"감광성수지막"의 검색결과 입니다.

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photolithography photoresist 반도체 공정 3d프린터 반도체 포토리소그래피

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"감광성수지막" 검색결과 1-20 / 131건

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경북대학교 일반대학원 고분자공학과 수학계획서

독스 흐름 배터리용 퍼플루오르화 술폰산 멤브레인의 이축 변형에 의한 친수성 채널의 평면 배향 연구, 아미노프로필 관능기를 갖는 실리카 나노 입자가 분산된 나피온 복합막을 이용 ... 리소그래피 성능을 평가하기 위한 상관 매개변수 조사 연구, 열 가교형 감광성 공중합체를 이용한 반응성 표면 화학 패턴의 광매개 형성 연구, DPP-벤조트리아졸 공중합체 반도체 ... 및 점막 백신접종을 위한 흡입성 고분자 나노입자 관련 연구, 전자 상자성 공명 분광법 연구, 마이크로전자 응용 분야를 위한 개선된 유리 전이 온도를 갖는 수지상 폴리페놀 관련

자기소개서 | 2페이지 | 3,800원 | 등록일 2023.05.16

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반도체 제조공정

발라서 Wafer에 감광(感光)성을 가지게 한다.노광 : Stepper(Scaner)를 사용하여 Wafer위에 설계된 회로 패턴을 사진 찍는 공정. Develop : 현상을 하 ... 면 빛에 노출되지 않은 곳의 감광막만이 남는다.Etch : 식각액에 담그거나 Gas Plasma에 노출시키면 감광한 곳만이 Etching되어 산화막에 구멍이 생겨 Wafer의 실리콘 ... 된 회로 패턴을 e-Beam장비로 Quartz위에 작성합니다.Oxidation : Wafer를 고온의 확산로에서 표면의 산화막을 성장(成長) 시킨다.전공정의 시작설비 : 확산

리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.04.18

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삼성전자 및 SK하이닉스 반도체 면접 대비용 용어집 (이거 하나로 남들과 차별화 가능합니다)

화하거나 단차를 줄이는 것.- Coating : 감광막, 절연막 또는 금속막을 Wafer 표면에 균일하게 증착하는(바르는) 과정.- Complementary Circuit : 상보 ... - Abrasive : 성형완료된 PKG나 리드프레임에 잔존하는 수지 피막을 제거하기 위해 사용된 연마제.- Accel Mode : 이온 주입시 가속에너지를 가해준 상태에서 주입 ... 는 시간- ACI(After Cleaning Inspection) : 식각공정 중 건식, 습식 및 감광액 제거 후 현미경 및 측정장치 등을 이용해 식각의 정확성, 이물질의 잔존

자기소개서 | 28페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.02.25 | 수정일 2024.05.13

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청사진의 광화학 (예비보고서)

의 변화 화학물질이다. 고분자수지, 용제, 광활성제로 구성되어 있으며 고분자 수지는 막의 기계적 성질을 결정하고 광활성제는 물질이 빛을 흡수하면서 일어나는 화학적 반응인 광화학 반응 ... 을 이용하는 사진법으로 설계도 같은 것들을 복사하는데 쓰인다. 종이를 ammonium ferric citrate, potassium ferricyanide의 혼합 용액으로 감광 ... 물을 형성하고 전자 전달 과정을 거친 결과 푸른색의 안료를 만들어낸다.▷감광빛을 쪼였을 때 일어나는 현상으로 물리적 혹은 화학적 변화를 동반한다. 감광 현상의 예로, 흑백 필름

리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.01.28

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Photoresist processing

트는 감광성, 접착성, 내부식성을 겸비한 고분자 화합물이며, 포토에칭공정에서 다음과 같이 사용되고 있다. 먼저 가공하고자 하는 시료 표면에 포토레지스트를 도포해서 건조시킨다. 여기 ... 를 통해 Si-OH 형태의 친수성인 웨이퍼표면을 소수성으로 바꾸어주어 웨이퍼와 감광제의 접착력을 향상시킨다. HMDS 처리후에는 Spin coating 방식을 이용하여 감광제를 코팅 ... .· develop노광과 bake를 가진 감광제는 현상과정을 거친다. 일반적인 감광제의 현상액은 대부분 수용성 알칼리 용액을 사용하고 있으며, 주 원료는 KOH와 TMAH(tetra-methyl

리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.01.18 | 수정일 2023.01.12

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나노재료공학 기말레포트

과 LBL의 다층 박막의 형성법으 원리적으로 어떤 차이가 있고, 이들 두 방법에 있어서 박막의 원료(재료)는 어떻게 다른가요? 52-6 LB법에 있어서 분자의밀도가 아주 높은 막 ... 을 만드는 방법을 설명하시오. 52-7 PDMS와 SAM 기술을 이용하면 분자성 나노 박막(배향성이 제어된 막)을 원하는 패턴모양으로 만들 수 있다고 합니다. 어떻게 하면 될까요 ... 의 구조물을 제작하기 힘든 이유를 설명 하시오.먼저 광학 리소그래피란, 마스크의 패턴을 감광저항체에 전사하는 방법이다. 대량 생산이 가능하다는 장점의 비해 여러 단점이 존재

리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.04.10 | 수정일 2023.04.14

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고분자 공학 Photolithography

는데, 그 부분만을 제거함으로써 웨이퍼 위에 원하는 감광액 패턴만을 남길 수 있다. 미세한 회로 패턴을 얻기 위해서는 막이 얇고 균일하며, 자외선 등에 대한 감도가 좋아야 한다 ... 이 매우 크다.f) Develop: 노광과 bake가 끝난 감광제는 일반적인 사진현상과 마찬가지로 현상 과정을 거친다. 일반적인 감광제의 현상액은 대부분 수용성 알칼리 용액을 사용 ... ) Photo-resist: 빛의 조사로 성질이 변화하는 고분자 재료로, 사진식각 기술에 사용된다. 웨이퍼 위에 균일하게 입혀진 감광액은 빛에 노출되면 화학적 성질이 변하게 되

리포트 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.12.09

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반도체 정리

가하로, 웨이퍼 표면을 소수성 웨이퍼로 만들어주는 화학적 반응 물질, HMDS를 기화/분사하여 친수성인 웨이퍼를 소수성으로 만들어 포토레지스트와의 접착성을 향상시킨다감광액(PR ... 하여 후속 공정이 진행될 부분의 감광막을 제거하는 단계이다. 빛 에너지를 흡수한 포토레지스트가 화학 변화를 일으킴으로써 제거가 이루어지고, 현상액과 포토레지스트의 상호 작용에 의해 포토 ... 다, 산화막 특성이 좋다, 녹는점이 높다(1414도), 고순도의 불순물 정제 기술 발달Si의 특성 : 4족원소로 원자 번호 14, 원자 간 결합은 공유결합, 0K이상에서 전자-정공

리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2020.11.06

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미세캡슐화 기술의 연구 동향 및 발전가능성

동향 및 발전 가능성1. 식품 산업에서의 미세캡슐화 기술가. 제작 공정미세캡슐화란 내용물에 미세한 셀을 입히는 과정으로, 미립자의 내용물을 고분자 수지의 얇은 막으로 감싸고 경화 ... 다. 반면에 계면중합법은 제조된 미세캡슐의 입도 분포가 균일하며, 입자의 벽막이 얇고 미세화가 가능하다는 장점이 있다.코아세르베이션 방법은 핵물질이 미세하게 분산된 수용성 중합체 수용 ... 액을 이 중합체가 용해되지 않는 용매와 혼합하거나, 상기 수용성 중합체 수용액을 변화시켜 중합체가 용해되지 않는 조건으로 변화시킨 후 중합체의 표면을 코아세르베이션 시키고, 경화

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.11.19

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의류 신소재 가공 표 정리

지만 투습성 높음? 반막 코팅초극세섬유로 만든 부직포에 폴리우레탄 막 씌우기-광택? 천연 단백질 혼입콜라겐 등 천연단백질을 수지층에 혼입-흡습성, 투습성온감변색 소재블렌드 방사방사원액 속 ... 에 감온변색이나 감광변색 색소 첨가마이크로 캡슐화물에 난용성 색소를 음이온 대전시켜 마이크로 캡슐화 하여 양이온화한 면과 결합축열 보온 소재정지 공기층 부여-열전도율을 낮게함 ... 게 하여 공기가 채워지도록 함-가볍고 보온성복사열 반사, 세라믹 이용, 흡광축열성 금속화학물 이용흡한 속건성 소재- 땀을 빨리 빨아들여 외부로 신속히 방출하고 증발열로 인한 청량감

시험자료 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.09.28

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Patterning and treatment of SiO2 thin films 예비보고서 A+

에서 웨이퍼 표면과 화학적반응을 시켜 SiO2형태를 지닌 실리콘산화막을 생성하는 공정입니다. 이 산화공정에는 건식산화와 습식 두가지로 이루어져 있습니다.1.감광액 도포: 액체상태일 때 ... 공정을 이해하고, 막의 표면을 검사하고, 식각전과 후의 두께에서의 변화를 잰다.실험 이론1) 플라즈마 (Plasma) 란?플라즈마란 물질의 4가지 상태중 하나이다. 플라즈마는 기체 ... 빛에 민감한 감광액을 웨이퍼에 도포시켜 인화지로 만들어주는 작업입니다.2. 노광공정: 코팅된 웨이퍼에 노광장비를 이용하여 빛을 Mask에 그려진 회로패턴에 통과시켜서 웨이퍼

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.01.02

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생명과학 보고서-유전병과 치료

다. 종을 불문하고 가장 흔하게 나타나는 유전적 결함으로는 시력장애가 있다. 홍채에 색소가 없기 때문에 선천적으로 시력이 약하고 감광성(photosensitivity)이 높아 강한 ... 을 가지고 있어서 스스로 고유한 단백질을 만들 수 있다. 미토콘드리아는 두 개의 특수화된 인지질의 막으로 둘러싸여 있는데, 안쪽의 내막으로 이루어진 공간을 기질이라고 하고, 두 막사이 ... )을 통어려운 세포막구조를 갖고 있다. 그래서 알려진 약물의 98~100퍼센트(%)가 차단되었다. 이번 물질은 바로 이 장벽을 통과함으로써 헌팅턴 병을 치료하는데 도움이 되는 길을 연

리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.06.19

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방사선학 정리

Part1. 방사선 물리학CH1. 방사선의 발생*원자의 구조원자번호양성자의 수 = 중성자의 수질량수양성자의 수 + 중성자의 수동위원소양성자의 수는 동일 하나, 중성자의수가 다른 ... 선 감마선 X선 자외선가시광선 적외선 원적외선마이크로파 열선 전파-전기방사선의 파동성① 진공 중에서 전자기파 전파속도는 빛의 속도와 같음② 전자기파 방사선의 에너지는주파수에 비례 ... 자가 세포 내에서 흡수되어 물을 분해하고,독소를 생성하여 세포 손상을 일으킴-X선 피폭으로 인한 생물학적 영향의 약 차지*세포의 방사선 감수성-세포분열 활발 → 감수성 ↑-세포분열

시험자료 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.03.02

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생활과 화학 A+ 족보 중간,기말, 퀴즈 통합본 (2023년 포함)

이다. - 다음 자동차 경량화 소재에 대한 설명 중 옳지 않은 것은? ㄴ> 중량 감소율은 그라파이트 강화 플라스틱보다 유리 강화 플라스틱이 낫다. - 다음에 짝지은 감광성 물질 ... 하는 ㄴ> 산성비는 토양 속의 칼슘 같은 필수 원소들을 침전시키므로 식물에 의한 이들 원소의 흡수를 도와준다. - 이온교환수지에 대한 설명 중 옳지 않은 것은? ㄴ> 양이온 교환수지 ... 란 수지고분자는 양이온 상태이고 상대 음이온들이 바뀌는 것이다. - 신록의 계절이다. 산바람에 섞여 흩어지는 자연향에 대한 설명 중 옳지 않은 것은? ㄴ> 피톤치드는 나무가 만들

시험자료 | 17페이지 | 4,500원 | 등록일 2025.01.04

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전자정보소재공학 Resolution 향상을 위한 반도체 공정기술

과 PHS 수지는 ArF(193nm)의 포토레지스트로서 사용할 수 없다. 상기 레지스트 고분자의 C/H 비율이 높을수록 193nm의 광 흡수율이 낮고 플라스마 에칭 저항성과 열안 ... .법보다 분석에 어려움은 없으나, 포토레지스트 코팅 후 코팅공정이 다시 필요하며 노광 후 막을 현상액으로 제거하기 어려운 단점이 있다. 두 번째로 포토레지스트 윗막(top coat ... )을 개발하기 위해서는 소수성이면서 노광되는 광원에 투명도를 확보하기 위하여 높은 함량의 불소 치환된 고분자를 사용한다Top coat는 노광 시 매질로 부터 적절히 포토레지스트

리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.05.16

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무기공업화학 기말고사 정리

. 노광공정 : 반도체 표면위에 사진 인쇄 기술을 이용해서 반도체 위에 회로 패턴을 만들어 넣는 기술로 빛에 반응하는 감광성 고분자 물질을 얇게 바른 후 패턴의 마스크를 올려놓고 빛 ... 수지- 열경화성 고분자2) 구성성분Homopolymer : 단일 모노머로 구성된 고분자 화합물Copolymer : 두 개 이상의 모노머로 구성된 고분자 화합물Polymer ... 원리를 각 전극 (음극 및 양극)에서 반응과 구성요소(양극, 음극, 분리막, 전 해질)를 중심으로 설명하라.리튬 2차 전지는 고체인 분리막, 양극활물질, 음극활물질, 전해질로 구성

리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.02.23

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실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr증착, photolithography 공정 최종보고서

는 감광성 고분자 물질을 웨이퍼 위에 올린다. 이때 spin coater라고 하는 장치를 이용하여 웨이퍼를 회전시켜 균일한 두께의 PR을 도포한다. 이후 마스크라고 하는 빛을 막 ... 은 표면 처리 물질을 이용하는 것이 실용적인 접근 방식이다. 유의할 점은 HMDS에 의한 표면 처리로 실라놀그룹을 제거하고 감광막과 기판 또는 박막간의 접착도를 향상시킬 수 있 ... 로 진행된다. 그 결과, 감광막이 기판 또는 박막 위에 형성되게 되는 것이다. 이때 중요한 공정변수로는 점성계수, 고분자 함량, 최종 스핀속도와 스핀가속도 등이 있다.(6) 소프트 베이

리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.01 | 수정일 2020.08.17

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나노임프린트 ( 포토리소그래피와 대비하여 장점 및 구조,원리)

○ resist 제거 후 완성Dry ething실리콘 웨이퍼산화막산화막실리콘 웨이퍼감광제감광제플라즈마1) 플라즈마 생성 (전자와 이온으로 분리된 기체) 2) 플라즈마+산화막 휘발성 ... ↑, 표면에서 떨어짐 3) 감광제 이외의 막질 제거 ( 빛을 흡수, 화학적 or 물리적 변화가 일어나게 하는 물질 ex) 브롬화은, 염화은 등 )막질 제거Nano Imprint ... 으로 쓰임○ 웨이퍼 위 감광제 도포후, 노광에 의해 마스크를 이용하여 원하는 패턴을 만드는 기술 ○ 현제 반도체 공정에서 주로 쓰이는 Lithography 기술(d)(e)(f

리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2017.07.06 | 수정일 2018.11.22

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기능성 고분자

기능성 고분자1) 감광성 수지분자내에 광반응성 물질의 특징과 고분자 특징을 함께한 감광성수지(Photo polymer)는 기능성 고분자 중에서도 많은 용도에 사용되고 있다.감광선 ... 수지에는 감광성 고분자외에 반응성 폴리머, 반응성 올리고머(Oligomer), 광개시제, 증감제 등을 비감광성 바인더(Binder)수지에 가시광 또는 자외광을 조사하면 휘어짐 ... , 용해성, 점도, 투명도, 굴곡율, 전도도, 이온투과성 등의 물성이 변화한다. 광조사 전후의 물성변화로서 특히 용융도의 차를 이용하여 각종 감광성 수지 재료의 분자 설계가 되고 있

리포트 | 7페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.09.14 | 수정일 2020.09.15

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3D 프린터의 원리, 사례 및 3D 프린터의 향후 전망

LENS방식의 3D프린터 및 조형모습(4) 폴리젯(PolyJet) 방식폴리젯(PolyJet)은 3D프린터 중 가장 나중에 나온 기술로서 액체 감광성 수지를 매우 얇게 층으로 분사 ... 하면서 강한 자외선램프로 감광성 수지를 응고 시키는 원리이다. 폴리젯(PolyJet)방식의 가장 큰 장점은 매우 정밀한 정밀도이다. 16미크론 정도의 매우 얇은 액체 수지를 분사 ... 하여 출력물 자체를 고해상도로 조형할 수 있다. 단점은 역시 내구성이 약한 감광성 수지를 이용한다는 것인데 감광성 수지는 상대적으로 내구성이 약해 깨지기 쉬운 재질이다. 그러나 폴리젯

리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2017.11.22

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