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반도체 공정실험 포토리소그래피 리소그라피 공정 나노임프린트 photoresist 3d프린터원리
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"리소그라피" 검색결과 121-131 / 131건

  • 자료 표지
    [기초과학, 나노] 나노(NANO)
    /m2역학적 강도의 증가전자의 파동현상원자의 신기루현상..PAGE:61.Top-Down 방식-깎아서 작게 만드는 방법 예)리소그라피(반도체 제조공정)-대단히 정확하나 가격이 너무
    리포트 | 27페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.06.24
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  • 자료 표지
    [나노이론] 나노기술의 장래와 희망
    )개발 △나노 내열금속 (W·Mo·Ta) 분말 제조 △바이오 칩을 이용한 유용한 유전자 대량 개발 △나노 급 반도체용 극 자외선 노광 (EUVL) 리소그라피 기술개발 △정보기술
    리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.20
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  • 자료 표지
    [공과] 융합 기술 (Fusion Technology)에 대해서...
    개발사업(국책) ? 스핀정보물질이용 전자소자, 나노튜브전자광소자기술개발?EUV, X선 리소그라피기술개발극미세구조기술 개발사업(국책) ? 반도체 양자점응용 수광/발광소자, 5nm 원자
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.14
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  • 자료 표지
    [화학공학] 포토레지스트
    . Resolution Enhancement Techniques)장파장의 제한적인 해상도 한계를 연장하고자 광학적 기술을 응용하여리소그라피 광원의 파장이 소자의 최소 선폭보다 길
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.11.22
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  • 자료 표지
    nano 나노 기술
    에서 세(STM)을 이용한 나노리소그라피 이외에 합성물 또는 생체 분자들의 자체 조립 특성을 이용하는 방법인데 지질과 같은 양친성(amphiphilic, 친수성과 소수성을 모두 가지
    리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.01
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  • 자료 표지
    한국의 나노기술 연구개발 현황
    나노급 정밀도를 만족하는 제어 시스템 개발6.나노급 나도체용 EUVL리소그라피 핵심기술개발2002~2011(10년)164나노급 선폭가공에 필요한 반사형 마스크, EUV용 레지스트
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.10.04
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  • 자료 표지
    [신소재공학] 자기메모리 기술에 관하여
    다.(4)분자소자현재의 고체전자소자(Si 등)의 미세가공기술로 사용하고 있는 광리소그라피(Optical Lithography) 기술은 빛의 파장 한계 때문에 나노영역에는 제한
    리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.03.23
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  • 자료 표지
    [발표] 나노기술
    보학, 단전자 트랜지스터(SET), 나노 리소그라피, CNT-FED, 양자정보기술 등이며, 일본이 추진하고 있는 나노기술 중 강점 분야로는, 나노분석 및 조작을 위한 주사탐침
    리포트 | 33페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.06.04
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  • 자료 표지
    [초전센서] 초전센서의 개발
    의 포토리소그라피(PR)에 의해 절연기판 위에 형성하고, In 패드에 의해 초전체 판 위의 전극과 접속하지만, 고집적화에 한계가 있다. 또한, 그림 7에 나타내었듯이 MgO 결정 위
    리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.12.22
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  • 자료 표지
    나노공학의 현재와 미래
    ), 식각물리적 방법물리증착, 열분해, 증발-응축, 아크, 식각기계적 방법기계적 합금화, 강전단변형, 분쇄(극저온 분쇄)광학적 방법리소그라피, 광합성생체적 방법자기 복제, 생체 모사
    리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.08.21
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  • 자료 표지
    [전기, 전자, 물리, 재료] 초전도 응용
    . 그러나 접합의 재현성은 복결정접합에 뒤지고 있다. 이렇게 만들어진 박막을 포토리소그라피와 반응성 이온에칭법을 이용하여 원하는 모양의 SQUID로 제작한다.저온초전도SQUID
    리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.12.05
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