋지 않다.Part 2. 공정 이슈 ... 반도체 공정 및 응용 과제-반도체 단위 공정 Film Deposition전자공학과2018706003 신진섭Part 1. 공정 소개-Film DepositionFilm ... thin film을 증착해야 한다. 그래서 분자나 원자 단위로 증착을 하게 된다. deposition공정은 방법에 따라 크게 물리적인 방법으로 증착하는 PVD와 화학적 반응을 이용

리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.11.13

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반도체 공정 term project

-LCD등 다양한 분야에 적용 가능한 박막 분리장비인 Laser Lift Off장비를 주력 제품으로 보유중이다.핵심 보유기술로는 반도체 패키지 공정용 Bump sputter 기술, 유기 ... 에 의해 음극인 target쪽으로 가속되어 타겟의 표면과 충돌하면 중성의 target원자들이 튀어나와 기판에 박막을 형성한다. DC Sputtering방법은 직류전원을 이용 ... 에 처음으로 발견하였다. 1974년 Chapin은 평탄한 target의 하부에 자석을 설치하여 Magnetron Sputtering을 발명했다. 이후 다양하고 우수한 박막을 코팅

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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숭실대학교 신소재골학실험2 Deposition 공정 및 소자 제작 평가 결과보고서

1. 실험 제목Deposition 공정 및 소자 제작 평가2. 실험 날짜23.11.233. 실험 목적? MIS, MIM 커패시터 소자에 대한 이해? Evaporator ... ) MIM, MIS 소자의 C-V 전기적 특성 차이 비교 (그래프 개형, 예상과 차이 등)이번 실험에서 p-Si 박막이 MIS 구조로 사용되었고, p++-Si 박막이 MIM 구조 ... Mask와 Silicon Wafer와의 간격이 생기면 각 Cell마다 상부전극 면적이 달라지기 때문에 오류가 생길 수 있다.2) 박막 두께에 따른 Capacitance 차이 비교A

리포트 | 5페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.08.26

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ALD 예비보고서

에 증착하는 PVD는 비교적 단순한 메커니즘과 저온의 상태에서 공정을 하지만 박막의 치밀성 및 접합성이 안좋다. PVD는 열증발법, 전자빔증발법, 스퍼터링법으로 나뉜다. PVD 종류열 ... 하면서 금속과 부딪힌다. 이때, 금속입자가 튕겨져 나와 반대편에 있는 기판에 쌓이게 된다.PVD 공정 중 다른 입자들이 박막과정에 증착되는 것을 방지하기 위해 진공상태에서 진행해야 CVD ... 예비보고서실험제목 ALD (Atomic Layer Deposition)이론 및 배경1) 박막 증착법의 종류‘박막(thin film)’이란 1마이크로미터(μm, 100만분의 1미터

리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.12.16 | 수정일 2021.04.08

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N-type 결정질 실리콘 태양전지 응용을 위한 Al2O3 박막의 패시베이션 특성 연구 (Passivation property of Al2O3 thin film for the application of n-type crystalline Si solar cells)

은 400oC 5분간 후속 열처리 공정 후에도 Al2O3 - 실리콘 계면 반응 없이 비정질 상태를 유지할 만큼 구조적으로 안정한 특성을 나타내었다. 후속 열처리 후 Al2O3 박막 ... 적으로 평가하기 위해서 후속 열처리 공정을 거친 Al2O3 박막을 이용하여 metal-oxide-semiconductor(MOS) 소자를 제작하고 capacitance ... 3 박막의 고정음전하는 2.5 × 1012cm−2로 계산되었으며, 이는 본 연구에서 제시된Al2O3 박막 공정이 N-type 실리콘 태양전지의 패시베이션 공정에 응용 가능하다는 것

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.25 | 수정일 2025.05.27

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테스 공정개발 자기소개서

스터디를 진행하였습니다. 이를 통해 CVD 단위공정에 대한 이해도를 높이고, 공정 최적화 연구를 진행하였습니다. 또한, 여러 가지 박막 분석법과 원리에 대해 학습하였습니다. 이러 ... )^7^8..FILE:Contents/section0.xml테스 공정개발 자기소개서1. (주)테스에 지원한 지원동기와 입사 후 목표를 서술하시기 바랍니다. (1,000자)[CVD 장비 ... 문제 해결을 통한 직무 방향성 설정]학부 연구생 동안, CVD 공정 최적화에 관해 연구했습니다.CVD 장비 내 Chamber의 진공 성능 저하로 갑작스럽게 연구가 중단된 적이 있

자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.01.08

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서울과학기술대학교 무기공업화학 중간고사 요약자료 및 예상문제 (30제, 직접 제작한 문제입니다)

⑶ 복시킨다,⑤ 박막 형성기술 및 공정 ⑴ 개요-Physiacl Deposition : Evaporation, Sputtering-Chemical Deposition : CVD ... 함으로써 박막층을 형성하는 공정 (붙이려는 표면에 화학반응 유도)? 장점-다양한 특성을 가지는 박막을 원하는 두께로 성장시킬 수 있다.-여러 가지의 화합물 박막의 조성 조절이 용이-화학반응 ... 산업용 원자재나 보조재료를 생산하는데 목적을 둔 공업-공업화학 : 화학제품을 생산하는 공정개발에 연관된 학문 분야로 각 제품의 제조기술이나 그 반응에 대한 연구가주제로 된 것

시험자료 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.07.08

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TFT 산화물의 구조와 원리

TFT란 Thin Film Transistor의 약자로 그대로 풀이를 하자면 얇은 막을 이용한 트랜지스터로 박막 트랜지스터라고 불린다. 트랜지스터는 간단하게 설명하자면 전압 ... . 디스플레이에서 후면판은 메인 디스플레이 와 연관된 박막 트랜지스터를 구성하며, 각각의 픽셀을 키고 끄는 원리로 디스플레이의 해산도, 화면 재생 빈도, 전력 소비량 등을 결정 ... 한다.TFT제조 공정은 유리 기판 위에 디스플레이의 기본 요소인 픽셀의 전극 스위치를 제작하는 공정이다. 반도체 제조 공정과 유사하며, 패턴 공정을 반복해서 진행한다.TFT제조 공정은 유리

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.03.14

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집적회로 소자 공정, 반도체 소자 제작 공정 실험 예비보고서

전자회로응용 및 물성실험예비보고서전기공학과 2017732038실험 회차: 9실험 명: 집적회로 소자 공정, 반도체 소자 제작 공정 실험실험 9 집적회로 소자 공정, 반도체 소자 ... 제작 공정 실험I. 개요면 저항(sheet resistance)의 개념을 이해하고 4 point probe를 통해 면 저항의 측정 및 이를 이용한 저항의 설계에 대해 이해 ... 하고자 한다. 면 저항 및 dimension에 의한 저항의 설계를 통해 마이크로 히터(Micro-heater)를 설계/제작하도록 한다.반도체 소자 제작을 위한 용액 공정, 기상 증착

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2021.09.25

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LG 디스플레이 공정/장비 직무 면접 공부 자료

OLED 공정1. OLED 정의와 발광원리OLED = Organic Light Emitting Diode, 유기발광다이오드유기물 박막에 양극(ITO)과 음극(Metal)을 통해 ... 층OLED(Rigid OLED) 제품에 적용했다.박막 봉지공정(Thin Film Encapsulation, TFE): 무기물과 유기물을 차례대로 적층하는 구조. 얇은 두께로 봉지 ... 하면 화학반응을 거쳐 웨이퍼 표면에 박막을 형성하고 생성된 부산물은 탈착되어 밖으로 배출되는 방식의 공정이다.CVD는 박막 형성 제조의 대표적인 방법 중 하나로 박막품질과 도포성이 우수

자기소개서 | 16페이지 | 5,000원 | 등록일 2024.03.28

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H2O, O3 반응기체로 원자층 증착된 Al-doped ZnO 박막의 특성 (The Properties of Atomic Layer Deposited Al-Doped ZnO Films Using H2O and O3 As Oxidants)

본 논문에서는 원자층 증착법을 이용한 박막 증착 공정에서의 반응기체에 따른 Al-doped ZnO (AZO) 박막의 특성을 비교하였다. 투명 전도성 산화물 중의 하나인 AZO ... 박막은 trimethylaluminum (TMA)과 diethylzinc (DEZn)소스를 이용하여 원자층으로 증착되었다. 저온에서 반응기체 H2O와 O3의 비율을 바꾸어서 AZO ... 박막을 증착하였다. 이렇게 증착된 AZO 박막의 전기적, 광학적, 구조적 특성은 4-point probe, Hall effect measurement, 분광 광도계 (UV-VIS

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.11 | 수정일 2025.07.19

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3-1. AMOLED Tooling 및 진공 기초 report (A0)

AMOLED 소자 및 공정실험 캡스톤 디자인1. 실험 제목Tooling 및 진공 기초2. 실험 목표- 진공의 기본적 이론 이해- 알파 스텝을 통한 막 두께 측정과 Tolling ... 증발 및 승화작용생화학 반응 억제단열효과- 진공 압력OLED를 증착할 때는 High vacuum에서 공정을 한다. 왜냐하면 증착을 할 때Thermal evaporation을 하 ... 는데, 그 때 균일한 증착을 위해 High vacuum에서 공정을 한다.이번 공정에서 사용하는 Vacuum Chamber에서의 진공은10 ^{-6} SIM 10 ^{-7}Torr 정도

리포트 | 8페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.07.30 | 수정일 2023.08.18

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[재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

Sputtering 제조공정 학습을 통한 공정설계 능력 배양.다. ITO박막의 물성 (두께, 비 저항, 투과율) 측정을 통한 측정원리, 사용 방법 및 데이터분석 능력 배양.라. 고효율의 투명 ... 투명전극재료의 합성 및 물성 평가1. 실험 목적가. 각종 디스플레이에 투명전극으로 사용되는 ITO (Indium-Tin Oxide) 박막의 제조.나. Plasma 및 ... 박막의 3대 재료는 ITO막,SnO _{2}막, ZnO막이다. 이중에서도 ITO막은 낮은 저항을 가지며 강산에 의한 에칭특성이 뛰어나기 때문에 디스플레이용 투명전도막의 세계 수요

리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

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전기도금 방법으로 제작한 BiTe 박막의 열전특성 (Thermoelectric Properties of Electroplated BiTe Thin Films)

전기도금 방법으로 BiTe 박막을 제작하였는데, 전해액의 조성과 도금 전압을 변화시킴으로써 BiTe의 성분비를 조절하였다. 도금 공정의 변화에 따른 BiTe 박막의 결정성, 입 ... 도 및 전기전도 특성을 조사하고 열전특성의 하나인 전력 상수를 측정하였다. 도금 박막에 대한 열처리를 통하여 박막의 입도와 결정성의 변화를 유도하였는데, 일반적으로 열처리 시간 ... 의 증가에 따라 입도는 증가하는 경향을 보였다. 다양한 BiTe 박막 중 주로 (110)의 결정성을 지닌 박막에 대하여 전력 상수를 측정한 결과 시료 양단간의 온도차가 10 $^\c

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.26 | 수정일 2025.07.04

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성장 온도에 따른 원자층 증착법으로 증착된 SiO2 박막의 특성 (Properties of SiO2 Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition in relation to Growth Temperature)

산화물 박막트랜지스터의 게이트 절연막 응용을 위하여 diisoprophyla minosilane (DIPAS)와 O3 reactant를 이용하여 SiO2 저온 원자층증착 ... (atomic layer deposition, ALD) 공정에 대한 연구를 수행하였다. DIPAS의 잘 알려진 ALD 공정 온도인 250 °C 보다 낮은 150 °C, 100 °C 온도 ... 로 증착한 후 ellipsometer를 이용하여 growth/cycle (GPC) 특성과 박막의 두께 균일도를 관찰하였고, SiO2 박막의 전기적인 특성을 측정

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.11 | 수정일 2025.07.19

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[고분자재료]OLED 소자제작 결과레포트

결과보고서※ 실습과제 #07 : OLED소자 제작1. 실험목표고분자 발광물질을 이용하여 OLED의 제작 방법을 알아보고 OLED의 봉지공정을 통해 제작된 소자를 수분과 산소 ... 로부터 보호한다.2. 실험배경일반적으로 고분자는 반복단위인 단분자가 공유결합에 의해서 수십에서 수백 개가 서로 연결되어 있기 때문에 단분자에 비해서 박막 형성이 용이하며 내충격성이 큰 ... 장점이 있기 때문에 유기전기 발광 소자와 같이 초박막을 이용하는 전자 및 광학 소자에 가장 적합한 재료중의 하나이다.고분자는 스핀코팅에 의한 습식 박막 증착을 하기 때문에 1차

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21

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P-N junction을 이용한 금속산화물 반도체의 가스 센싱 감응변화 분석 실험보고서

시킨다.2. n-type SnO2의 산화성 가스 NO2에 대한 가스 센서특성을 측정한다.3. 센서특성 향상을 위해 TeO2 나노선에 p-type TeO2 나노선을 추가로 공정하여 실험 ... - 소형화 가능- 반도체 생산 공정과 뛰어난 호환성- 전기 화학식 가스 센서에 비해 간단한 작동원리- 저렴한 가격단점- 선택성이 떨어져 여러 가지 가스를 동시를 감지할 수 없다. ... 의 plasma가 형성된다. Plasma 내의 Ar+이온은 큰 전위차에 의해 음극인 target 쪽으로 가속되어 target과 충돌하면 중성의 target 원자들이 튀어나와 기판에 박막

리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.03.08

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반도체 공학 과제 (반도체 기본 공정 기술)

시에 식각액과 반응하지 않아서 하단부의 박막을 식각으로부터 보호한다.포토 공정은 파장이 짧아지고 방식이 다변화하는 방향으로 발전되어왔다. 파장이 작아지는 방향으로는 G-Line ... 을 형식각은 액체의 화학 물질을 사용하여 박막을 식각 하는 공정이다. 비등방성인 건식 식각에 비해 등방성으로 식각이 됨으로 미세 패턴을 구현하기 힘들다. 하지만 일괄처리가 가능하기 ... 마이크로미터 이하의 얇은 막을 입히는 공정이다. 웨이퍼 위에 원하는 분자 또는 원자 단위의 박막을 입히는 일련의 과정을 증착이라고 한다. 이 때 박막의 얇기는 정말 얇으며 웨이퍼 위

리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.07.02

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