"공정파라미터"의 검색결과 입니다.

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"공정파라미터" 검색결과 661-680 / 788건

흡착

의 공유한 값이다.5.흡착이 많아야 단 분자층이다.흡착 등온선흡착등온선의 형태는 분리공정으로서 흡착법의 적용여부를 결정할 수 있는 중요한 요소이다. Brunauer는 흡착등온선 ... 파라미터를 얻기 위해서 다음과 같이 직선화할 수 있다.여기서 직선의 기울기로부터 qm을 구하고, 절편으로부터 b를 구할 수 있다.(2) Freundlich의 흡착등온식압력에 따르는 흡착

리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.09.06

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Lyocell (리오셀계 섬유)

는 생산공정에서 일체의 오염물질이 발생하지 않으며 생산공정시 유일한 사용되는 용매인 아민옥사이드는 거의 95%이상이 수거되어 재사용한다. 폐기시에도 1달동안 땅에 묻으면 생분해 ... .>일체의 화학적인 변형없이 물리적으로 섬유소(cellulose)만을 추출하는 무공해 환경친화섬유 폐기시에도 일체의 공해 발생없이 생분해 됨.*Lyocell의 제조공정가 ... 는 특성이 있다. 이러한 물리적 특성은 글루코스 단위에 수산기가 3개 있어서 분자간 강력한 수소결합을 하는 데서 비롯된다. 셀룰로오즈와 가장 비슷한 용해도 파라미터 값을 갖는 DMF

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.21

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[공학] Single Junction Charge Pumping 방법을 이용한 전하 트랩형 SONOSFET NVSM 셀의 기억 트랩분포 결정

의 기억트랩 분포 및 특성에 대한 정보는 전하주입 기구 및 소자 동작특성의 정확한 예측을 위해 필요한 파라미터이다. 트랩의 특성을 연구하기 위한 방법은 C-V, G-V, TSC ... 였다.SONOSFET NVSM 셀은 0.35 ㎛ 리트로그레이드 트윈 웰, 이층폴리, 이층금속배선의 표준 로직공정을 기본으로 ONO 셀 공정을 추가시킨 기억 셀 임베디드 로직공정을 이용 ... 트랩 분포를 정확히 구할 수 있었다.1. 서 론SONOS(polysilicon-oxide-nitride-oxide-semiconductor) EEPROM은 소자제작공정이 간단

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.11.17

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제어시스템설계

제어시스템의 설계 절차1. 설계 목표의 정립2. 설계 사양의 결정: System이 무엇을, 어떻게 할 것인가를 결정3. 시스템 구성 결정: 제어기나 보상기를 제어공정에 어떻게 ... 연결할 것인가?하는 시스템 구성방안을 결정4. 제어기의 파라미터 값들을 결정: 설계 목표를 달성하기 위한 모델 획득을 위한 파라미터 값 결정제어시스템 설계시 고려 사항① 상대안정 ... 도② 정상상태의 정확도③ 과도응답④ 주파수응답특성⑤ 파라미터 변화에 따른 감도설계사양시간영역의 사양 : 과도응답 과 정상상태응답 에 의해 조사됨최대오버슈트, 상승시간, 정정시간, 정상

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.11.16

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[경영] ERP 구축 실패사례

시스템 팀 이외의 다른 개혁팀도 문제를 안고 있었다. 부품구성도/공정순서도 간리를담당하는 PDM침에서는 패키지의 사양설명서를 가지고 있지 않았기 때문에 HR자적으로 복잡한 정보구조 ... “패키지에 맞춰서 업무를 개혁하라”고 주장한다도입업자패키지를 고객에게 가져다 서비스(파라미터 설정, 튜닝 혹은 적합한 등)해서 고객이 사용할 수 있게 하는 기업. 주된 수입은 서비스

리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.05.04

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특허가치 평가방법론의 이론적 고찰

는 데는 적절치 못한 방법으로 보인다.4.2 시장접근법시장접근법은 공정한 거래를 전제로 시장가치를 측정하려는 방식이다. 평가대상의 기술이 시장에 존재하거나 유사한 기술의 거래가 선행 ... 어서는 시사하는 바가 있다. 하지만 이 방법 역시 상당히 파라미터가 복잡하고 파라미터가 일반적인 사람이 평가하기에는 어려워 특허평가방법으로 적절해 보이지 않는다. 이 방법도 DCF방법 ... 방법과 동일한 기술분야를 특허가치평가에 비해 찾기 어렵다. GVP방법은 특허에 적합한 모델이라고 주장하는 이유는 여러가지 파라미터중에서 기술특허로 인한 이득 이외에는 다른 부분

리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.01.15

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[미시경제론]생산자이론

적인 기업은 이 효율적인 요소배합선상에서 생산할 것이며 이 선을 하나의 공정이라고 생각할 수 있다. 상품을 생산하는 공정이 위에서 고정요소배합비율 하나로 제한되어 있는 경우 이 ... 기업은 생산방법을 다른 공정으로 바꾸는 것이 불가능하다. 그러나 에서 보는 것과 같이, 두 개의 고정요소배합비율(두 가지 공정)이 가능하다면 두 가지의 공정을 적절히 결합함으로써 주 ... 다.(7.36)여기서,는 파라미터이고, 대칭성의 제약에 의하여이다. 그리고인 경우 위 함수는에 대해 일차동차성을 가진다.(6) 일반화 Leontieft 생산함수Diewert

리포트 | 55페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.20

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[전자회로실험]MOSFET CS Amplifier_예비보고서

고 제조공정이 비교적 간단하다. 그리고 MOSFET만을 사용하여 디지털 논리기능과 메모리 기능을 실현할 수도 있다. 이런이유로 현재 대부분의 초대규모집적회로(VLSI)는 MOSFET ... 하게 되어 드레인 전류는 포화점에 이르게 된다.를 이 이상으로 증가시켜도는 일정한 값을 유지한다.일 때 포화되는 드레인 전류값은 매우 중요한 파라미터로서 드레인-소스 포화전류하 하

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.25

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ERP, Inno-biz, ISO9001

의 부담이 크게 줄게 된 것이 파라미터 지정이라는 기능이 있기 때문이다. ERP시스템은 패키지 개발 시 해당 업무프로세스와 관련하여 상정할 수 있는 대부분의 거래유형을 포함하고 있 ... 에서부터 출하에 이르는 모든 업무의 과정을 지원해주는 시스템이다.Ⅱ. ISO 9001품질 보증에 관한 국제 표준으로 제품 자체에 대한 품질을 보증하기 보다는 제품의 생산과정 등의 공정 ... 검토, 설계관리, 문서 및 자료관리, 구매, 고객지급품의 관리, 제품 식별 및 추정성, 공정관리, 검사 및 시험, 검사/ 측정 및 시험 장비의 관리, 검사 및 시험 상태, 부적합

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.25

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[경영정보시스템] ERP의 적용사례연구

는 한번만 입력하고 입력된 정보는 가공하지 않은 데이터로 어느 업무에서도 참조할 수 있도록 데이터베이스에 보관된다..파라미터 설정에 의한 단기간의 도입과 개발ERP에서는 미리 장착 ... 된 업무기능을 파라미터 설정으로 자사에 맞게 선택하고 설정한다. 파라미터 설정을 이용하는 방법은 단기간에 시스템을 도입할 수 있는 이유중 하나이다..오픈, 멀티벤더대다수 ERP ... /제조 /유통 모듈, 오라클4 데이터 베이스, 심린크사의 공정 계7획 소프트웨어 등에 기반한 이 ERP 시스템은 전체 19개 부품 공장에서 구현해 1만 8천명의 사용자를 지원

리포트 | 29페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.22

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Cell gap 측정, 표준 셀의 유전율 측정

하여야 하며 매 공정시 반복 재현성이 있어야 한다. 그래서 투명한 플라스틱 구슬과 같은 spacer가 유리기판의 표면에 위치해 있다.cell gap은 LCD의 광학적 특성을 결정 ... 하는 가장 중요한 파라미터이다. 그러므로 이것을 정확하게 측정하기 위한 다양한 노력들이 진행되어 왔다. 일반적으로 액정이 들어 있지 않은 셀의 cell gap 측정방법으로는 Peal

리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.11.03

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[로봇공학] SCARA ROBOT

특징RSS5는 조립, 검사, 조정공정에 적용 가능하며, 고속, 고정도의 실현과 경량화, SIMPLE화한 LINK구현 및 다양한 OPTION 보유로 기능 및 사양 확장성을 확보 ... ,β,γ)으로 이동방향키→,←,↑,↓프로그램의 편집, 파라미터 수정 시 위치 이동키로 사용특수키ARC용접기 연결시 아크 출력의 인가 또는 중지RUN프로그램의 실행 및 중지ROBOT ... - LOCAFERENCE 포인트의 표시, 설정, 변경 기능- COMMUNICATION : 직렬통신 파라미터 (PROTOCOL, BAUD RATE)- MISCELLANY : 제어기의 동작

리포트 | 31페이지 | 3,000원 | 등록일 2004.07.08

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[산업공학]ERP의개념과특징

과정라우팅/웍센타BOMCRPMRPMPS제고관리MRP 1970s로트제어판매관리현장데이터수집회계관리품질관리공정관리생산정보관리설비관리EDI 인터페이스MRP II 1980sProcess ... :154. ERP의 특징파라미터 설정에 의한 시스템 유연성 부여차이분석에 의한 기능 추가교육과 컨설팅 중심의 시스템BPR기능 수행분산 통합적 자원을 통한 전체 업무지원패키지 수정

리포트 | 20페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.04.26

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JFET과 MESFET에 관한 보고서

을 파라미터로 해서, 더욱 균일성을 향상할 만큼, 각연구 기간에서의 연구개발이 성행해졌다. 또 Rumsby들의 보 고에서는, 저항율은 약 5mm각의 시료를 이용한 측정이지만, 실제 ... 은 중요하다. Kitagawars들은, 통상의 잉곳트, 어닐(950℃, 2시간)전에, 1100℃에서 5시간 어닐하여, 실온까지 급냉(100~200℃/분)하는 공정을 넣음에 따라 결정

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.23

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JFET과 MESFET에 관한 보고서 내용보충 완결편

한다. 많은 경우 고저항의 GaAs 에피택셜층(버퍼층(buffer layer))은 그림에 나타낸 두 개의 층 사이에서 성장한다. 사진석판공정은 소스와 드레인의 옴 접촉을 형성하기 ... 형의 분포를 나타내고 있던 EL2농도가 평탄한 면내분포가 되었다. 이 발표를 계기로, 온도, 시간, 결정성장조건, 어닐 후의 냉각속도 등을 파라미터로 해서, 더욱 균일성을 향상할 만큼

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.29

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[경영정보]ERP의 모든것

..PAGE:6ERP의 특성ERP패키지는 Module로 구성되어 있음각종 비즈니스 모델들이 포함됨파라미터 지정을 통해 개발통합된 시스템을 목표로 하여 서브시스템이 연결됨계속적 진화 ... 의환경변화에 따른 고객지향업무의 부각에 따라 생겨났다. 이러한 개념으로 MRP에자동화된 공정 data의 수집, 수주관리, 재무관리, 판매관리의 기능을 추가하여 실현 가능한 생산계획 ... KB 확장개발 한계, 계속 추가개발확장성기업 및 그룹단위사업장 단위사용범위파라미터 설정프로그램 수정적용방식통합업무 중심특정업무 중심개발범위경영혁신 수단전산화, 자동화접근방식프로세스

리포트 | 48페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.07

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[기계공작법]RP(쾌속조형법+RT,RM)

.) 으로 개발되었다.기계공작법1 강의 후반부에서도 등장하는 R.P.는 기존의 일반적인 제조공정인 설계-금형제작-시제품생산에 이르는 수많은 공정들을 3D설계 및 생산 시작이라는 획기적인 시간단 ... 해 아래층 과 압착시켜 한층 한층씩 적층시켜 원하는 형상으로 만드는 방법특징: ① SLA공정보다 공정변수가 적기 때문에 많은 실험을 거치지 않고도 손쉽게 모형을 만들 수 있 ... 에 더 적합함④ 단점으로서는 소재가 종이이기 때문에 수분흡수에 의한 팽창을 막기위해 공정이 끝난 후 완성제품에 니스를 칠해 밀봉시킨 후 polishing 을 해주어야함3) FDM

리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.07.10

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[플라즈마] PDP 에서 사용된 플라즈마

적으로는 전기적인 중성을 띄는 플라즈마 상태로 변환한다.플라즈마 상태는 그 밀도와 온도를 그 주 파라미터로 사용하며 이 두가지 요소에 따라 우리주변에서도 쉽게 찾아 볼 수 있 ... 들이 플라즈마 상태라고 하면 이해하기가 쉬울 것이다.이중 공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 공정에서 플라즈마 식각(Plasma Etch) 및 ... 증착(PECVD: Plasma Enhanced -Chemical Vapor Deposition), 금속이나 고분자의 표면처리, 신물질의 합성 등 에서 이용되고 있으며, 공정

리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.16

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[전자]AMP 설계

의 주요파라미터에서 ro = 1/GDS 로 계산했습니다.)이론상의 증폭도와 실제증폭도가 매우 비슷했습니다.Unity-gain frequency(Wt) = Gm5/2πCc = 0 ... 에 벗어난다는걸 모르고 있어서 설계를 다시 시작했습니다. 이때 M1, M2, M3는 Vov=0.2V로 맞춰놓은 상태라 손댈필요가 없을 것 같아 그냥 놓아두었습니다. 파라미터값을 결정한 순서 ... 된 전류가 흐르기 때문에 m값이 변함에 따라 Vov가 변하기 때문에 m값을 바꿨습니다. 이때 L,W값을 바꿔줘도 되는데 두값은 공정에서 오차가 생기기 마련이므로 두값의 차이를 최대한

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2005.12.10

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[전자회로실험] 증가형 MOSFET의 단자 특성과 바이어싱

으로 흐를 것이다. 이 영역이 MOSFET의 중요한 두 파라미터인 길이 {L`과 폭 {W``를 가지고 있다는 점에 주목하기 바란다. 전형적으로, {L은 {RM 1에서 {RM 10 ... 에 제작되며, 전하 캐리어는 정공이다.NMOS와 PMOS 트랜지스터를 동시에 제조하는 반도체 공정 기술이 있는데, 우리는 이 기술을 상보형 MOS(complementary MOS ... 다.단계 3 : 드레인 전류 {I_D`는 {I_D ~=~ K_n`(V_GS ~－~ V_t `)^2 `이다.여기서 {K_n `과 {V_t`는 트랜지스터 파라미터이므로, 트랜지스터가 주어지

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.09.05

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