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ALD 정리 및 개발동향 보고서, 특허 map

반도체 공정 중 1개를 선택해서, 특허map을 작성하는 과제였습니다. 해당 공정의 시초가 되는 특허를 찾고, 그 특허에서 이어지는 특허들을 찾으면서 개발 동향을 찾는 과제입니다. 추가로 ALD 정리및 개발동향 보고서입니다.
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최초등록일 2020.12.11 최종저작일 2017.10
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ALD 정리 및 개발동향 보고서, 특허 map
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    소개

    반도체 공정 중 1개를 선택해서, 특허map을 작성하는 과제였습니다.

    해당 공정의 시초가 되는 특허를 찾고, 그 특허에서 이어지는 특허들을 찾으면서 개발 동향을 찾는 과제입니다.

    추가로 ALD 정리및 개발동향 보고서입니다.

    목차

    1. 선정 이유
    2. List
    3. Map
    4. Patent

    본문내용

    1) Method for producing compound thin films

    Highly oriented compound thin film을 제작하는 방법

    #청구항1
    기판의 표면과 vapor가 반응할 수 있는 온도
    Vapor of a first single element를 기판과 반응시켜 first single element atomic layer 형성
    Vapor of a second single element가 first layer와 반응하여 second layer 형성
    반복하여 desired thickness에 도달

    참고자료

    · http://www.kipris.or.kr/khome/main.jsp (patent list)
    · http://blog.naver.com/pjh5633/220805675137
    · https://www.google.com/patents/US4058430 (original patent)
    · https://www.variantmarketresearch.com/report-categories/semiconductor-electronics/atomic-layer-deposition-equipment-market (ALD market size)
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