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"리소그래피" 검색결과 541-560 / 651건

  • 태양전지 및 관련특허
    리소그래피 공정(2)식각 공정2.태양광 정류장 제조공정 (특허관련)3.추가적인 조사Ⅳ. 태양광 정류장의 장점Ⅴ. 결론※Supplement1. Reference(참고자료)Ⅰ. 서론버스
    리포트 | 20페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.27
  • 계면 로터스 이펙트
    적인 나노 구조물 제작을 위하여 전자빔리소그래피 공정이 필요하게 되어, 고가의 공정비와 더불어 긴 공정소요시간 및 대 면적 공정의 어려움이 있다.4. 마이크로 나노 복합구조의 젖
    리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.24
  • 유비쿼터스 설명
    을 위한 센서 개발 능력을 관리한다. 많은 마이크로머신 처리 단계는 기본적인 IC 공정인 포토리소그래피, 재료 증착, 반응이온 및 화학적 에칭에서 비롯되었다.그러나 CMOS 로드맵
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.10.06
  • rp의 종류
    . 층 두께는 보통 0.075에서 0.50mm정도이다.SLS는 스테레오리소그래피에 대한 대안으로서 Texas대학(Austin)에ㅓ 개발되었고, SLS기계는 현재 DTM사에 의해 ... 판매되고 있다. 이것은 사용가능한 작업재료의 관점에서, 스테레오리소그래피보다 더 용도가 넓은 공정이다. 현재 선택적 레이저 소결법에서 사용되는 재료는 폴리비닐클로라이드(PVC
    리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.01.19 | 수정일 2014.02.04
  • ITO glass cutting, glass 세정 및 건조공정
    ) 이었다.?일부 현대적인 레이저를 기반으로 하는 포토마스크 묘화용 플랫폼들은 스테퍼 스캐너라는 리소그래피 노출장비를 기반으로 하고있다. 리소그래피 노출장비는 포토마스크의 영상 ... 하여 사용할 수 있는, 반사 리본으로 이루어진 1차원 공간 광 변조 배열방법이다. 이 장치는 이미 그래픽 아트 산업분야에서 컴퓨터-판 옵셋 리소그래피를 위해 Agfa와 Dai Nippon
    리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.11.01
  • 갈륨비소
    기 때문에 그 실용화가 검토되고 있다.그러나, 종래의 리소그래피(lithography)와 플라즈마 에칭을 이용한 가공에서는 갈륨비소가 취약하기 때문에 플라즈마에서 방사되는 자외선 등
    리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.12
  • 포토리소그라피(photolithograpy)공정의 기본과 금속배선공정인 무전해, 전해도금의 기초 및 원리
    는 포토리소그래피라 불리는 과정을 통하여 실리콘 웨이퍼 표면에 전사된다. 포토리소그래프는 매우 개량된 사진인쇄술로써 패턴은 마스크로부터 감광제라 불리는 빛에 민감한 물질로 전사 ... 의 복잡성은 제조 공정 중 사용되는 마스크 수로서 측정한다. 다음으로 포토리소그래피 과정에 대해 자세히 살펴보도록 하자.2. Photolithography 과정 ... Photolithography 와 금속 배선 기술2.1 웨이퍼와 웨이퍼 세척- 웨이퍼 세척 공정은 리소그래피를 처음하는 각 공정에서 반드시 행해야 하는 것으 로, 표면 청정화를 위한 공정이다. 표면
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.17
  • [공학]박막공정에대해
    박 막 공 정박막공정 이란?Thin Film Process 박막증착과 포토리소그래피기술을 이용하여 원하는 형상의 회로를 형성하는 일련의 과정 덩어리 재료(Bulk Material ... )= 포토리소그래피(Photolithography)= 식각(Etching)세척(Cleaning)*증착과정에서 매우 미세하고 일정한 두께로 공정된 기판에 이물질이 남을 경우 부식이 발생 ... 가능 환경문제-독성 물질의 사용포토리소그래피(Photolithography)감광막을 이용해서 실리콘 소재 표면에 감광막 패턴을 만들고 에칭을 통해 패턴을 제외한 나머지 부분을 부식
    리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.06.16
  • [전자공학]ELECTROFORMING기술을 이용한 신재료 개발 및 응용
    Abformung) 공정이 MEMS에서 많은 각광을 받고있다. LIGA process는 리소그래피공정과 도금공정, 주형공정이 일괄적으로 이루어지는데 쉽게 설명하면 micro ... 다. 내부응력의 최소화는 도금용액의 기술개선이 요구되고 높은 기계적 특성을 위해서는 순금속에서 복합재나 합금을 도금하는 방안이 나오고 있다. 치수의 정확도는 위에서 설명한 리소그래피 ... (폴리머)를 주조법으로 성형한다.(2) PMMA위에 마스크를 올려 놓고 엑스선을 사용하여 감광. 저항체를 노광 및 현상하는 엑스선 리소그래피공정이 이루어 진다.(3) 엑스선에 노출
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.12
  • 반도체 나노와이어 특성 및 원리
    SiNW를 정렬 시킨 후, 전자빔 또는 광 리소그래피 방법으로 소스, 드레인 게이트 전극을 형성시킴으로써 소자를 제조한다.박막 트랜지스터나 나노 와이어에서 쇼트키접합을 설치한 접합 형
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.14
  • [디스플레이]전자종이
    도포 공정의 개발이 필수적이다. 따라서 최근 들어 리소그래피 기술이 발전함에 따라 encapsulation 대신 기판 위에 직접 격막 (micro-cup, micro-wall ... 또는 micro-rib)을 형성하고, 슬러리를 주입한 후 sealing하는 방법이 개발되고 있다. 이는 고정밀도의 리소그래피 장비를 사용하므로 균일한 크기의 container 공간 ... 을 위해 투명전극인 ITO (Indium Tin Oxide)나 불투명 전극인 silicon wafer 위에 금속 물질을 증착하여 제조되며, 하판상에 전술한 리소그래피 방법을 이용
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.12
  • 포항 방사 가속기
    등에서는 X선 리소그래피 (lithography)라고 불리우는 기술개발에 많은 투자를 하고 있다. 따라서 오직 이 방면의 연구 개발을 위해 건설된 소형 방사광가속기(Compact ... Synchrotron)가 이미 여러개생겼다. 유감스럽게도 국내에서는 기업체들이 X선 리소그래피에 아직 관심을 보이지 않고 있으나 외국에서는 방사광의 중요한 이용 분야 중 하나로
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.02.02
  • 로터스 이펙트 Lotus Effect
    여 전자빔리소그래피 공정이 필요하게 되어, 고가의 공정비와 더불어 긴 공정소요시간 및 대 면적 공정의 어려움이 있다.4. Lotus effect(연잎 효과)의 적용 분야 및 사례
    리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.24
  • [재료공학실험]리쏘그래피 (lithography)
    의 나노임프린트 리소그래피(nanoimprint lithography, NIL)은 선폭 100 nm 이하의 나노구조물을 경제적으로 제작할 수 있는 대표적인 나노패턴닝(nano ... )는 다층화 정렬작업에 불리하게 작용한다. 이러한 문제점들을 해결할 수 있는 방법으로는 상온저압 프린팅 공정기술인 UV나노임프린트 리소그래피(ultraviolet ... 크기의 스탬프로 여러 번 반복하여 임프린트하는 방식을 채택Multi-dispensing 방법에 의한UV-나노임프린트 리소그래피하고 있다는 것이다. 이외에도 2000년도부터 유럽
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.24
  • 자성나노입자의 특성 및 응용
    선진국들이 연구개발에 막대한 예산을 투자하고 있는 분야이다.100나노미터 이하의 크기를 다루는 나노기술은 특히 리소그래피기술에 의한 반도체의 소형화의 한계를 극복할 수 있다는 가능 ... 에서 기술 우위를 선정하기 위한 선진국들의 기술경쟁이 치열하게 전개되고 있는데 특히 실리콘을 기반으로 하는 현재 리소그래피 기술을 대체할 수 잇는 수단으로 반도체 나노물질을 전자,광학
    리포트 | 27페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.10
  • [생명공학] 유전자 칩(DNA chip)
    를 고 형체 위에 뿌림③ 포토리소그래피칩 미국의 아피메트릭스사가 컴퓨터 칩을 만들기 위해 사용하는 포토 리소그래피(photolithography)를 응용 ④ 일렉트릭 어레
    리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.01.11
  • [공학]나노임프린터 공정과 연구동향
    하여 프린팅함.● 나노임프린트 리소그래피(Nanoimprint lithography, NIL)나노임프린트 리소그래피(Nanoimprint lithography, NIL) 기술은 경제 ... lithography(ML2)와 더불어 차세대 리소그래피로서의 가능성을 인정받았음을 의미한다.NIL공정은 1995년 프린스턴대학의 Chou 교수가 최초로 제안했다. Chou 교수 ... 은 상온 저압공정이 가능하여 다층화공정 및 대량생산에 적합하다는 장점을 갖고 있다.● 몰드-어시스티드 리소그래피 (Mold-Assisted Lithography, MAL)앞
    리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.09.21
  • 반도체공정 ppt
    지역에 형성된다 . 베이스폭은 두번의 확산 리소그래피 간격에 측면 확산의 정도를 더해서 결정되고 이는 npn 트랜지스터의 그것보다 휠씬 높다 . 에미터는 모든 방향으로 캐리어를 주입
    리포트 | 34페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.06.12 | 수정일 2014.05.02
  • 유기 태양전지 (Organic Solar Cell)
    인쇄의 경우 잉크를 여러 개의 공급 롤러가 코팅 롤러에 공급하며, 리소그래피 공정에서는 많은 잉크주입 롤러와 댐핑 롤러가 있다. 그림 2.8 에 각 공정별로 그 형태를 간단히 도시
    리포트 | 27페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.11.01 | 수정일 2016.05.11
  • [공학기술]공명터널링 다이오드
    , OHMIC BACK) 컬렉터에 접촉하는 단자 역할 리소그래피 기판의 윗면에 AuGe, Ni 층을 적층 (11번 층 ) 리소그래피를 통해 AuGe/Ni 점을 형성 (OHMIC LIFT
    리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.02
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2025년 08월 18일 월요일
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