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"박막공정및실험" 검색결과 781-800 / 1,226건

  • TCO 투명전극
    2.실험 목적 ITO박막의 Sputtering시 Glass의 온도변화에 따른 박막두께와 전기전도도 및 광투과율을 실험을 통해 측정하고 비교 분석하여 ITO박막 ... 및 분위기 , 증착속도 특징 - 공정상 노하우가 많다. - 박막 균일성이 양호하여 표면의 요철도 매우적다. - Erosion에 의한 target ... 의 경우와 마찬가지로 자유전자가 전도성 및 광 특성을 지배한다.◎ Sputtering ITO 박막의 제조  증착변수- 기판재료 및 온도, 진공도, 가스종류 및 분압, 열처리온도
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.09
  • FTS를 이용한 ITO증착 실험 보고서
    . 결 과 및 고 찰1) Frequency에 따른 ITO박막의 두께, 증착시간, 증착율, 면저항frequency(㎑)두께(Å)증착시간(min)면저항(Ω/sq)015601013 ... 할 수 있다.③ 분석을 통하여 ITO와 FTS 장비에 대해 이해 할 수 있다.2. 실 험 과 정1) ITO의 증착 조건2) 실험 변수이번 실습에 사용된 여러 가지 조건 중 가장 ... 중점을 둔 변수는 Frequency이다. 각 조마다 0-50KHz까지의 범위를 가지고 하나씩 실험하였다. 이 frequency에 따라서 증착률에 큰 차이를 보일 것으로 예상한다.3
    리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.03
  • MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)
    라고 한다. 주어지는 전압값에서 더 많은 전압을 버텨 나중에 파괴되는 SiO2가 더 우수한 박막이라고 말할 수 있다.(2) Accumulation 영역의 capacitance 값으로부터 두 산화막의 유전상수 계산 및 비교 및 산화막에 따른 유전율 고찰 ... 1. 실험목적산화막 종류에 따른 MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)소자를 직접 제작하고, 작동원리를 이해한다.2. 실험방법(1) Cleaning① ... .3nm의 속도로 증착이 된다.(3) Photo-lithography(사진식각공정)① 웨이퍼 위에 PR약을 뿌려 5초 동안은 500rpm, 그 뒤 35초간 3500rpm의 속도
    리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.26
  • 포토 예비
    particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한 공정이며, 향후 TFT ... 에 대한 이해.Cyanotype에 의한 blue print의 실험적 획득.3. 원리1. photolithography극히 미세하고 복잡한 전자회로를 패턴의 마스크를 이용하여 반도체 기판 ... 에 새겨진 IC의 패턴이 포토레지스트에 전사된다. 1m보다 미세한 패턴을 형성하려면 자외선으로는 한계가 있어 X선이나 전자빔의 응용도 연구되고 있다. 모든 공정 step이 각종
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19
  • 태양전지
    대량생산 가능 소재 및 제조기술 개발,- 실리콘 박막 태양전지는 비정질과 결정질 하이브리드 형태로 고안정성, 고수율, 고효율 기술개발 추진- CIS계 화합물 박막 태양전지는 공정 ... 도록 소재 및 공정을 디자인해야 합니다.태양전지는 주로 실리콘 소재로 제작되며 현재 상용화된 제품의 효율은 15% 정도이며, 즉, 태양빛의 일사강도가 1 kW/m2이라면 태양전지 ... 두께로 향후는 두께 저감보다 수율향상으로 가격 절감 추구- 실험실적 고효율화 기술을 생산기술에 접목● 신형 박막 태양전지- 조만간 결정질실리콘 태양전지 대체할 기술로 대두- 저가
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.02.26
  • 마이크로웨이브를 이용한 금속황화물 나노분말 제조 (예비레포트)
    . 실험 목적?Microwave 에너지를 이용하여 반도체산업 재료에 사용되는 CdS 나노분말을 합성한다.2. 이론? 실험배경CdS(cadmium sulfide)는 박막화가 용이한 육방 ... heating 장점 및 특성Microwave를 이용한 Ⅱ-Ⅵ족 nanoparticles 제조는 여러 가지 새로운 가능성들을 제공하고 있는데 그 장점들을 열거하면 다음과 같다.ㆍ공정시간 ... 다. 기술분야별 핵심기술 및 핵심기술의 구현에 필요 한 기반기술을 보면 과 같다. (참고문헌 3) 나노분말 기술의 주요 분야기술분야핵심기술기반기술분말합성공정설계 및 장비제작화학공정
    리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.21
  • Developing, Etching, Stripping
    으로, Pattern이 형성된 부분의 박막은 남게 되고 PR이 없는 부분의 박막은 제거된다. 식각 공정에는 Gas Plasma가 사용 되는 건식 식각과 화학용액을 이용하는 습식 식각 ... 게이트전극, 소스드레인 전극, 화소전극, 및 보호막을 이루는 물질을 부식시켜 제거하는 공정으로 전자는 DRY ETCH, 후자를 WET ETCH라 한다. 이중 DRY ETCH ... 으나 점차 대체되어가는 추세이다.STRIP공정은 ETCHING의 후속공정으로 패턴을 선택적으로 형성하기 위하여 ETCHING의 보호막 역할을 한 PR을 제거하는 공정이다.3. 실험방법1
    리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.11.03
  • [기기분석]【A+】실험자료(IR기기)
    한다. 마지막으로 고체박막법은 고분자 물질에 잘 이용되며 기계적으로 절단하여 만드는 방법과 적당한 용매에 녹인 후 용매를 휘발시켜 만드는 방법이다.실험 방법기기-Jasco FT-IR ... 적 쉽게 얻을 수 있을 뿐 아니라, 분자 구조를 확인하는데 결정적인 많은 정보를 제공해 줄 수 있고, 현재 무기 및 유기 화학은 물론 화학의 모든 분야에서 널리 이용되고 있다.기기 ... 의 분석 성분을 전처리로 분리과정을 생략하거나 거의 하지 않고도 정량분석을 가능하게 한다. 이런 형태의 가장 중요한 분석은 공업공정에 생기는 대기 오염물질의 분석이다.● 기체
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.08.01
  • 마이크로 표면측정
    .998.799.361.04391.986.889.473.63488.787.688.275.155113.9103.5108.749.46Avg97.263.696. 결과 및 고찰1) 실험에 사용 ... 실험. 마이크로 표면 측정1. 실험 목적본 실험에서는 마이크로 디바이스(micro-device, MEMS)에서 중요한 요소의 하나인 표면특성에 대하여 알아본다. 접촉각(c ... (hydrophobicity) 경향을 한 번에 알 수 있어 박막평가, 표면의 접착(adhesion), 표면처리, 폴리머 표면분석에 광범위하게 사용되며, 측정 후 표면에 영향을 주지 않기 때문
    리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.06.24
  • Sol-Gel Process
    을 촉진시키는 과정이 필요할 수도 있다.2. 금속 alkoxides의 안정화 및 water-based sol-gelSol-gel 공정에서 gel의 균질성은 박막제조등에 있어서 물질 ... 하고 제어하는 것이 균질한 gel 및 박막제조에 필수적인 공정이다 일반적으로 금속 alkoxide들은 Fig2-11에 나타낸바 와 같이 carboxylic acid, glycol ... toxicity 면을 고려할 때 이러한 water-based sol-gel법은 그 제조공정이 간편하고 가수분해 반응에 민감하지 않으므로 더욱 재현성 있는 sol 제조 및 박막제조에 장점
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.12.14
  • 초전도체의 정의, 특성, 제조방법등
    .2 펠렛(pellet)3.3 선재3.4 코일3.5 고온 초전도 박막의 제조3.5.1 고유(in-situ) 성장법과 외부(ex-situ) 성장법3.5.2 열 증착(Thermal ... 에서 직류 비저항이 0이 되며 이때 초전도체 내부의 자속 역시 0이 된다는 것이다. 비저항이 0이라는 것은 지금까지 알려진 실험적인 방법으로 초전도체의 저항을 감지하지 못했기 때문이 ... 했으나 각분산 X선 회절법으로 분석 결과 예상과 다른 결과가 나타났다. 실험 결과 압력이 0에서 15GPa로 상승하면 원자간 간격이 줄어들고 Tc가 약간 상승하지만, 압력이 더 크
    리포트 | 8페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.04.17
  • 전착 공정을 이용한 Ni 나노선의 제조 및 특성 분석
    신소재공학부재료공학실험전착 공정을 이용한 Ni 나노선의 제조 및 특성 분석□ 실험예비전착(electrodeposition)의 원리와 다른 증착방법(Physical method ... 며 진공도가 나쁘면 증발금속이 표면에 달할 때 입자가 커지든지, 산화를 하든지 하여 좋은 박막을 얻을 수 없다.- 진공 증착의 장점플라스틱, 천, 종이, 유리. 목재 등의 물질에도 도금
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.03.28
  • [OLED, LED] Photolithography를 이용한 ITO Pattern 제작
    Photolithography를 이용한 ITO Pattern 제작1. 실험목적Photolithography의 원리 및 공정과정에 대해 이해한다. 이를 바탕으로 직접 ITO를 이용 ... 하여 Pattern을 제작해보고 평가해본다.2. 실험기구 및 재료준비MoW(몰리텅스텐)이 증착된 Glass, OHP 필름, Aligner, Spin Coater, IPA ... 위해 Stripper에 담가서 PR을 제거한다.5. 실험결과① mask pattern과 Lithography공정 후의 금속 pattern 비교mask pattern(왼쪽
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.19
  • 실리콘 나노와이어의 합성
    된 동공의 직경은 산화 공정에서의산성용액의 농도 및 전압에 따라서 수 십에서 수백 나노 미터 영역이 되고 길이는 수 마이크로 미터 정도 된다. 따라서 이 AAO template ... atalyst 안으로 penetrate된다. 그러면 phase diagram에에서 공정점에서 왼쪽에서 오른쪽으로 즉 금속공정에서의 A1라인에서 Acm라인으로 이동하게 되면 계속 축적 ... 였다 [10]. 그림 6 은 AAO/VLS 방법으로 si-nanowire합성 과정에 관한 개요도 및 최종 합성된 si-nanowire를 보여주고 있다.Atomic Layer
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.21
  • 박막재료의 표면 처리 및 PR제거
    1. 실험제목박막재료의 표면 처리 및 PR제거2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정박막재료의 (1) 증착공정, (2) 마스크의 패턴형성 ... 그리고 (3) 식각 공정으로 구분된다. 이러한 공정들 가운데서 중요한 공정박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이다. 본 실험에서는 마스크에 의하 ... 여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화등에 대하여 고찰하고자 한다.3. 실험내용가장 널리 사용되는 실리콘 산화막
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.20
  • 유기태양전지의 광전변환 특성과 전망
    라, 수십 나노 이내 두께의 박막으로 만들 수 있는 장점이 있다. 하지만, 경제적인 측면에서 활용가치를 높이기 위해서는 최소 10%이상의 효율이 필요하다. 공정기술 또한 많은 과제 ... ․ 열전 ․ 광전 ․ 화학 변환 기술 등이 있음. 이중 광전 변환 기술은 태양 에너지를 곧바로 전기 에너지로 바꾸어 주는 기술로 현재 무기 실리콘 태양전지의 경우 실험실 수준 ... 의 연구가 활발히 진행되고 있음.향후 에너지 발전 단계2000 Solar Cell(반도체) 2010 고체,액체성의 유리창 및 전기 겸용 유기 Solar Cell 상용화 2020
    리포트 | 15페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.07.13
  • 막 분리 기술
    부터 사용되었으며 해수의 담수화에 이용되었다.PS : 화학적 내성 및 내열성이 강하여 화학공정 및 폐수 회수공정에 많이 사용된다.세라믹 막 : 다공질의 분말을 성형, 고온에서 소성 ... 다.(3) 일본일본에서는 고액분리공정에 막여과기술을 도입하기 위한 MAC 21 계획이 1991년부터 3년간 일본 후생성의 후생과학 연구비 보조금 생활위생조사 연구비의 수도 및 폐기물 ... 처리기술 고도화 추진연구비에 의해 국립공중위생원, (사)수도정수프로세스협회 및 민간법인 대학 등의 연구자 등을 구성된 관민학의 공동연구로 이루어졌다. 실험연구는 수도수원으로 사용
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.29
  • 태양전지의 종류
    에 가격은 아직 높은데, 그 해결방안으로 보다 저급의 실리콘을 이용하는 방법, 대량생산 및 공정 개선에 의한 방법 등이 시도 또는 계획되고 있다. 다결정실리콘 태양전지는 원재료로 저급 ... 의 두께를 혁신적으로 줄이는 기술, 또는 유리와 같이 값싼 기판위에 박막형태의 태양전지를 증착시키는 기술이 주목을 받고 있다. 기존의 박막 제조공정을 이용할 경우 보다 값싼 방법 ... 고, 또한 초기 열화현상이 없는 등 비교적 안정성이 높은 태양전지로 현재 CdTe는 대규모 전력용으로 사용을 위한 실증시험 중에 있다. CuInSe2는 실험실적으로 만든 박막 태양전지
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.12.06
  • DSSC 효율증대 방안
    한데, 낮은 전자친화도, 높은 등전위점, 낮은 전도대 준위 등을 고려할 때, 이 중 ZnO 가 가장 유망.- 광전극 다공성 박막등을 통한 전자전도도, 흡착도 향상-TiO2의 전극 형성시 ... 염료감응형 태양전지의 에너지변환효율에 미치는 영향에 대하여 연구.염료감응 태양전지의 TiO2 전극의 다중층 및 TiCl4 처리에 따른 효과 류광선 교수 (울산대학교)2010.12 ... ) isopropoxide)와 48mmol H2O, 1mmol Methylamine를 용해하여 비정질의 입자를 생성. -생성된 비정질의 구 및 기타 형태의 입자를 원심분리법을 이용하여 제조
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.02 | 수정일 2014.11.13
  • 결정 성장 기술
    에 있어 반도체 박막 결정을 형성시키는 매우 중요한 공정기술이다. 특히 GaAs를 포함하는 일부 화합물 반도체는 다른 방법보다는 VPE법을 사용하여 보다 순수하고 결정구조가 완전 ... 하항상 창 부위에 머물도록 한다.실험을 하기 전에 결정의 성질과 성장 인자사이의 관계를 잘 파악하고 출발원료의 입도 및 건조상태, 가스공급의 안전성, 용융면의 상태, 냉각 과정 중 ... 형태진공 속에서 다양한 결정의 구성 원소가 함유된 셀을 가열하여 나오는 증기를 분자선 형태로 방출시키고, 적당한 거리를 두고 설치된 기판 위에 반도체 단결정 박막을 형성하는 방법이
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.06
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2025년 08월 16일 토요일
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