"감광성수지막"의 검색결과 입니다.

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photolithography photoresist 반도체 공정 3d프린터 반도체 포토리소그래피

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"감광성수지막" 검색결과 61-80 / 131건

spin coating

으로써 소수성화된 표면과 감광막과의 접착력을 향상시키는 공정이다. 즉 감광제의 도포는 빛이 투사되면 그 분자구조가 변화하는 감광성 수지를 가리키며, 그 수지 성분을 웨이퍼 표면에 균일 ... -Resistor)를 코팅시키는 것이다. 스핀코터에 의해 사용하는 액체는 물론 액체의 점도가 적당히 있어야 하기 때문에 감광제는 유기화합물이다. 하지만 SiO2막이 무기물이기 때문 ... 에 막 위에서의 접착력이 충분히 않다. 그러므로 현상 이후의 식각공정에서 표면으로부터 벗겨든지 또는 측면 식각이 생기기 때문에 패턴가공을 어렵게 한다. 그래서 감광제를 도포하기 전

리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.07.25

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Color TFT-LCD 제조기술

.3 RGB Pattern 형성2.4.4 공통전극 형성2.5 액정 Cell 공정2.5.1 배향막 형성2.5.2 Rubbing 공정2.5.3 Spacer 산포2.5.4 Sealant ... 된다.감광액은 점도를 조절하는 solvent, uv와 반응을 일으키는 photo active compound, 화학적 결합 물질인 polymer resin등의 성분으로 구성되며 uv ... 만 다루기로 한다.안료분산법에서 사용되는 color PR의 주요 성분은 일반적인 PR과 같이 감광 조성물인 광중합 개시제, monomer, binder등과 색상을 구현하는 안료

리포트 | 54페이지 | 8,000원 | 등록일 2011.11.01

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PDP 제조공정도 상세 기술

Binde체 형성 Process13/22Process목 적요구특성재 료사 용 재 료주재료부재료막형성 방법색순도,잔광시간 발광휘도,노화 도포특성감광성 Paste법Pattern인쇄법R,G,B ... 전극으로써 Cell내에서 플라즈마가 형성된 후, 방전을 지속적으로 다음 펄스에 의해 유지될 수 있도록 함.요구특성고투과율 저저항화 막두께의 균일성 BUS전극과의 밀착성. 내열성 ... ,내약품성.ITO(Indium Tin Oxide) - Sputter법(전도성이 가장 우수) - Ion Plating. - 진공증착법. SnO2(통칭:NESA막) - 화학증착법(CVD

리포트 | 23페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.02.08

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폴리머에 대한 정의 설명

상 물 때문에 장래의 고분자재료로서 기대되고 있다. 그 중에서 실리콘 수지가 가장 널리 이용되고 있다.감광성고분자 [Photosensitive polymer]감광성 고분자로 이루어지 ... 는 수지를 감광성 수지라 한다. 빛에 민감한 작용기인 이중결합의 반응성, 신남산 에스테르기에 의한 다리걸침 반응, 아지드기에서 질소분자를 방출하여 생기는 다리 걸침반응, 디비닐 ... , 단백질, 효소, 고무 등을 들 수 있다. 그 밖에 아스팔트, 호박, 수지 등이 있고, 어느 것이나 예로부터 인류의 의식주에 많이 이용되어 왔다. 무기고분자로는 운무, 석묵

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.09.02

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식각 박막 예비보고서

널리 사용되는 실리콘 산화막 (silicon oxide; SiO2) 박막을 적절한 식각가스를 선택하여 반응성 이온 식각장치(reactive ion etcher; RIE)를 이용 ... 하여 식각한다. 식각 전후의 산화막의 색깔 변화를 관찰하여 식각된 두께를 측정하고 식각에 의하여 형성된 패턴의 모양을 관찰한다.4. 실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝 ... (patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용(3) 패턴된 산화막을 반응성 이온 식각장치

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.15

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신소재 용어 정리 광학적 기능 화학적 기능

의 수지에 영향을 미친다.* 포토레지스트(PR, photoresist)는 IC, LSI 생산이나, PCB의 구리 에칭에도 사용되는 감광성 수지이며, 자외선에서 가시광선 파장까지의 빛 ... 을 반복하는 가역적 반응을 한다.* 산화 텅스텐과 비오로겐 등이 있으며, 새로운 표시소자(ECD, electro chromic display)로서 연구되고 있다.감광성빛을 조사 ... 시켜, 분리, 정제, 농축하는 기능화합물 등에서 목적 성분만을 투과 시키는 성질* 막(membrane)이란 선택적인 물질이동을 가능하게 하는 얇은 물질로서 비투과성 필름과 비교된다. 분리막

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.21

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OLED 수율 향상에 관하여

지만 절연성 고분자를 이용하여 막 두께가 두껍게 되기 때문에 구동전압이 높은 문제점이 있었다. 본격적으로 실용재료로서 주목된 것은 100nm 정도로 박막화한 PPV를 이용하여 제작 ... 층에서 결합하지 못한 정공의 이동을 억제하여 발광층내의 재결합 기회를 증가시키는 층으로 전자 친화성과 전자를 주입하는 음극 전극과의 접착성이 우수한 재료가 주로 사용된다.전자 수송 ... phororesist나 polyimide와 같은 전기적으로 충분한 절연효과가 있으면서 감광 특성을 가진 고분자 재료를 사용한다.1) 알칼리 또는 중성세제를 사용하여 세정시켜주고 IR

리포트 | 18페이지 | 4,000원 | 등록일 2011.11.21

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약물전달시스템 Drug Delivery System

(트랜스덤-니트로) 다공성 PP막 (트랜스덤-스코폴)방출 제어막저장형 : 실리콘수지계 (트랜스덤-니트로), 광물유-폴리아이소부틸계 고분자겔 (트랜스덤-스코폴) 매트릭스형 : 글리세린 ... 등지능 지배형 전장 감응 화학적 감응방출 속도 기구형태경구투여용 DDS의 방출 제어기구경구 투여용에틸셀룰로오스 셀룰로오스 아세테이트 양이온 교환 수지불용성 고분자HPMC HPC ... : 아크릴산 에스터를 주성분으로 하는 공중합체 (트랜스덤-스코폴) 고무계 점착제 : 천연고무 또는 합성고무와 점착부여 수지를 혼합 (데포니트)점착제메틸렌-아크릴산 공중합체막

리포트 | 27페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.12.10

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꿈의 신소재, 기능성 고분자

성을 가지는 고분자도전성 수지 금속 분말 원료 : 금, 은 동, 알루미늄, 팔라듐 등 형태 : 분말, 박막, 증착막3장. 기능성 복합재료의 세계1.도전성을 가지는 고분자도전성 수지 카본 ... 을 조사 도전성 Yes3장. 기능성 복합재료의 세계1.도전성을 가지는 고분자(4) 광도전성 수지 폴리비닐 카르바솔 : 전자사진용 감광 재료3장. 기능성 복합재료의 세계전자사진의 공정1 ... .도전성을 가지는 고분자(4) 광도전성 수지 -열가소성 기록 재료 : 글을 고쳐 쓰는 것이 가능한 가역적 광메모리3장. 기능성 복합재료의 세계열가소성 기록용 재료의 구조2. 고분자

리포트 | 33페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.12

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반도체 제조공정의 이해

Logic Devices 휘발성 메모리 제품 ( 컴퓨터메모리 등에 사용 ) EDO, SDR, DDR, DDR2, Graphic DRAM 휘발성 메모리 제품 ( 휴대폰 등에 사용 ... 게 짤라 웨이퍼를 만드는 과정 웨이퍼 가공 ( FAB) 웨이퍼 표면에 여러종류의 막을 형성하고 , 마스크를 사용 특정 부분을 깍아내는 과정을 반복 전자회로를 만드는 모든 과정 PKG ... 반도체 회로를 찍을 수 있는 필름막을 형성 사진을 찍듯이 회로를 웨이퍼 위에 인화함 불필요한 부분은 깎아내고 , 버림 전기적 성질이 생기도록 이온을 주입 전공정고온 (800~1200

리포트 | 54페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.04.10 | 수정일 2021.06.17

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반도체공정기술

면 MASK의 상이 Wafer에 옮겨지도록 자외선에 감광제를 노출시키는공정을 말하며 정렬과 노광을 동시작업으로 진행함.·PHOTO RESIST(PR):감광성 수지를 말하며 구성성분 ... 는데 패턴과 현 마스크 패턴을 정확하게 중첩하는 것.·BAKE:감광제 도포후 열에 굽는 것으로 ETCH나 DEVEROP시 감광제의 접착력을 증가시키기위함인데 HARD와 SOFT ... BAKE가 있다.·COATIG:Wafer위에 감광제를 도포하는 것.·CONTACT:적층되어 있는 전도층들을 연결히켜 주기 위하여 절연물에 구멍을 뚫는 것을 말함.·DEVEROP:정렬

리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.09.12

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MOS 소자 형성 및 C-V특성 평가

다. 용해되어 있는 이온을 모두 제거한 물을 말하는데, 보통 이온교환수지가 사용되며, 공업용수·음료수 등으로 이용된다. Cleaning은 자연산화막을 제거하는데 있다. 제거하는 이유 ... 적으로 절연체 두께가 두꺼우므로 전자를 잘 끌지를 못하므로 산화막두께를 줄인다.Si은 4족 원소인데 P-type으로 도핑을 하여 3족형태로 만들어 (+)를 띄는 것이 있고, N ... 은 고른 산화막을 만들기 위해서이다. 습식 산화막은 반응이 빨라서 산화막 성장이 빠르지만 산화막의 질은 좋지가 않다. 건식은 반대로 성장은 습식산화를 할때보다 산화막 성장은 느리

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.12.20

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[트랜지스터][전자관][반도체][집적회로]트랜지스터의 발명, 트랜지스터의 구조, 트랜지스터의 종류, 트랜지스터의 기호, 트랜지스터의 명칭, 트랜지스터의 장단점, 트랜지스터의 증폭작용, 트랜지스터의 계측법

에 그 위에 감광성 포토 레지스트(감광 성수지)를 칠한다. 이 포토 레지스트에는 자외선을 비추면 비춘 곳만 현상 저리가 되어 녹아버리는「포지티브 타입」이 있는데 목적에 따라서 선택 ... 가 만들어지는데, 리드(lid)를 붙여서 금속 케이스나 에폭시 수지(epoxy resin)속에 봉입하면 완성된다.지금의 예에서는 N형 게르마늄 [게르마늄에 N형 불순물인 비소(As) 등 ... 를 들면, 메사형의 실리콘에서는 어떻게 만드는가를 보면,① 먼저 N형의 실리콘(Si) 기판을 수증기 속에서 가열한다. 표면에 얇은 실리콘 산화막(SiO2)을 만들어 실리콘의 발열을 막

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2009.07.17

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리소그래피

클로 유리판 위에 반복적인 패턴 형성Photo LithographyPR Coating - 필요한 두께의 감광막을 웨이퍼 전체에 균일하게 도포하는 공정 * 두께와 균일성에 영향을 주 ... 미세한 패턴을 만듦Lithography* Photoresist : 마스크를 통해 빛을 통과시켜 그 형태를 마스크로부터 감광제 * Etching : 현상된 감광막 패턴을 이용 ... 하여 웨이퍼 상의 불필요한 부분을 제거하는 공정감광막 프로세스 Photoresist process식각 프로세스 Etching processLithography감광막 프로세스

리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.30

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박막재료의표면처리및식각실험(예비).

널리 사용되는 실리콘 산화막 (silicon oxide; SiO2) 박막을 적절한 식각가스를 선택하여 반응성 이온 식각장치(reactive ion etcher; RIE)를 이용 ... 하여 식각한다. 식각 전후의 산화막의 색깔 변화를 관찰하여 식각 여부를 확인하고 식각에 의하여 형성된 패턴의 모양을 관찰한다.4. 실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝 ... (patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용(3) 패턴된 산화막을 반응성 이온 식각장치를 사용

리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.09.23

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[판화][판화 특성][판화 기법][판화 주제선정][판화 판화용구][판화 조각칼][케테콜비츠]판화의 정의, 판화의 유형, 판화의 특성, 판화의 기법, 판화의 주제선정, 판화의 판화용구, 판화 조각칼, 판화와 케테콜비츠

. 누르기 판화2. 찍어내기 판화3. 옮겨내기 판화4. 문질러내기 판화5. 문질러넣기 판화Ⅳ. 판화의 특성1. 간접 표현2. 복제성과 편리성3. 독자적인 미감4. 표현 방법의 다양성Ⅴ ... 되면서 나무뿐만 아니라 금속판이나 합성수지 같은 판에 그리는 일이 가능해지면서 바뀐 것으로 불 수 있다. 판화사가로 유명한 일본의 사카모토 미츠루씨는 판화의정의를 '어떤 바탕재 ... 스프레이 등도 이용할 수 있다. 소프트그라운드 에칭 방식제에는 빨리 건조되고 딱딱한 괴막이 형성되는 것과 눅눅한 것이 있는데 크레용이나 콘테의 느낌 또는 지문이나 나뭇잎, 천

리포트 | 10페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.09.21

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Photoresist 및 Photolithography

되는 256K DRAM으로부터 0.352㎛의 최소 선폭이 요구되는64M DRAM까지는 NDS 감광제와 NR 수지로 이루어진 Positive Photoresist가주로 이용되고 있 ... hloro arcylate)(EBR-9)은고감도이고, FBM은 전자선에 의한 마스크 제작에 사용되고 있으며 DUV에도 고감도를나타낸다. Polyketone은 고전적인 주쇄절단형 감광성 고 ... 다. 알칼리 용액에 의한 현상과 높은 해상도를 특색으로 하고,방향족 수지를 주성분으로 하는 것으로, 건식 에칭 내성도 높다. 알칼리에 녹지 않는NDS 화합물은 NR 수지의 알칼리 용해

리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.28

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photolithography

는 화상형성용의 사진식각(Photoetching)에 사용되는 감광성 고분자를 일컫는 것을 말한다.Micron이나 Micron 이하의 미세형상 구현이 요구되는 재료이다반도체, LCD ... 이 없으며 빛에 의한 변화도 없음. 점성의 변화에 관계하여 막의 특성에 관계2.감응제 ( diazonaphthaquinone)UV에 반응하여 물에 녹는 감광제로 변환.3.다중체 ... 하면 Resin끼리 가교 결합을 일으켜 분자량이 커지고 내화학성, 내열성 등이 좋아진다. 그러나 문제는 너무 높은 온도에서 처리하거나 Resin의 열적성질이 약하면 Photoresist

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.13

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반도체 제조 공정

웨이퍼 표면과 화학 반응시켜 얇고 균일한 실리콘 산화막(SiO2)을 형성6. 산화(Oxidation)공정빛에 민감한 물질인 감광액(PR)을 웨이퍼 표면에 고르게 도포7. 감광액(PR ... ) 도포PR coating의 목적패턴(pattern)형성 고집적화감광성 고분자 광 반응 물질Photoresist 란?1. 용제(solvent) 2. 다중체(polymer) 3 ... 개략도웨이퍼 세정표면 세정(HMDS)감광액 도포소프트 베이크노광기(Stepper)를 사용하여 마스크에 그려진 회로패턴에 빛을 통과시켜감광막이 형성된 웨이퍼 위에 회로패턴을 사진

리포트 | 29페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.03 | 수정일 2019.04.09

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sams (Self-Assembled Monolayers )

) 범위와 점도가 적절한 일반적인 열가소성 수지 또는 열경화성 고분자를 이용해도 무관할 것으로 생각된다. 최근에는 mr-I 8000TM및 mr-I 9000TM과 같이 NIL 전용 ... 열가소성 수지 및 열경화성 Photo Resist를 판매하고 있다.Ⅱ 경우, Lift-off 공정을 위한 패턴형성 재료 역시 건식 식각 마스크 재료와 유사하나, 보다 세밀한 가공 ... 의 분류 4. Alkylsiloxane 막 형성과정 5. Photolithography 6. Soft lithography PDMS 7. Microcontact Printing 8

리포트 | 59페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.11

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