"고밀도 유도결합 플라즈마 장치"의 검색결과 입니다.

기간
- 전체
- 3개월
- 6개월
- 1년
- 2년
- 3년
- 5년
직접입력

적용
연관순
- 연관순
- 최신순
영역
- 전체
- 제목
- 본문
- 태그
페이지 수
- 전체페이지
- 1 페이지 ~ 5 페이지
- 6 페이지 ~ 10 페이지
- 직접입력 페이지 ~ 페이지 적용
확장자
- 전체
- 한글
- PDF
- MS워드
- MS엑셀
- MS파워포인트
- 압축파일
- 기타
할인자료 보기

연관검색어

dry etching ICP 원리 koh etching RIE ZnO 증착

판매자 표지는 다운로드시 포함되지 않습니다.

"고밀도 유도결합 플라즈마 장치" 검색결과 1-20 / 23건

고밀도 유도 결합 플라즈마 장치의 SiH4/O2/Ar방전에 대한 공간 평균 시뮬레이터 개발 (Development of High Density Inductively Coupled Plasma Sources for SiH4/O2/Ar Discharge)

한국진공학회 배상현, 권득철, 윤남식

논문 | 9페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.26 | 수정일 2025.05.14

다운로드
판매자 표지

기기분석 - 유도결합플라스마 발광광도법(Inductively Coupled Plasma)

유도결합플라스마 발광광도법- Inductively Coupled Plasma -1. 유도결합 플라즈마의 원리가. 적용 범위ICP-MS는 유도결합 방법으로 생성된 플라즈마를 이온원 ... 시료도입장치와 진공 및 제어장치들이 장착되어 있다.유도결합플라즈마(ICP)의 원리는 주로 석영 등의 유전체 반응기 외부에 코일을 감아 전기장을 변화시키면 코일의 내부에 유도자장이 ... 를 사용하도록 하고 있다.2. 유도결합 플라즈마의 장치가. InterfaceICP는 대기압 하에서 이온들을 생성하는 장치이므로 진공영역에서 작동하는 질량분석장치로 이온들을 효율

리포트 | 14페이지 | 4,400원 | 등록일 2017.03.19 | 수정일 2020.08.03

다운로드 장바구니
[인하대 A+ 실험보고서] 공업화학실험 패터닝 결과보고서

을 볼 수 있다. (출처: 유도 결합 플라즈마를 이용한 자성 박박의 반응성 이온 식각, 인하대학교 신별, 2005년 / 고밀도 플라즈마 사용을 사용한 polisilicon 박막 ... . 이를 통해 공정압력에 의한 양상은 플라즈마의 밀도에 의한 영향보다 평균자유행로에 의한 영향이 더 크므로 공정압력과 식각속도는 반비례 한다고 보는 것이 타당하다. (출처: 유도 결합 ... 에 Lithgraphy에 의한 패터닝 공정을 통해 PR 패턴을 형성한다.2) 패턴이 새겨진 산화막과 새겨지지 않은 산화막을 육안으로 확인한다.3) 본 실험에서는 패턴이 새겨진 산화막을 유도결합

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.03.05

다운로드 장바구니
레이저 공학 레포트 (응용분야, 레이저 거리 센서)

다. 해당 원어는 유도방출에 의한 광증폭이라는 뜻이다. 들뜬 상태에 있는 원자 물질의 유도 복사 성질을 이용하여 광자파를 발생시키는 장치인 것이다. 서브 밀리미터파로부터 진공 ... 레이저란레이저란, LASER(Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation)의 약자로, 전자기파를 증폭하거나 발진하는 장치이 ... 을 만들어 굴절, 전송, 집중 분산해 각 용도에 맞게 적절히 활용되는 빛을 발생시키는 장치다. 활용분야로는 광통신, 광 기록 매체, 의료기기, 군사, 계측, 가공 등으로 전 산업

리포트 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.11.15 | 수정일 2018.11.22

다운로드 장바구니
용접 기초 PPT

에 해로운 일산화탄소가 많이 발생할 수 있으므로 주의가 요구됨2. 아크 용접플라즈마 아크 용접(Plasma Arc Welding)플라즈마 가스를 가는 틈으로부터 고속으로 분출시켜 생기 ... 용접 기초목 차1. 용접의 개요 2. 아크 용접 3. 저항 용접 4. 고밀도 용접 5. 브레이징 6. 가스용접 7. 고상용접1. 용접의 개요접합의 개념과 종류기계적 접합 ... (Mechanical Joining) : 물리적인 매개체에 의한 접합으로 완전한 결합이 아니므로 언제나 분리가 가능하다.용접(야금적 접합법, Weld Joining) : 고체 상태에 있

리포트 | 48페이지 | 3,500원 | 등록일 2016.06.02 | 수정일 2020.07.03

다운로드 장바구니
무기합성 및 분석화학 실험 결과보고서(제올라이트)

발생하게 되고 그에 따른 2차 유도전류가 반응기 내부에 형성되는 것을 이용하여 발생시키는 고밀도 플라즈마이다.- 기존 ICP 방법의 문제점기존의 ICP 장치는 유전체 창(석영 ... -스퍼터링의 경우 약 80%까지 증가시킬 수 있는 것으로 보고된 바 있다.- ICP-Sputtering의 특징ICP는 기존의 증착장치에 유도결합식 플라즈마(이하 ICP로 기술)를 추가 ... 의 데이터가 매끄럽게 연결되지 못했다.(4) ICP- 유도결합플라즈마(ICP)의 원리는 주로 석영 등의 유전체 반응기 외부에 코일을 감아 전기장을 변화시키면 코일의 내부에 유도자장이

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.11 | 수정일 2022.09.29

다운로드 장바구니
DRY ETCHING

한 건식 식각의 용도 식각률 (Etch Rate) 균일성 (Uniformity) 폴리머의 구성 플라즈마 유도손상 (Plasma-Induced Damage) 입자 오염 ... 한다 .플라즈마 유도손상 (Plasma-Induced Damage) 프라즈마는 웨이퍼 표면에서 민감한 소자에 손상을 유도하는 분자들로 구성된다 . 손상의 주요한 형태는 앏은 게이트 ... 론은 물리적 , 화학적으로 결합된 식각 시스템이다 RIE 반응기와 유사하게 공정실 벽으로부터 떨어져서 플라즈마를 고정시킬 b 는 자기장이 있고 고밀도 플라즈마를 생성하기 위하여 웨이퍼

리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.05.21

다운로드 장바구니
09Dry_Etching_&_ECR-RIE

, 혹은 혼합적인 요소에 의해 이루어진다 . 정도의 차이는 있지만 , 플라즈마 중에 형성된 이온과 반응성 래디칼의 복합적인 작용에 의해서 이루어진다 . 물리화학적건식 식각 장치 ... 하기 위해 마이크로파 플라즈마가 개발 ECR(Electron Cyclotron Resonance) 식각 장치의 역사 및 필요성기존 RIE 방식에서는 undercut 이 없는 높은 비 ... ECR(Electron Cyclotron Resonance) 식각 장치의 역사 및 필요성플라즈마에 자장을 걸어준다 B Field 와 E Field 가 생성 E field 를 따라 전자

리포트 | 25페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

다운로드 장바구니
건식식각

oupled plasma-reactive ion etching) 유도 결합형 플라즈마 - 반응성 이온 에칭 유도 결합형으로 생긴 고밀도 플라즈마를 소스원으로 하는 반응이온 식각공정 ... 기술유도결합 작동원리 (ICP 작동원리 ) 코일을 플라즈마가 발생 될 수 있는 가스 주변에 놓아서 이 코일에 고주파 전력을 가하여 발생된 시간에 따라 변화하는 전기장이 챔버 내부 ... . 결합 이온화 원자와 반응 가스를 다양한 반도체 , 금속 , 산화물 , nitrides 및 기타 재료를 에칭하는 능력의 플라즈마를 만드는 고주파 에너지를 (RF) 이용한 드라이 에칭

리포트 | 25페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.13

다운로드 장바구니
드라이에칭

– RIE 란 ? (Inductive coupled plasma-reactive ion etching) 유도 결합형 플라즈마 - 반응성 이온 에칭 유도 결합형으로 생긴 고밀 ... 는 고주파 에너지를 (RF) 이용한 드라이 에칭 기술유도결합 작동원리 (ICP 작동원리 ) 코일을 플라즈마가 발생 될 수 있는 가스 주변에 놓아서 이 코일에 고주파 전력을 가하 ... 도 플라즈마를 소스원으로 하는 반응이온 식각공정 . 결합 이온화 원자와 반응 가스를 다양한 반도체 , 금속 , 산화물 , nitrides 및 기타 재료를 에칭하는 능력의 플라즈마를 만드

리포트 | 25페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.02

다운로드 장바구니
유도결합플라즈마 발광광도법

유도결합플라즈마발광광도법(inductively coupled Plasma Emission Spectroscopy(ICP)){1장유도결합플라즈마발광광도법1.원리 및 적용 범위2 ... 한 경우3장ICP를 이용한 TiN,(Ti, Al)N, (Ti, Cr)N 박막의 제조1유도결합플라즈마를 이용한 TiN 박막의 미세 조직 제어2ICP Sputting으로 제조 ... 한 TiNvl막의 경로와 접착력3ICP Sputtering으로 제조한 TiN 피막의 마모 특성 비교< 참 고 >- 목 차 -1장 유도결합플라즈마 발광광도법1. 원리 및 적용범위시료를 고주파

리포트 | 42페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.11.04

다운로드 장바구니
플라즈마

적 특성, 기하적 특성에 아주 민감하기 때문이다.2)유도결합형 플라즈마(Inductively Coupled Plasma, ICP)ICP는 구조적으로 코일 형태의 안테나가 있으며 여기 ... 며 이때 패러데이 쉴드는 축전전기장은 감소시키며 유도전기장을 플라즈마에 전달하는 역할을 한다.유도전기장은 ICP를 특징짓는 요소로써 고밀도 플라즈마를 유지시키는 역할을 한다. 특히 ... 고밀도 플라즈마에서 축전전기장은 플라즈마 내부로 쉬쓰(sheath) 정도의 길이만큼 침투하는 반면 유도 전기장은 skin depth 만큼 침투하여 전자를 가열하는 주된 요인이 된다

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.01

다운로드 장바구니
Reactive magnetron sputtering을 이용한 ZnO박막증착

35특성에 대한 기판의 온도 영향을 조사하고자 한다. 본 실험의 목적은 유도결합형 플라즈마를 이용한 반응성 스퍼터링을 사용하여 ZnO 박막을 증착하고 특성을 분석하는데 있다. 스퍼터 ... 중에 유도된 전자의 나선운동을 이용한 방전 현상에 의한 고밀도 플라즈마를 활용한다.타겟으로는 대부분의 모든 재료를 사용할 수 있다. 그 종류로는 조성이 균일한 단일 재료를 사용 ... 전기장이 형성된다. 유도결합 플라즈마를 사용할 경우 증착 금속 입자들을 높은 분율로 이온화시킬 수 있는 장점을 가지고 있다. 플라즈마와 유도결합 플라즈마의 발생원리를 Fig. 5

리포트 | 57페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.12.06

다운로드 장바구니
제올라이트, 기기분석

분석중 무기 분석에 해당한다. 유도 쌍결합 플라즈마 질량 분광계가 ICP-MS 이다.I. 기본적인 원리유도결합플라즈마(ICP)의 원리는 주로 석영 등의 유전체 반응기 외부에 코일 ... 을 감아 전기장을 변화시키면 코일의 내부에 유도자장이 발생하게 되고 그에 따른 2차 유도전류가 반응기 내부에 형성되는 것을 이용하여 발생시키는 고밀도 플라즈마이다.⒜유전체 반응기 외부 ... 에 코일을 감는다.⒝코일에 걸리는 전기장 변화( RF)⒞내부에 유도 자장 및 2차 유도전류 발생⒟반응기 내부에 고밀도 플라즈마 발생II. ICP 특징ICP는 플라스마 가스를 사용

리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.12.02

다운로드 장바구니
[핵][세포핵][세포의 핵]핵(세포핵, 세포의 핵) 특징, 핵(세포핵, 세포의 핵) 분열, 핵(세포핵, 세포의 핵) 융합, 핵(세포핵, 세포의 핵) 치환, 핵(세포핵, 세포의 핵)과 핵산, 핵(세포핵, 세포의 핵)과 기저핵 분석

융합 반응 자체가 자연적인 상황에서는 일어나지 않고 극도의 고온, 고밀도 상태인 플라즈마 상태에서만 가능하다는데 문제가 있다.이런 핵분열과 핵융합 과정에서 출입하는 에너지가 바로 ... , 염색체, 그리고 인(phosporo)으로 구성되어 있다. 핵은 DNA에 암호화되어 있는 유전정보의 저장소이다. 염색체는 단백질과 결합하여 염색질이라 불리는 구조를 형성하고 있다. 인 ... 를 이용하기 위한 시설인 원자로 에서는 반응속도를 조절하기 위한 장치를 필요로 하는데 예로 중성자를 흡수하는 카드뮴(제어봉)이 있다. 그리고 반응을 빠르게 하기 위해서 중성자의 감속재

리포트 | 4페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.03.22

다운로드 장바구니
나노기술 숙제입니다.

는 반면에 장치가 비싸고 작은 Scale밖에 에칭할 수 없다. 그러나 Wet Etching은 넓은 면적을 에칭할 수 있고 비용도 작게 든다. 그러나 정확도가 떨어지고 독성물질 ... 들이 두 개의 다른 원자들과 결합되어있지만 (111)면의 원자들은 주위의 3개의 원자들과 결합하고 있어서 에칭되기 힘든 것을 알 수 있다. 그 외에도 B를 첨가하면 p+ Etching ... 로 etching 된다.Disc에 metal을 제거하기 위해서 photoresist가 coating되고 O2 plasma에 의해서 다시 etching된 후, tip 주위에 oxide

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.10.04

다운로드 장바구니
플라즈마, glow방전, 진공증착법

이 늘어나고 있다.플라즈마가 내는 빛을 이용하여 차세대 고선명 텔레비젼에서 요구되는 대화면(50인치)이상의 평판 표시장치의 하나인 플라즈마 표시장치 (PDP : Plasma ... ◎ Plasma (플라즈마)1. Plasma 란?플라즈마란 기체가 고도로 이온화한 상태를 말합니다. 즉 플라즈마란 고온에서 음전하를 가진 전자와 양전하를 가진 이온으로 분리 ... 는 태양풍 속에도 플라즈마가 존재합니다.2. Plasma 상태플라즈마 상태는 밀도와 온도 이 두 가지 요소에 따라 우리주변에서도 쉽게 찾아 볼 수 있는 플라즈마 상태들 즉, 네온사인

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.04.04

다운로드 장바구니
박막재료의 표면 처리 및 PR제거

을 보여준다.5) 이밖에 최근에는 차세대 고선명 텔레비젼에서 요구되는 대화면(50인치) 평판 표시장치의 하나인 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel)에 대한 연구 ... 와 Power를 선택하여 식각 실험을 진행한다.(4) 식각된 산화막의 표면, 표면 색깔과 패턴 관찰 - 광학현미경 사용(5) 마스크 패턴의 제거(O2 plasma aching) - 플라즈마 ... ashing 장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6) 마스크패턴을 제거한 산화막의 표면, 표면 색깔과 패턴 관찰 - 광학현미경

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.20

다운로드 장바구니
[공학기술]나노금속분말의 제조 사례

: 인터넷 전자 신문4. 유도결합 플라즈마를 이용한 나노분말 양산 장치한국기초과학지원연구원(원장 이정순) 나노환경연구부는 2002년부터 3년에 걸쳐 엔피씨(대표 김영남)와 공동 ... 으로 ‘유도결합 플라즈마를 이용한 나노분말 양산 장치’를 개발했다.이번에 개발한 나노분말 양산장치로 만든 금속 및 세라믹 나노분말들은 계면활성제를 사용하지 않고도 물에 분산될 정도로 고 ... §. 나노금속분말의 제조 사례 .§1. 동적성형법(Dynamic Compaction)나노금속분말 및 고밀도 성형기술은 나노크기의 미세구조를 갖는 분말을 제조하여 첨단 산업기술

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.09

다운로드 장바구니
[화학실험]Etching Process(final)

Etching은 직접 수행하지는 못하였지만 대략적인 이론은 다음과 같다.유도 결합형 플라즈마 장치 (ICP)는 유도 코일에 RF전력을 공급하여 자기장이 발생하고, 이에 따라 유도된 전기장 ... 체 반응기 외부에코일을 감는다..{..코일에 걸리는전기장 변화( RF)..{..내부에 유도 자장 및2차 유도전류 발생..{..반응기 내부에고밀도 플라즈마 발생....다시 자세히 ... 은 플라즈마 상태로 존재하게 된다.유도결합이란 이와 같이 유도소자인 코일을 통해 에너지가 코일 내부의 하전입자로 전달되는 것을 의미하며 이러한 과정을 통해 생성된 플라즈마 상태의 기체

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.02.02

다운로드 장바구니

이전10개12 다음10개

파워링크

신청하기