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Deposition 금오공대 반도체 반도체 공정 반도체 증착 mocvd 생활 속 나노 기술 그래핀

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"catalytic chemical vapor deposition" 검색결과 1-20 / 658건

Synthesis of vertically aligned thin multi-walled carbon nanotubes on silicon substrates using catalytic chemical vapor deposition and their field emission properties (Synthesis of vertically aligned thin multi-walled carbon nanotubes on silicon substrates using catalytic chemical vapor deposition and their field emission properties)

한국진공학회 정승일, 최상규, 이승백

논문 | 9페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.15 | 수정일 2025.05.09

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Synthesize multi-walled carbon nanotubes via catalytic chemical vapour deposition method on Fe-Ni bimetallic catalyst supported on kaolin

한국탄소학회 Aliyu A, Abdulkareem AS, Kovo AS, Abubakre OK, Tijani JO, Kariim I

논문 | 18페이지 | 5,200원 | 등록일 2023.04.05

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Uniform deposition of large‑area graphene films on copper using low‑pressure chemical vapor deposition technique

한국탄소학회 Mehmet Gürsoy, Emre Çıtak, Mustafa Karaman

논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.05.08

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ASML 영어 이력서 및 자소서 (English CV and Resume)

-*********@****.ac.krPROFILESet up and utilized Chemical Vapor Deposition (CVD) system more than 1.5 ... yearsExperienced photolithography to make micrometer scale transistor more than 1.5 yearsSynthesized two ... , Pohang University of Science and Technology (POSTECH), PohangMarch 2019 – February 2021Chemical

자기소개서 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2022.01.22

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촉매 화학기상증착 공정에서 온도구배 설정을 통한 타이타늄 기판에서의 CNT 성장 거동 (CNT Growth Behavior on Ti Substrate by Catalytic CVD Process with Temperature Gradient in Tube Furnace)

한국분말재료학회 박주혁, 변종민, 김형수, 석명진, 오승탁, 김영도

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.07 | 수정일 2025.05.08

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(특집) 증착공정 심화 정리5편. CVD, PVD

< (특집) 증착공정 심화 정리5편. CVD / PVD >[ CVD : Chemical Vapor Deposition ]'CVD(Chemical Vapor deposition ... 는 여분의 불순물들이 탈착된다.?8. By-product removal: 탈착된 물질을 제거?[ PVD : Physical Vapor Deposition ]PVD 반응 과정(렛유인 ... 대로 설명드리겠습니다.)?1. Reactants enter chamber : 가스가 챔버에 들어옵니다.ex) SiH4 + H2O → SiO2?2. Dissociation of

리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.11.02

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반도체실험 Chemical Vapor Deposition and Electrical Measurements of TMDC

전자/광전소자소재실험Chemical Vapor Deposition &Electrical Measurements of TMDC1. CVD 합성 원리를 서술하고, powder CVD ... 합성과 MOCVD 합성의 차이점을 3가지 이상 설명하시오.Chemical vapor deposition(CVD)은 chemical precursor를 사용하여 chemical ... reaction과 surface adsorption을 통해 thin film을 증착하는 기술이다. CVD는 Figure 1의 과정으로 진행된다. 먼저 reaction gas가 c

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2025.02.03

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[물리전자2] 과제2 단원 요약 Fabrication of pn junctions

implantation damage.5.1.5 Chemical Vapor Deposition (CVD)Chemical vapor deposition (CVD) is one of the ... the silicon surface can combine with the silicon, resulting in a chemical reaction at the silicon s ... the mask to a light-sensitive material called photoresist (PR). Subsequently, chemical or plasma

리포트 | 5페이지 | 2,500원 | 등록일 2023.12.21 | 수정일 2023.12.30

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싱글 레이어 그래핀 성장

(2011), pp. 1178-1271Y. Zhang, L. Zhang, C. Zhou. Review of Chemical Vapor Deposition of Graphene and ... 1. CVD (Chemical Vapor Deposition; 화학 기상 증착법)CVD는 Chemical Vapor Deposition의 줄인 말로, 화학 기상 증착법이 ... 의 탄소 용해도 차이에 따른 결과이다. Cu-C, Ni-C Phase diagram이며, Cu-C Phase diagram은 조성 축을 확대하여 보였다. 열분해 화학반응을 통해서

리포트 | 2페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.04.29

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Sol-Gel 법을 통한 Glass 제작 시 Crack 억제 방안

를 제작하기 쉽다.④축합반응을 정밀하게 제어함으로써 분자 설계에 근거한 유리를 제작할 수 있다.⑤CVD(Chemical Vapor Deposition), PVD(Physical ... Vapor Deposition)법에 비하여 생산효율이 높다.⑥저온 process이므로 에너지를 절약할 수 있다.○단점①원료가 고가이다.②건조 시간이 오래 걸린다.③Crack이 발생 ... 성분 glass제작②건조 중의 crack의 억제③완전한 소결조건위에 제시된 방안 중 ②에 대한 방안에 초점을 맞추어 분석하였다.Crack은 고체에 가까운 Gel상태와 소결 과정

리포트 | 10페이지 | 4,900원 | 등록일 2021.03.24 | 수정일 2021.03.25

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금오공대 신소재 반도체공정 시험 정리

표면확산이 일어나므로 결정성과 평탄성이 좋지만, growth rate가 느린 단점이 있다.MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)금속 ... 되는 것이다. sputtering은 상온에서 진행되는 저온 공정이다.CVD는 화학 기상 증착법(Chemical vapor deposition)으로 화학 반응을 수반하는 증착 방법이 ... vapor deposition)으로 화학적 반응을 수반하지 않고 sputtering이나 evaporation과 같은 방법으로 증착시키는 것을 말한다. evaporation은 녹이

리포트 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2024.11.08

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[신소재공학실험] 고분자합성_Final Report

는 gas phase synthesis는 보통 gas condensation, vacuum deposition, chemical vapor deposition에 의해 이루어진다. 이 ... 와 전구체 간의 incompatibility 때문에 문제가 발생하기도 한다. 심지어 vacuum deposition의 경우, 많은 compound를 deposition하기 힘들 ... compared to gas, and solid phase approach?Nanostructured material을 synthesis하는 technique에는 크

리포트 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2025.02.03

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CNTs 합성을 통해 향상된 비표면적을 갖는 Ti 다공체의 제조 (Fabrication of Ti Porous body with Improved Specific Surface Area by Synthesis of CNTs)

한국분말재료학회 최혜림, 변종민, 석명진, 오승탁, 김영도

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.13 | 수정일 2025.03.28

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CNT 분산 및 제조 리포트

촉매활성에 우수하고, 준안정 탄화물을 형성하며 탄소가 금속을 통해 매우 빠르게 확산될 수 있게 해준다.2-2)CVD(Chemical vapor deposition)은 증착 하 ... growth through chemical vapor deposition-[S.B.Sinnott 외 7인]⊙Effects of different carbon precursors ... .각 실험의 핵심 원리2-1) VLS(Vapor-Liquid-Solid)반응 은 원료가 vapor상태에서 liquid 상태를 거쳐 solid상태로 변하는 과정이다. 촉매 역할을 해

리포트 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.11.03

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다양한 금속 기판재료에 따른 그래핀의 유도결합 플라즈마 화학기상 성장 특성 (Inductively-Coupled Plasma Chemical Vapor Growth Characteristics of Graphene Depending on Various Metal Substrates)

한국재료학회 김동옥, 트란남충, 김의태

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.26 | 수정일 2025.05.14

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유도결합 플라즈마 화학기상증착법에 의해 활성화된 탄소원자를 이용한 Ni/SiO2/Si 기판에서 그래핀 성장 (Graphene Formation on Ni/SiO2/Si Substrate Using Carbon Atoms Activated by Inductively-Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition)

한국재료학회 Lam Van Nang, 김의태

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.26 | 수정일 2025.05.14

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Synthesis of free-standing ZnO/Zn core-shell micro-polyhedrons using thermal chemical vapor deposition (Synthesis of free-standing ZnO/Zn core-shell micro-polyhedrons using thermal chemical vapor deposition)

한국결정성장학회 김상우, 최민열, 박현규, 정순욱

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.17 | 수정일 2025.05.10

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유도결합 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 Ni/SiO2/Si 기판에서 그라핀 제조 (Synthesis of Graphene on Ni/SiO2/Si Substrate by Inductively-Coupled Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)

한국재료학회 박영수, 허훈회, 김의태

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.26 | 수정일 2025.05.14

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유동층 화학기상증착법을 이용하여 제조된 열분해 탄화규소의 특성에 미치는 증착온도의 영향 (Effect of Deposition Temperature on the Property of Pyrolytic SiC Fabricated by the FBCVD Method)

한국분말재료학회 김연구, 김원주, 여승환, 조문성

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.11 | 수정일 2025.07.19

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반도체 박막 증착 공정의 분류 보고서 (3P)

(chemical vapor deposition) 증착 공정(Fig.3)으로 크게 1) APCVD(atmospheric cvd), 2) LPCVD(low pressure cvd), 3 ... 적 특성을 갖도록 유도하기 위한 증착(deposition) 공정에 대해 알아보고자 한다.Fig. 1 PVD 증착 공정 형태 Fig. 2 step coverage반도체 제조에 사용 ... 되는 박막 증착 공정은 대표적인 3가지로 방식으로 분류된다. 첫 번째 공정 법은 PVD(physics vapor deposition) 증착 공정(Fig.1)으로 물리적 기상 증착이

리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.03.14

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