"임프린트리소그래피"의 검색결과 입니다.

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Nano Imprint Lithography 나노임프린트 dip pen nanolithography Soft lithography E-beam lithography 나노패터닝 기술 MEMS

EasyAI “임프린트리소그래피” 관련 자료

+나노 임프린트 리소 그래피 실험 결과..등록일 2024.08.31 | 총 4,879자 | 5페이지 | 1,000원
+7세대 노광기(Stepper) 설계 ..등록일 2014.06.21 | 총 6,319자 | 7페이지 | 2,000원

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"임프린트리소그래피" 검색결과 1-20 / 32건

UV 임프린트 리소그래피 공정을 통한 친환경적인 다양한 패턴필름의 제조와 특성분석 (Preparation and Characterization of Environment Friendly Various Pattern Film via UV Imprint Lithography Process)

임프린트 리소그래피 공정(ILP) 중, 자외선(UV) 광선을 이용한 ILP 기술은 패턴이 형성된 마스터를 사용하여몰드를 제작하고, 제작된 몰드로 UV 경화성 레진(resin

논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.11 | 수정일 2025.07.19

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극압 임프린트 리소그래피를 통한 자성고무 복합재 표면 미세 패터닝 기술 (Surface Nano-to-Micro Patterning for Rubber Magnet Composite via Extreme Pressure Imprint Lithography)

한국마이크로전자및패키징학회 강은빈, 김유나, 박운익

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.08 | 수정일 2025.05.08

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AAO 나노기공을 나노 임프린트 리소그래피의 형틀로 이용한 PMMA 나노패턴 형성 기술 (Fabrication of Nanometer-sized Pattern on PMMA Plate Using AAO Membrane As a Template for Nano Imprint Lithography)

PMMA light guiding plate with nano-sized pattern was fabricated using anodized aluminum oxide membrane as a template for nano imprint lithography. Nan..

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.15 | 수정일 2025.07.20

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나노 임프린트 리소그래피법에 의한 나노미터급 원기둥패턴을 갖는 도광판의 제작 공정 개발 (Development of Fabrication Process of Light Guiding Plate with Nanometer-Sized-Cylindrical Pattern Using Nano ImprintLithography Method)

제어·로봇·시스템학회 이병욱, 홍진수, 김창교

논문 | 4페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.13 | 수정일 2025.03.28

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UV 나노 임프린트 리소그래피를 이용한 유무기 하이브리드 박막 위 액정 배향용 패턴 구조체 생성 (Fabrication of Pattern Structures on a Organic-inorganic Hybrid thin Film Via UV Nanoimprint Lithography for Liquid Crystal Alignment)

Using UV nanoimprint lithography(UV-NIL), 1-dimensional(1-D) pattern structures were fabricated on a hybrid mixture thin film of lanthanum oxide and a..

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.18 | 수정일 2025.06.26

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나노 임프린트 리소 그래피 실험 결과 보고서

실험 결과 보고서실험 제목 : Nano Imprint lithography실험 날짜 :실험 장소 :실 험 자 :실험조원 :Ⅰ Introduction나노 임프린트 리소그래피 공정 ... 화로 공정 시간 및 비용이 감소한다.● 그림 1 나노 임프린트의 R2R 개략도.또한 프린트 공정은 그림1처럼 Roll-to-Roll 공정이 가능하다. 공정이 연속적으로 이루어지 ... 다. Thermal와 UV의 대표적 차이점은 표와 같다.● 표 1 Thermal와 UV 임프린트 비교ThermalUV공정 방법가장 많이 사용 되는 공정. Tg이상의 높은 열과 압력

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.08.31

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Thermal NIL용 스탬프 공정 수명에 관한 연구 (A Study on Stamp Process Life Time in Thermal NIL)

Nano Imprint Lithography(NIL) is technique for copying a pattern from stamp with nano size pattern in order to replicated the materials. It is very im..

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.15 | 수정일 2025.06.17

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롤투롤 임프린트 공정 중 균일한 레진 코팅을 위한 닥터블레이드형 디스펜서 설계 및 제작 (Design and Fabrication of Doctor Blade Type Dispensers for Uniform Resin Coating during Roll to Roll Imprinting Process)

한국정밀공학회 손희철, 곽문규, 김성우, 이지훈, 박철우

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.23 | 수정일 2025.05.13

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마이크로/나노 패터닝 공정 생산성 향상 기술 동향 (A Review: Productivity Enhancements of Micro/Nano Patterning Methods)

한국정밀공학회 곽문규

논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.08 | 수정일 2025.05.08

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폴리머 층 전사 및 처짐 현상을 이용한 곡선 형태의 PMMA 나노채널 제작 (Curve-typed PMMA Nanochannel Fabrication using Polymer Layer Transfer and Collapse Technique)

We present a simple and low-cost method to fabricate poly(methyl-methacrylate) (PMMA)nanochannels with various shapes by combining the standard optica..

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.10 | 수정일 2025.07.19

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나노임프린트 리소그래피 적용을 위한 CHF₃ 플라즈마를 이용한 실리콘 몰드 표면 처리 특성 (A Study of the Silicon Mold Surface Treatment Using CHF₃Plasma for Nano Imprint Lithography)

본 연구에서는 나노 임프린트 리소그래피 공정중에서 디몰딩 공정에 적용하기 위해 ICP 장비를 이용하여 Si 표면을 CHF₃플라즈마를 이용하여 개질 하였다. Si 표면개질 전과 후

논문 | 4페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.02 | 수정일 2025.07.05

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모스아이 패턴의 충전공정에 대한 점탄성 유한요소해석 (Viscoelastic Finite Element Analysis of Filling Process on the Moth-Eye Pattern)

나노 임프린트 리소그래피는 수십 나노미터에서 수십 마이크론에 이르는 패턴을 간단하고 저비용으로 대면적 기판에 제작할 수 있어 차세대 패터닝 기술로 주목 받고 있다. 특히, 발광

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.27 | 수정일 2025.07.04

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MEMS관련 기술 논문 분석

한 lift off 공정. 한국정밀공학회.UV 나노임프린트는 한번 경화된 UV 경화성 레진 패턴은 화학약품(유기용매)에 제거가 잘 안 되는 단점을 가지고 있다. 따라서 빠른 임프린트 ... 할 기판에 도포한 후 Chem Optics사의 UV 경화성 임프린트 레진(NIPSC28LV400)을 희생층 물질 위에 도포를 한다. 그 후 복제된 PFPE ... 와 증류수의 접촉각을 측정하여 표면구조가 없을 때보다 투과도 및 접촉각이 증가함을 확인하였다.이기중, 신용범, 조나래 (2014). 희생층과 UV 나노임프린트 리소그래피를 이용

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.11.22

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신의손) OCI 합격 자기소개서 및 면접 핵심정리

에 배치를 받았습니다. 그 중 나노 공정 연구실 소속으로 Clean Room에서 나노 임프린트 리소그래피 실험을 담당하게 되었습니다.하지만 실험을 맡았던 공정 외 다른 분야에 대해서 ... 과정을 머릿속으로 숙지하고 실험을 진행한 결과 4주 과정이었던 임프린트 실습을 2주 안에 끝내고, 프로브 설계를 위한 실습도 마칠 수 있었습니다.“능동적인"석유화학업계는 특성상 현 ... 에 한계를 느끼게 되었습니다. 이에 공정 과정을 이해하기 위해 실험 전 박사님께 부탁해 관련 논문을 받아 리소그래피 공정과 실험 장비 사용방법을 익히기 위해 공부했습니다. 이후 공정

자기소개서 | 59페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.08.23 | 수정일 2014.10.17

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나노 패터닝 기술

화했으며 가격도 외산 제품의 절반 이하에 불과한 것이 특 징이다.△ 한편 반도체 공정에서 고분자막으로 코팅한 기판 표면을 스탬프로 찍어 물리적으로 패 턴을 형성하는 나노 임프린트 리소그래피 ... 을 이용해 나노 크기로 제작된 몰드로 가압 경화시켜 패턴을 전사하는 것이다.■ 기술개발동향△ 나노 임프린트 기술을 활용하면 현재 반도체공정에서 사용하는 사진현상 방식의 미세화 한계 ... 점을 극복하고 도장 찍듯 간단하게 나노구조물을 제작할 수 있게 된다. 또한 나노 임프린트 기술을 활용하면 현재 100㎚급인 미세 공정이 10㎚급으로 향상돼 차세대 반도 체 분야

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.07

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Nano imprint lithography의 이해 및 응용(예비)

, 공정순서 등)->나노 임프린트 기술은 일정한 패턴을 형성한 몰드를 판에 찍어내는 형태로 나노 패턴을 제작하는 기술이다. 몰드로 찍어내는 형식이기 때문에 저렴하게 대량으로 패턴 ... 하여 임프린트하는 방식인데 탄성 중합체 스탬프의 변형에 의한 스탬프 수명 단축, 위치 정렬의 어려움, 고압 공정을 사용할 수 없는 문제점 등이 있다. 또한 SFIL 기술은 고분자를 경화 ... 을 제작할 수 있는 장점이 있으나, 미세패턴제작은 보통 전자선 노광에 의한 리소그래피와 건식 에칭 또는 비등방성 습식에칭으로 이뤄지기 때문에 몰드 자체가 고가라는 단점이 있다. 또한

리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.04.23

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14E-beam_lithography_&_Imprint

Electron-beam lithography Imprint목차전자빔 노광기술이란? 전자빔 노광기술 시스템 구성 전자빔 노광 기술의 장단점 임프린트란? 임프린트 공정 나노 임프 ... 린트 (a) Thermal-type(NIL) (b) UV-NIL 임프린트 기술의 장단점 질의 및 응답전자빔 노광기술이란?10~100keV 의 높은 에너지를 갖는 전자 빔을 이용 ... 는 다층회로로 되어 있는데 반해 이 방식으로는 현재까지는 단일층 구현만 가능하다는 단점이 있다.나노 임프린트 법(Nano Imprint or Molding)나노 임프린트 법이란 나노

리포트 | 26페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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7세대 노광기(Stepper) 설계 [정밀기계공학 레포트_논문형식]

임프린트 리소그래피(NIL)NIL 기술은 컴팩 디스크(CD)와 같은 마이크로 스케일의 패턴을 갖는 고분자 소재 제품의 대량 생산에 사용되는 엠보싱/몰딩 기술을 리소그래피에 적용 ... 시킨 자외선 빔을 사용하여 웨이퍼를 인쇄한다.Figure 2. EUVL의 원리 및 시스템 구성EUVL은 기존의 광리소그래피(optical lithography) 개념을 10∼14nm ... 이용하고 있는 노광기술로는 빛의 회절한계 때문에 선폭을 100nm이내로 만드는 것이 상당히 어렵다. 따라서 향상된 나노패터닝 공정을 개발하기 위해 여러 가지 비전통적 나노리소그래피

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.06.21 | 수정일 2017.05.14

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Thermal 나노임프린트에 대해

여 니켈 스탬프를 제작하거나 실리콘 웨이퍼 위에 직접 리소그래피 패터닝을 한 후 식각 공정을 통하여 만든 Si 스탬프 등이 주로 사용된다.3. 나노임프린트 리지스트열 임프린트 공정 ... 하였다.-장·단점Thermal 임프린트의 스탬프는 변형이 없고 열 전도도가 좋은 실리콘(Si)이나 니켈(Ni)과 같은 금속으로 제작된 스탬프를 많이 사용한다. 온도를 제어해야 하기 때문 ... 은 초기에 poly를 이용하여 실험을 수행하였다. 보통 임프린트 온도는 폴리머의 유리전이 온도보다 90도 이상에서 수행한다. 이 온도에서 고분자 물질이 충분한 유동성을 가져서 스탬프

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.09.24

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신의손) 한솔테크닉스 합격 자기소개서

를 표현하여, 한 달이라는 짧은 시간이었지만, 한국기계연구원에서 실습생으로 실험을 수행할 기회를 잡았습니다. 이에 저는 나노 공정 연구실 소속으로 Clean Room에서 나노 임프린트 ... 주 과정이었던 임프린트 실습을 2주 안에 끝낸 후 다른 실험에 참여할 기회도 잡을 수 있었습니다. ... 리소그래피 실험을 수행하며 협업으로 에칭 공정을 함께 진행하게 되었습니다. 처음엔 열정을 가지고 임했지만, 실전과 이론은 달랐습니다. 전공에서는 공정이라는 개념보다는 전자부품

자기소개서 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.08.23

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