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"Soft-lithography" 검색결과 1-20 / 122건

  • 숭실대 Soft-lithography 예비보고서
    Soft-lithography-예비보고서-숭실대학교 유기신소재파이버공학과과목명신소재공학실험2(나)조반조원지도교수담당조교학번제출일이름1. 실험 제목 : Soft ... -lithography2. 배경 및 이론1. Soft-lithography의 의미 및 원리Soft-lithography는 일반적으로 Photo-lithography에서 사용하는 장치들을 사용하는 것 ... 된다. 하지만 고분자량의 PDMS는 말랑하고 투명한 고무와 같은 특성을 가진다. 따라서 휘어질 수 있지만 약간의 경도를 갖고 있다.PDMS는 Soft-lithography에서 몰드로 사용
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.10.05
  • 숭실대 Soft-lithography 결과보고서
    Soft-lithography-결과보고서-숭실대학교 유기신소재파이버공학과과목명신소재공학실험2(나)조반조원지도교수담당조교학번제출일이름1. 실험 제목 : Soft ... -lithography2. 실험 날짜 : 2021년 11월 25일 (목요일)3. 실험 목적 : Negative PR 과 Etching 공정 이해Silicone elastomer 를 이용한 Soft ... lithography 이해Base 와 Curing agent 의 비율, 열처리에 따른 결과 고찰4. 시약 및 기기-PDMS base, PDMS curing agent, Mixer
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.10.05
  • 표면 평탄도가 소프트리소법에 의한 미세 패턴 형성에 미치는 영향 (Effect of Surface Roughness on the Formation of Micro-Patterns by Soft Lithography)
    한국전기전자재료학회 김경호, 한윤수, 최 균
    논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.17 | 수정일 2025.07.20
  • 논문 Soft lithography for micro- and nanoscale patterning 을 한국어로 번역 및 요약한 내용.
    바이오멤스 및 바이오칩 REPORT4Soft lithography for micro- and nanoscale patterning포토리소그래피 (photolithography ... 거나 비평면의 기판에는 적용 할 수 없다.소프트 리소그래피 (Soft lithography)는 특히 저렴한 비용이 필요할 때, 마이크로 스케일과 나노 스케일에서 평면, 곡선, 유연 ... micromolding (SAMIM), phase-shifting edge lithography, nanotransfer printing, decal transfer
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.08.31
  • 전자소자 응용을 위한 소프트 리소그라피 기반 나노 소재 패터닝 (Nanomaterials Patterning based on Soft Lithography for Electronic Applications)
    한국세라믹학회 김세진, 강주훈
    논문 | 15페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.08 | 수정일 2025.05.08
  • (특집) 포토공정 심화 정리18편. Soft Lithography
    < (특집) 포토공정 심화 정리18편. Soft Lithography >?* Soft Lithography?- Molding, Printing, Material ... Transferring을 이용한 Lithography- Energetic Beam(전자, 이온)이나 조사(DUV, X-ray)가 없는 공정- 비교적 저렴한 공정 가격, More flexible ... - Soft Lithography의 종류는 크게 Micro Contact Printing / MIMIC / Nanoprint 등이 있습니다.??(1) Micro Contact
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16
  • 판매자 표지 자료 표지
    AFM 발표자료
    때 인력 지배적 : non-contact mode Soft 한 tip 사용시 인력에 의해 cantilever – 시료가 접촉해 시료 표면 손상가능 → hard 한 tip 사용 ... 리소그래피 (Lithography) Part 3전세영 - Sample Part 3Part 3 LeftPart 3Part 3 Right이상민 - Sample Part 3Part 3 ... Lithography a table of contents ⓒSaebyeol Yu. Saebyeol’s PowerPointPart 1 AFM 이란 ? ⓒSaebyeol Yu. Saebyeol’s
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 28페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.11.17
  • 판매자 표지 자료 표지
    폴리다이메틸실록세인(PDMS)을 이용한 표면 구조의 복제(PDMS Soft Lithography)
    1. 실험제목 : 폴리다이메틸실록세인(PDMS)을 이용한 표면 구조의 복제(PDMS Soft Lithography)2. 실험날짜 : 2021. 11. 153. 실험목적 : 이 ... .6. 결과 및 고찰 - 오차원인 및 해결방안 - sylgard polymer base와 경화제의 비율을 10:1로 하는 이유
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.11.04
  • 숭실대 Photo-lithography 결과보고서
    Photo-lithography-결과보고서-숭실대학교 유기신소재파이버공학과과목명신소재공학실험2(나)조반조원지도교수담당조교학번제출일이름1. 실험 제목 : Photo ... -lithography2. 실험 날짜 : 2021년 11월 18일 (목요일)3. 실험 목적 : 반도체 공정의 기초가 되는 Photo-lithography의 원리를 이해할 수 있다.Micro ... , Spin coater로 박막 코팅한다.(1000 rpm, 10 sec)③ Soft baking - Hot plate를 이용하여PR 용액의 용매를 날린다.(110 ℃, 1 min
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.10.05
  • 반도체공정 photo lithography 발표자료
    Lithography process and materialsTable of contents#1.what’s photolithography? Lithography? -Litho ... ( 돌 )+graphy( 그림 ) = 석판술 - 회로패턴을 웨이퍼 위에 옮기는 공정#1.what’s photolithography?Wafer(substrate) PR #2 ... . Lithography 공정 step1.PR coatingstep1.PR coating #2. Lithography 공정 Wafer(substrate)( 친수성 ) HMDS 막step1.PR
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 23페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.06.03
  • 1,3-bisdicyanovinylindane을 이용한 산성가스 감지용 화학 센서 제작 (Fabrication of Chemical Sensors for the Detection of Acidic Gas using 1,3-bisdicyanovinylindane)
    한국화학공학회 이창수, 손영아, 송환문, 박영민
    논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.19 | 수정일 2025.05.22
  • (특집) 포토공정 심화 정리8편. 노광설비의 종류와 Mask Aligner의 설비구조
    에 대해서 소개해드리겠습니다.??* Lithography methods(노광방식)?- 노광 시 Mask의 위치와 빛의 이동방향에 따라 3가지로 분류합니다.1) Contact 방식 ... 에 Wafer를 놓고, 공정 진행을 위해 고정하는 단계Wafer 고정 방법에 따라 4가지로 분류합니다. (Vacuum, Hard, Soft, Proximity contact)? ... 면 반대방향으로 노광되는 방식( Lens에서 빛을 모아서 노광 가능)?* 노광 설비 비교?- 노광설비의 발전은 Aligner → Stepper → Scanner 순으로 진행
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16
  • 판매자 표지 자료 표지
    [서강대 첨단화학기기분석실험 레포트] Diffusion Analysis of Microfluidic Channel Manufactured by Soft Lithography
    Diffusion Analysis of Microfluidic Channel Manufactured by Soft Lithography Name Department of ... Chemistry, Sogang University, Seoul, 121-741, Korea ABSTRACT. 본 실험에서는 soft lithography 방법을 이용 ... 적으로 diffusion coefficient를 구해내었다. Photocrosslinking negative photoresist인 SU-8을 이용해 Y-shaped master
    리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2025.09.07
  • 고분자 photolithography 결과보고서
    를 이용해서 현상액을 씻어 준 다음에 표면을 Dry해주면 mask에 의해 새겨진 패턴을 관찰 가능합니다.QUIZ1. Soft-bake와 PEB의 차이점은?Soft-bake과정은 PR ... 에 PAC을 확산시켜주어서 표면을 균일하게 만들어 패턴 형성을 개선시켜줄 수 있습니다. 또한 CAR PR를 사용하는 경우 Soft-bake가 아닌 PEB(post exposure ... -결과 보고서 –Photolithography Process1. 실험제목: Photolithography process2. 실험날짜:3. 실험목적: 반도체 공정의 핵심인
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.04.30
  • (특집) 포토공정 심화 정리15편. EUV Photo공정
    혁신적인 기술도 없습니다.?< EUV Photolithograpy >?* What is EUV??- Extreme UV : 극초단파, 실제 Lithography에 사용되는 파장 ... 은 13.5nm, Soft X-ray???* EUV 노광 시스템??- 광원 제작1) Laser induced plasma(직접 레이저를 쏘는 방식) / 전자 방출 plasma(아크방식 ... 으로 전자방출)의 두 가지 방식(극 초단파 생성)2) 제작 공정비용 상 Laser induced 방식을 주로 사용?- Laser induced plasma 방식1) CO2
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16
  • 숭실대 Metal strain sensor 제작 및 성능 분석 결과레포트
    Metal strain sensor 제작 및 성능 분석-결과보고서-숭실대학교 유기신소재파이버공학과과목명신소재공학실험2(나)조반조원지도교수담당조교학번제출일이름1. 실험 제목 ... 있다.Photo resist에 따른 lift-off 공정 변수에 대해 이해할 수 있다.Point probe를 사용하여 반도체 전기적 특성을 파악할 수 있다.4. 시약 및 기기 ... 적으로 보지 않는다.5. 실험 방법① Surface preparation2.5 × 2.5 cm Glass를 준비한 뒤, Acetone(5 min), IPS(5 min), Di
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.10.05
  • [고분자재료실험]ITO patterning 결과레포트
    이 강한 물질을 사용한다.2) Baking 조건, 노광 시간, etching time 등 최적의 조건을 찾아본다.Soft bake (pre-bake)Soft bake 과정은 도포 ... 으로 식각하는 법을 습득한다.Photo lithography에 사용하는 각 공정의 원리와 공정 시 주의점을 습득한다.2. 실험 배경photoresist(PR)를 roll coater ... pre-bake를 실시한다. Pre-bake된 기판 위의 PR film에 원하는 pattern의 photo-mask를 통하여 UV광을 선택적으로 투과시키어 노광시키고 PR film
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21
  • [성균관대][전자재료실험][A+] 전자재료실험 최종발표 ppt 자료입니다. 많은 도움 되었으면 좋겠습니다.
    소재공학부 , (2013) 그림 6 허혁 , MOS CAPACITOR 의 각 주파수에 대한 C-V 특성분석 , 동아대학교 , 1992 그림 8 lithography( 특집 ... 전자 재료 실험 (2 조 ) -MOS Capacitor 특성 분석 변수 : Oxide 의 두께 , 전극의 종류목차 실험목적 실험이론 실험과정 분석목적 분석방법 결과예상 참고자료 ... 실험 목적 MOS Capacitor 의 공정을 이해한다 변수 (Oxide 의 두께 , 전극의 종류 ) 에 따른 전기적 특성을 I-V, C-V 그래프를 통하여 확인한다 .실험 이론
    Non-Ai HUMAN
    | 시험자료 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.02.06
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    Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes_결과레포트
    Result실험과정위의 사진에서 1000nm, 500nm, 300nm, 10nm의 마스크를 사용하여 lithography를 진행하였다. 먼저 웨이퍼에 Cleaning, pr ... 가 섞여 있는데, 이는 감광제의 점도를 조절하여 스핀 코팅 시에 감광제가 웨이퍼에서 흘러내리지 않도록 한다. Soft baking을 통해 PR 코팅 후 웨이퍼를 구워서 UV ... etching을 진행하였다.Wet etchingDry etcing방법화학적 반응물리적 반응(플라스마)장점-저비용-빠른 속도-단순한 공정-높은 정확도-미세 패턴 형성단점-낮은 정확도-화학
    리포트 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.12.12
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2025년 10월 19일 일요일
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