"플라즈마 열처리"의 검색결과 입니다.

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플라즈마와건강 소독과 멸균 반도체 공정 기상반응법 중앙공급실 icp-oes 수술실 물품 반도체 증착 금형쇼트

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"플라즈마 열처리" 검색결과 881-900 / 1,667건

플라즈마반응기를 이용한 TiO2박막증착법

………………………………………………35.광촉매 박막 제조 기술 소개 ……………………………………………46.플라즈마 화학증착(Plasma CVD) ………………………………………7Ⅱ.결과 값 비교 ... 하였다.한편, 치과용 임플란트에 응용을 위해 여러 가지 티타늄의 표면처리 기술이 개발되었다. 생체재료의 표면처리는 인체에서 창상치유와 새로운 골 및 주위조직의 생성과 유도에 영향 ... 을 줄 수 있기 때문에 다양한 표면처리 방법이 진행되어 현재 티타늄의 표면 처리는 HA coating, TPS, SLA 등 같은 방법들이 있다.1)3>액상법유기티타늄화합물의 용액 등

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 27페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.03.27

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박막재료와 그 증착공정의 종류

가 많이 사용되는데 이런 경우를열(thermal) CVD라고 한다. 또한 열에너지 이외에 플라즈마나 빛 에너지도 사용되며, 이런 경우는 플라즈마(plasma) CVD 또는 광(photo ... 면 세정공정, 열처리 공정, 불순물 도입공정 다음으로 이루어지는 프로세스 이다. 그럼 이 과정은 왜 필요 한 것일까? 그 이유는 웨이퍼 표면에 박막을 증착시킴으로써 절연막이나 전도성막 ... 을 형성시키는 데에 있다.2. 전자박막재료 증착 공정의 분류전자박막재료의 증착과정에는 크게 증기 증착 과정인 PVD 와 CVD, 열적 처리를 이용한 Thermal oxidation

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.09.22

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용융 접합의 종류 특징 장단점 (용접)

용접법(Plasma Welding)금속노즐과 구멍을 통과하는 가스기류에 의한 열의 핀치효과에 의해 긴축된 초고온 플라즈마를 이용하는 용접법 키홀(Keyhole)용접이 가능초박판 ... , 가압하면서 접합하는 방법관을 연속적으로 접합하는 경우에 이용매우 좁은 열 영향부를 마든다 용접부의 성능 개선을 위한 열처리가 거의필요 없다 에너지 효율이좋아서 낮은 전력 소모로빠른 ... 금속용접에 사용될 수 있으며, 특히 모재의 박판 용접에 적합차폐가 우수하다. 용제, 슬랙 및 스래터의제거가 쉽다. 용접열의 집중이 양호하다 다양한 금속의 용접에 이용된다.사용

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.10.07

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[신소재공학]플라즈마(palsma)

플라즈마의 비교저온(비평형) 플라즈마(Cold or Non-epuilibrium Plasma)열(평형) 플라즈마(Thermal or Epuilibrium Plasma)주 발생원 ... 된다.이러한 고주파 열플라즈마는 유도결합 플라즈마(inductively coupled plasma)라고 하며, 고주파유도 플라즈마를 발생시키는 석영관 토치의 원형은 1960년대 ... 와 열 플라즈마로 나눌 수 있는데 저온 플라즈마의 경우 반도체 제조 공정에서 가장 널리 사용되고 있으며, 열 플라즈마는 절단, 용사(溶射)에 응용하고 있다.표. 저온 플라즈마와 열

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| 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.25

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스트레스와정신건강

으므로 소화가 느려진다.· 근육에 산소를 더 공급하기 위해 호흡이 빨라지고 얕아진다.· 심박동수가 증가하고 혈압이 높아진다.· 신진대사가 증가하여 더 많은 열이 나므로 몸을 식히기 위해 ... 를 정복하기 위한 노력을 말한다. 대처에는 부정적인 스트레스를 불러일으키는 문제를 처리하거나 바꾸려는 ‘문제중심적 대처’와 문제에 대한 감정적 반응을 조절하려는 ‘감정중심적 대처’가 있 ... 은 바이오피드백 기기, 폴리그래프 또는 전산화된 녹음기기 등을 이용하여 호흡과 심박동률, 혈압, 근육 활동 그리고 피부전도로 측정할 수 있다. 코티솔, 소변, 플라즈마 카테콜라민 또는

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| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.05.25

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수소 연료 제조 기술

방법 -플라즈마(Plasma) 분해 고출력의 전기에너지 필요 전기에너지의 제조 방법 및 가격이 변수 -고온열분해 약1300 oC 이상의 고온 열원 필요 반응기 형태 및 재질 등 ... 의 문제 -촉매분해 반응 온도가 낮은 장점(700 –900 oC) 원자력 에너지와 연계 가능 촉매 및 시스템 개발이 문제플라즈마플라즈마(Plasma)란? 고체 액체 기체에 이은 제 4 ... 상태플라즈마 개질반응 경로 고온의 열화학 반응에 의한 탈수소화 반응 플라즈마로 발생된 전자와 메탄 분자 간의 직접 충돌 동시 생성 특징 빠른 가동시간/응답성 단순/소형화된 반응기

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| 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.02

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건식도금

CVDSiH4, O2SiH4, N2OSiH4, CO2SiH2Cl2, N2OSi(OC2H5)4Plasma CVDSiH4, N2O광 CVDSiH4, N2OSiH4, O2PSG(BPSG*)열 ... CVDSiH4, O2,PH3(상압 B2H6*감압 BCl3)Plasma CVDSiH4, N2O,PH3(B2H6*)광 CVDSiH4, N2O, PH3Si3N4열 CVDSiH4, NH3 ... SiH2Cl2, NH3Plasma CVDSiH4, NH3 (or N2)광 CVDSiH4, NH3반도체막단결정 Si열 CVDSiH4, H2SiH2Cl2, H2SiHCl3, H2

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| 리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.13

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대체에너지의 종류와 이용가능성

로 사용할 수 있으며 방사성 물질이 발생하지 않는 등 장점이 많으나 고온, 고밀도의 플라즈마 처리기술이 개발 단계에 있어 실용화되기 까지는 아직도 상당한 시일이 필요하다.?핵융합 연구 ... . 대체에너지의 필요성4. 대체에너지의 종류[1] 태양광[2] 태양열[3] 풍력[4] 연료전지[5] 바이오매스[6] 지열에너지[7] 해양에너지[8] 핵융합 에너지5. 핵융합 에너지 ... 움. 태양열의 약 47%가 지표면을 통해 지하에 저장되며, 이렇게 태양열을 흡수한 땅속의 온도는 지형에 따라 다르지만 지표면 가까운 땅속의 온도는 개략 10℃∼20℃정도로 연중 큰

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| 리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.10.27

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CVD법에 의한 CNT의 증착 및 특성

. Si wafer의 전처리384-2. 나노 미립자 철촉매 형성384-3. CVD법에 의한 CNT 박막 형성404-3-1. RF plasma CVD법404-3-1-1. 기판 온도 ... 배향 합성이 어려운 단점이 있다. 최근에 부각되어진 합성기술로 화학기상증착법(CVD ; chemical vapor deposition)이 있다. CVD법은 열CVD법, D 플라즈마 ... 한 후 수십 나노 크기의 미립자를 생성하기 위해서 열처리 과정에서 철과 실리콘 사이의 상호관계 때문에 Si 웨이퍼 표면에서는 철 나노 미립자가 잘 생성되지 않는 것으로 알려져 있다. 이

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| 리포트 | 73페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.05.10

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혈액의 구조와 기능& 수혈제재와 부작용

응고작용을 한다.⑤ 체내에 열이 있을 때 피부표면의 작은 혈관으로 열을 옮겨 체온을 조절한다.⑥ 체액의 전해질 균형을 유지한다.1-2. 혈액의 구조① 적혈구(RBC)- 혈구 ... liquid plasma)- 채혈 후 24시간 이내에 제조한 혈장으로 출혈 경향의 예방과 치료에 주로 사용한다.- 신선액상 혈장 속에는 항 혈우병 인자인 응고인자 5,8,9,10 ... 등이 포함되어 있으면 그외 혈소판, 프로트롬빈, 섬유소원도 다량 함유하고 있다.ⅱ 신선냉동 혈장(fresh frozen plasma)- 채혈 후 4시간 이내에 혈장 부분을 분리

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| 리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.05.13

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무전해도금발표_B1

. 탄소나노튜브의 합성 (2) 화학 기상 증착법 (Chemical Vapor Deposition) 화학 물질을 plasma 및 열을 이용하여 박막을 형성 CVD 는 다른 방법 ... ) 탄소나노튜브의 합성법 비교2-4-2. 탄소나노튜브의 성장 ② 입자 내의 탄소의 농도가 과포화 상태에 이르면 바깥 면에 탄소가 침전되면서 탄소나노튜브가 형성 ① 높은 열에 의해 ... 후 CNT 의 모습2-5. 분산 (1) 기계적 분산 ( 물리적 분산 ) 방법 : 초음파 처리 , 볼밀링 , 연마와 마찰 단점 : CNT 를 파괴하여 많은 손상을 입힌다 . (2

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| 리포트 | 42페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.02.28

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ICP예비레포트

온도 > 들뜨기 온도 > 기체온도 순으로 온도가 높으며 전자온도가 기체온도의 2배 이상까지 높음.?들뜨기온도-플라즈마 내의 모든 화학종들이 열적 평형을 이룬다고 가정 하에 방출선 ... ~100< Table.1 실험시료 >● 기구 및 기기- 유도결합플라즈마 발광광도분석장치- 아르곤 가스 : 액화 또는 압축아르곤으로서 99.99 V/V% 이상● 시료를 전처리 ... 방전에 의해 아르곤 이 온과 전자를 생성된다. 이때 생성된 전자를 seed전자라 하며 일단 생성된 전자는 유도된 전하장하에서 계속적인 에너지를 받으면서 플라즈마 전체에 확산

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.06.23

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[공학기술]플라즈마 산업

Discharges)5) 마이크로파 플라즈마(Microwave plasmas)(3) 종 류1) 열 플라즈마(thermal plasma)2) 저온 플라즈마3. 플라즈마 산업'21세기 산업기술 ... □ 목 차1. 목 적2. 플라즈마 (Plasma)(1) 정 의 (Difinition)(2) 특 성(3) 종 류3. 플라즈마 산업4. 참고문헌1. 목 적플라즈마를 이해하고 조사 ... 를 통해 플라즈마의 종류 및 특성, 플라즈마의 관련 산업을 알고자 하는데 있다.2. 플라즈마 (Plasma)(1) 정 의 (Difinition)플라즈마는 고온 상태에서 이온화 된 입자

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| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.14

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박막의 표면처리 및 식각 실험 예비보고사

하는 플라즈마(Cold Plasma)라 한다. 따라서 높은 압력에서라도 열적 평형이 형성되기 전의 짧은 펄스 플라즈마가 반복해서 생성되는 방전모드의 경우에도 저온 플라즈마의 형성 ... 이 가능하다. 저온 플라즈마는 공업적으로 가장 널리 이용되고 있다.②플라즈마의 이용분야플라즈마에너지물질,재료환경, 우주열전자발전아크용접플라즈마제련MHD발전방전가공도시쓰레기 처리핵융합발전 ... 모양 관찰 - 광학 현미경 사용/5./실험이론/(1)플라즈마(Plasma)의 정의와 이용 분야①플라즈마의 정의랭뮤어에 의해 처음 불리워진 ‘플라즈마’는 혈장(Blood Plasma

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| 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.04

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SiO2 박막의 식각 및 PR 제거_예비

모양 관찰 - 광학 현미경 사용5. 실험이론(1) 플라즈마(Plasma)의 정의와 이용 분야① 플라즈마의 정의- 물질의 4번째 상태플라즈마 속에는 전기적으로 중성인 원자 ... film 형성에 적용함).? Plasma 중합 : 플라즈마에 모노머를 주입시켜polimerization을 통하여 기판에 고분자막을 생성시킴.? 표면개질 : Plasma에 의해 활성화 ... 들을 기판에 증착 또는 코팅시킴.? 플라즈마 용접, 절단 : Plasma의 고온을 이용한 재료의 가공.? Plasma 용사 : 고융점 분말을 Plasma로 녹여 고체 표면위에 c

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| 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.11.07

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플라즈마

한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 공정에서 플라즈마 식각(Plasma Etch) 및 증착(PECVD: Plasma Enhanced Chemical Vapor ... Deposition), 금속이나 고분자의 표면처리, 신물질의 합성 등에서 이용되고 있으며, 공정의 미세화, 저온화의 필요성 때문에 플라즈마 공정이 종래의 공정을 대체하고 있으며, 경우 ... 며, 플라즈마파는 제어핵융합로에서의 플라즈마가열에 응용되어지는 중요한 물리적 특성이다.또한 플라즈마의 전도성에 의한 저항열, 플라즈마에 전류를 흘려줌으로써 생성되는 열을 이용

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| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.04

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수술실 실습- aseptic technic, 소독과 멸균

① 정의: gas나 plasma 멸균제를 이용할 수 없을 때, E.O가 실용적이지 않을 때, 열에 민감한 item 등을 살균하는 대체수단이다.② 장점? 틈으로 침투하여 쉽게 씻게 한다 ... 를 테이블 포로 사용할 경우, 테이블 전체를 충분히 덮을 수 있어야 하며, 소독 방포의 안쪽면만 멸균된 것으로 간주한다.⑥ 수액 병을 연 후에는 내용물을 완전히 사용하거나 버려야 하 ... 시간 8시간 이상P.V.C 제품(카테터, ambu bag, mask류)power instrument열에 약하고 날카로운 기구Formaldehyde 멸균온도 65℃멸균시간 30분공기

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.23 | 수정일 2020.12.15

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CVD 와 PVD 코팅

)[ 2 ]CVD(Chemical Vapor Deposition)PVD(Physical Vapor Deposition)CVD상압CVD감압CVDHT CVDMT CVD☞ Plasma ... Coating 층의 단면사진적용분야:강/주철 가공용[ 5 ]모재의 경우 적용영역에 적합한 내마모성 및 인성을 보유한 전용 모재 채택화학적,열적으로 안정한 Al2O3 박막내마모성 및 내치핑 ... 성 증대를 위한 MT-TiCN 박막내마모성을 증대 시키기 위한 고경도의 TiC 박막최외각층-TiNCoating 층의 단면사진NC300[ 6 ]종류융점 ( C )경도(Hv)열팽창계수

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| 리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.05

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플라즈마

를 제거하는 건식 처리기술은 환경 분야에서도 플라즈마가 중요히 쓰여 짐을 보여준다.6) Plasma display panel(PDP)최근에는 차세대 고선명 텔레비전에서 요구되는 대화면 ... 1. 플라즈마란?플라즈마는 이온화된 상태의 기체이다. 기체에 열을 충분히 가하면 원자들 간의 충돌로 인해 많은 수의 전자들이 원자핵의 구속에서 벗어나게 되는데 이것이 플라즈마이 ... 되고 있다.그림 1. 물질의 4번째 상태인 플라즈마그림 2에 보인 바와 같이, 에너지가 낮은 전자에 전기장을 통해 에너지를 전달해 주는 과정을 전자가열 과정이라고 하고 이온화 에너지

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| 리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.06.09

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PVD와 CVD법

하는 이온화된 가스plasma discharge : 열을 가하지 않고 반응이 촉진가능, 활성화E를 저하시키는 효과 저온 공정에 유리plasma 과정 : ionization ... . Physical Vapor Deposition진공상태에서 plasma를 이용해 고체상태를 기체상태로 바꿔 기판에 증착하는 방식plasma ; 양/음전하가 동일하게 존재 ... , excitation-relaxation, dissociation1. Evaporation- 열 source : 고융점 filament, baskets, 전자beam, 융점이 낮은 재료 증착

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| 리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.05.28

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