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"포토리소그래피" 검색결과 621-640 / 666건

  • DNA 칩
    는 Affymetrix라는 회사에서 computer 산업계에서의 computer chip을 만들기 위해서 쓰는 photolithography라는 기술을 사용하여 수만 개의 다른 염기
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.12
  • [전자정보]투명전극
    나노을 패터닝하는 공정은 감광제 (photoresist)를 이용한 사진 식각공정(photolithography)과 에칭공정으로 구성된다. 마이크론 단위 이하의 선폭과 이방성 에칭
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.12.25
  • [DNA Chip] DNA칩의 원리와 방법
    계에서 computer chip을 만들기 위해서 쓰는 photolithography라는 기술을 사용하여 수만개의 다른 염기 (nucleotide)들을 하나의 유리위에 직접 합성하는데
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.16
  • [생명공학] 생명공학의 미래
    (photolithography), 잉크젯 프린팅 및 스팟팅 등 제조방법의 개선, 혼성화(hybridization)를 높은 감도와 신뢰성을 가지고 검출해 내는 새로운 분석법 및 측정법 개발
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 29페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.07.16
  • [LCD] LCD의 정의, 구조 및 구동원리-
    하며, 증착공정(deposition) 및 사진식각공정(Photolithography), 식각공정(Etching)을 반복하여 유리 기판 위에 박막트랜지스터를 배열하여 제작하는 공정이
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.06.22
  • [유기화학실험] 아세트알데히드(Acetaldehyde)[유기화학실험]
    , photolithography, pigment-prints, staining wood, pyrotechnics, safety matches
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.10.30
  • [반도체공정]산화공정
    (doping) 및 확산(diffusion) 공정, 산화(oxidation) 공정, 박막증착(thin film deposition) 공정, 사진식각(photolithography) 공정
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.06.29 | 수정일 2025.01.21
  • TFT-LCD 제작공정
    (deposition) 및 사진식각공정(Photolithography), 식각공정(Etching)을 반복하여 유리 기판 위에 박막트랜지스터를배열하여 제작하는 공정이다.Wafer 대신에 유리를 사용 ... 하고, 증착물질의특성에 영향을 주지 않는 He, Ar과 같은 불활성 기체를 이용하여 양극에 놓여진 기판 위에튀어나온 target 물질이 증착되는 것을 말한다.Photolithography
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.06.01
  • [반도체] 반도체 제조공정
    한다. 이러한 패턴형성 공정은 PhotoLithography라 불리운다. 패턴은 처음에 유리판에 형성된다. 유리 마스크의 패턴은 Photoresist 공정을 통해 웨이퍼 표면에 전사
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.07.10
  • [반도체 제조공정] 반도체 제조공정
    . 상부전극 Pt를 shadow mask를 이용하여 증착Photolithography(사진공정)1. 시편준비2. HMDS(Hexamethyldisilazane)prime분자식
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.11
  • [화학] SPM
    (SEM)으로 찍은 사진이다.{결합된 탐침과 캔틸레버는 Photolithography기술을 이용하여 silicon이나 silicon nitride로 만들어진다. 실리콘 웨이퍼 한장
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2004.12.05
  • [졸업작품]ATmega128을 이용한 LCD 시계 및 온도계
    조직을 단단하게 만들기 위해 baking(hard baking)을 한다; baking 공정은 photolithography 과정에서 자주 행하는 공정인데, 크게 PR c
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 23페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.02.11
  • [광학] 펨토과학이란
    다. 248 nm 나 193 nm용 자외선 광식각(photolithography)에 사용되는 용융 실리카에 크롬이 입혀진 포토마스크(photomask)는 제조 가격도 비싸고 심지어
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.17
  • [신소재공학] LED
    여 dry 에칭 방법을 사용하여 소자 구조 중 가장 위쪽에 있는 p형 GaN에서부터 n-GaN층의 일부분까지 식각한다. 식각이 끝난 후 photolithography를 이용하여 패턴
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2005.01.27
  • [바이오센서 시장조사]바이오 센서의 이해
    : ogy)- 기판 위에 도포된 박막층을 이용 - 빔, 베어링, 회전자 제작마이크로머시닝 기술마이크로머시닝 기술 (1)Photolithography가공기술- UV
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 66페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.10
  • [원자론]SPM 원자현미경에 대하여
    는 Photolithography기술을 이용하여 silicon이나 silicon nitride로 만들어진다. 실리콘 웨이퍼 한장당 1000개 이상의 탐침과 캔틸레버를 만들 수 있
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 25페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.11.27
  • 정밀절삭가공의 이론과 실제(MEMS)
    는 많은 수의 칩을 생산할 수 있다.③ 반도체 및 MEMS 제조 공정에서 사용되고 있는 사진 식각 기술(photolithography)을 사용하여 수만개의 다른 염기들을 하나
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.21
  • [공업화학실험] 유화중합 결과
    의 제조에 사용되는 고분자 )컴퓨터 칩 상에 미세한 형태를 만드는데 사용되는 사진석판 술(photolithography)은 실리콘 웨이퍼를 고분자로 코팅하여 패턴을 그린 후 에칭
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.20
  • [공학 > 화학 > 고분자 > 나노]AFM
    는 Photolithography기술을 이 용하여 silicon이나 silicon nitride로 만들어진다. 실리 콘 웨이퍼 한장당 1000개 이상의 탐침과 캔틸레버를 만들 수 있
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.11.13
  • [디스플레이]디스플레이 - LED
    ] Chip 상태에서의 청색 전계 발광MOCVD 방법 성장된 wafer를 이용한 실제 LED 소자를 구현하는 소자 제작 공정을 살펴보면 가장 먼저, photolithography 법
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.03.25
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2025년 11월 24일 월요일
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