"플라즈마가공"의 검색결과 입니다.

기간
- 전체
- 3개월
- 6개월
- 1년
- 2년
- 3년
- 5년
직접입력

적용
연관순
- 연관순
- 최신순
영역
- 전체
- 제목
- 본문
- 태그
페이지 수
- 전체페이지
- 1 페이지 ~ 5 페이지
- 6 페이지 ~ 10 페이지
- 직접입력 페이지 ~ 페이지 적용
확장자
- 전체
- 한글
- PDF
- MS워드
- MS엑셀
- MS파워포인트
- 압축파일
- 기타
할인자료 보기

연관검색어

반도체 공정 용접검사 플라즈마 가공 탄소나노튜브 ICP MS 아르곤 이유 afm MEMS dry etching 금속배선 공정

판매자 표지는 다운로드시 포함되지 않습니다.

"플라즈마가공" 검색결과 501-520 / 939건

Developing, Etching, Stripping

으로, Pattern이 형성된 부분의 박막은 남게 되고 PR이 없는 부분의 박막은 제거된다. 식각 공정에는 Gas Plasma가 사용 되는 건식 식각과 화학용액을 이용하는 습식 식각 ... 방법이 있으며, Etching 후에는 유기용매 등에 의한 PR Strip 공정이 이루어진다.에칭은 종래의 금속부식 가공기술이 진보된 기술로서 첨부된 제조공정도와 같이 가공하고자 하 ... 는 피 가공물의 설계된 형상을 정밀사진기술을 이용하여 재료 표면에 LAMINATING된 DRY FILM을 노광기를 통하여 감광시켜, 노광되지 않은 노출부를 화공약품(염화제2철

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.11.03

다운로드 장바구니
박막재료의 표면처리 및 식각실험(예비)

plasma ashing) - 플라즈마 ashing 장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6) 마스크 패턴을 제거한 산화막의 표면 색깔 ... 높은 물리적 현상이 나타난다.② 이용분야● 대기압 플라즈마정의기체의 압력을 100 Torr 부터 대기압(760 Torr) 이상 까지 유지하면서 저온 플라즈마를 발생하는 기술 ... 용 광원 기술-플라즈마 판넬 디스플레이(PDP)나노기술-금속 나노 분말제조 공정 기술-탄소 나노 튜브 제조공정● 진공 플라즈마정의기체의 압력을 100 Torr 이하로 유지하여 저온

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.07.28

다운로드 장바구니
SiO2 박막의 식각 및 PR 제거

plasma ashing) - 플라즈마 애슁장치를 이용하여 산소플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6) 마스크 패턴을 제거한 산화막의 표면 색깔과 패턴 ... 으로 물질의 이온화와 재결합이 활발해지기 때문에 플라즈마를 이용하여 기존의 물질의 합성이나 가공 방법으로는 하기 어려웠던 새로운 물질을 만들 수도 있고 공해유발 공정이나 난공정 등 ... 모양 관찰 - 광학 현미경 사용5. 실험이론1). 플라즈마플라즈마는 이온화된 상태의 기체이다. 기체에 열을 충분히 가하면 원자들 간의 충돌로 인해 많은 수의 전자들이 원자핵의 구속

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.19

다운로드 장바구니
일반 재료 공학 요약정리

해야 한다.1. 재료 선택1) 물질의 상 : 고체, 액체, 기체, 플라즈마어떤 물체가 됐건 물질 자체는 원자와 화학 원소로 구성되어 있다. 원자는 다시 전자, 양성자, 중성자라고 ... 를 만들어 내기 위해서 자연적 또는 실험 환경에 따라서 결합을 한다.이런 물질은 자신의 고유 및 주변 조건에 따라 네 가지 상태로 존재할 수 있다. 고체, 액체, 기체, 플라즈마 ... 가 그것인데 이 중 플라즈마라는 것은 물질 중에서 가장 낮은 에너지 상태를 말한다. 계속해서 기체가 더 큰 에너지를 받으면 중성을 띄는 상태가 되는데 결국 원자는 우리가 플라즈마라고

리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.04.23

다운로드 장바구니
용접법의 종류 및 특징

보즈마(Plasma) 아크를 냉각하는 것에 따라서 에너지 밀도가 크게 되는 효과를 플라즈마 (Plasma)아크의 THERMAL PINCH(열집중)효과라고 한다.(10) 일렉트로 슬 ... 아크 실드 용접(9) 플라즈마 용접(10) 일렉트로 슬레그 용접(Electro-slag welding)(11) Electro-Gas Welding나. 저항 용접 ...16p※전기 ... : 솔리드와이어, Flux coated wire 또는 Flux cored wire. 합금성분의 첨가용이, 플럭스의 자동 보급 용이1) 장 점▷ Groove가공 간단(I

리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.09.29

다운로드 장바구니
ITO기판의 patterning 공정 결과

chemical etching, plasma etching 또는 ion implantation에 견딜 수 있게 견고하게 만들고 접합을 향상시키는 과정1. Etching(식각 ... )에 사용되는 감광성 고분자를 일컫는 것으로 Micron이나 Micron 이하의 미세형상 구현이 요구되는 재료로서, 반도체, LCD, 인쇄 분야, 인쇄 회로기판분야 및 정밀 가공

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.09.15

다운로드 장바구니
Investigation on TiN+WC prepared by AIP and Magnetron sputtering

적으로 불가능하므로 경질물질을 Coating하기 전에 연마를 실시해야 하는 단점이 있으므로 이에 대한 개선방안이 필요하다. 일반적인 이온질화(플라즈마 질화)의 화합물 층의 생성과 금형 ... 모서리부분의 박리, 균열 등의 문제와 복잡한 형상의 균일한 표면처리가 어렵다는 단점을 개선한 것이 플라즈마 라디칼 질화이며, 이 방법은 플라즈마 질화의 장점을 다 가지면서, 타 질화 ... 하게 유지하므로, Sputtering이 고르게 일어나 플라즈마 질화보다 표면조도가 좋고, 고경도의 균일한 확산층을 가질 수 있으며, 또 복잡한 형상, 즉 좁은 틈새 등에 균질한 질화처리

리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.07.07

다운로드 장바구니
ITO Pattering 공정 예비보고서

을 의미하며 dry etching은 plasma를 이용한 모든 식각 공정을 포괄적으로 의미한다. 유기전자 디바이스의 Patterning 공정에서는 wet etching 방식을 사용 ... 되는 재료로서, 반도체, LCD, 인쇄 분야, 인쇄 회로기판분야 및 정밀 가공 금속 제품이나 유리 제품의 제조 등 산업 전반에 널리 이용된다. 반도체 또는 LCD 제조공정

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.02.23

다운로드 장바구니
열처리와 표면처리

로서 필요한 성질을 얻을 수 있음 금속의 가공성을 개선함 제조 공정으로서의 열처리로 다양한 성질을 얻을 수 있음강의 변태강에서는 온도와 조성에 따라서 많은 상들이 나타나고 있 ... 조직냉각 속도와 변태강의 열처리일반 열처리 풀림 노멀라이징 담금질 뜨임 특수 열처리 심랭처리 등온 변태 처리 가공 열처리강의 열처리열처리에 의한 강의 기계적 성질 변화 풀림 ... 는 높은 탄성, 높은 내피로성과 적당한 강인성을 갖도록 하기 위한 목적으로 실시함 스프링을 제작할 때는 열처리가 최종 공정이며, 열처리 후에 기계 가공하는 경우가 적으므로, 열처리

리포트 | 87페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.08

다운로드 장바구니
Type별 Scrubber 원리 및 반도체 공정,반도체 Gas 특성

하여 배출시키는 장치Type별로는 Wet Type, Dry Type, Thermal Wet Type, Burn Wet Type, Plasma Type 등이 있음［Burn-Wet Type ... / 한계로 인해 PFCs의 처리가 불가 능함장＊단점Type별 Scrubber［Plasma-WET］순환 pumpN2 InletWet 처리Water tankPFCs InletGas ... OutletDrainN2를 주입하여 Thermal Plasma를 발생시킴 으로써 PFCs를 처리하고, 재결합 방지부를 거쳐 후단의 Wet Scrubbing으로 수용성 Gas를 처리

리포트 | 23페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.02.26

다운로드 장바구니
열처리

에서 처리 부품을 800 ~ 950℃ 까지 가열하여 2 ~ 6 시간 동안 유지한 다음 퀜칭하여 표면경화 시키는 처리라) 플라즈마침붕, Plasma Boriding처리 부품을 음극에 그리고 ... 질화, Plasma Carbonitriding진공로 내에 저압으로 유지된 메탄과 질소의 혼합가스에 의하여 형성된 플라즈마 분위기 속에서 처리 부품을 850 ~ 950℃ 사이의 온도 ... 시키는 처리라) 플라즈마질화, Plasma Nitriding처리 부품을 음극에 그리고 노벽을 양극의 직류 전원에 연결된 진공로 내에 저압으로 유지된 질소와 수소의 혼합가스에 의하여처리

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.06

다운로드 장바구니
박막의 응용분야, 각각의 property 별로 정리

디바이스에 공통되는 기술로서 대표적으로 박막형성 및 미세 가공기술이 있다. 만약 박막을 형성하고 가공할 수 있는 기술이 개발되지 않았다면 오늘날의 풍요로운 생활은 아마 이루어지지 못했 ... 하는 패턴으로 형성 시킬 수 있다. 다이오드나 트랜지스터에서 박막이 어떻게 응용되는지 간략하게 조사하였다. 더 나아가 우리가 잘 알고 있는 액정디스플레이(LCD)와 플라즈마디스플레이 ... 화면도 개발되고 있다.그림 2. 박막트랜지스터 (TFT)의 단면도영상, 화상정보를 표시하는 디스플레이는 CRT, 액정디스플레이(LCD) 플라즈마 디스플레이(PDP) 플랫패널디스플레이

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.01.24

다운로드 장바구니
나노기술(NT)의 정의, 나노기술(NT)의 영역과 분류, 나노기술(NT)의 특징, 나노기술(NT)의 현황, 나노기술(NT)의 융합,종합발전계획, 나노기술과 탄소나노튜브,반도체

다. 이 책의 저자의 관점은 ‘제국주의 국가의 소설은 부르주아 사회의 문화적 가공물이기 때문에 제국주의 이념과는 뗄려야 뗄 수 없는 관계에 놓인다’ 는 것이다. 이러한 사이드 교수 ... 분logy, 플라즈마 공정 등 연구 수행○ 나노기초물성 : 나노선, 자성양자점, 나노구조 계면 입자성장, 나노결정재료의 기계적 성질 규명 등 연구 수행○ 바이오/환경 : 약물전달

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.04.26

다운로드 장바구니
CMP공정의 원리

putter법, bias-ECR, Plasma CVD, RF plasma CVD증착법공정용이 Eching 제어 어려움Sputter, RIE, plasma etchingEching법특 징방 ... 단계의 평탄화 기술 중에서 가장 고도의 평탄화를 이루어주는 기술이다.CMP공정에 대한 요구사항가. 대소 소밀의 미세 요철을 평활, 평탄화 가공하는 것 나. 가공면은 세정 가능

리포트 | 32페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.06

다운로드 장바구니
최근염색가공기술 개발 동향

, 또는 양모의 방축가공 등에 이용하려는 시도가 자주 나타나고 있다. 최근 플라즈마 이용 기술동향은 다음과 같다.① 저에너지의 저온플라즈마 이용추세② 양모의 스케일 제거에 의한 ... 방축가공 적용이 대세③ 면직물의 호발, 정련 동시처리 기술④ 필름제조, 코팅가공 등에도 적용⑤ 모든 적용기술 실용화 단계⑥ 상압 플라즈마(펄스 코로나) 기법은 개발 완료3.2.3 ... 최근 염색가공기술 개발동향1. 머리말요즘 고부가가치니 고감성 기능이니 하는 용어들이 우리 주변에 심심찮게 나돌고 있다. 모든 산업에 있어서 공통적인 이 용어들은 특히 섬유산업

리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.12.04

다운로드 장바구니
[공학]플라즈마

화 에너지가 낮아지게 되어 적은 열 에너지로도 반응물을 생성한다는 것을 알 수 있다.활성화 에너지의 열역학적 반응과 플라즈마 반응○ Plasma nitriding표면경화법의 일종인 ... - -플라즈마R E P O R T플라즈마□ 플라즈마플라즈마라는 말을 물리학 용어로 처음 사용한 사람은 미국의 물리학자 'Langmuir'(랑뮈어)로서, 전기적인 방전으로 인해 ... 생기는 전하를 띤 양이온과 전자들의 집단을 플라즈마라고 하고 그 물리적인 성질을 연구하는 것이 플라즈마 물리학이다.● 플라즈마란?1929년 랑뮤어(Langmuir)와 통크스

리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.11.11

다운로드 장바구니
반도체공정기술

·BIT:Memory의 기본단위(1Byte=8Bit). 4M DRAM은 400만개의 Bit로 구성. 16M DRAM은 1600 만개의 Bit로 구성·CHIP:Wafer상에 소자가공 ... 이 끝난 상태의 개개의 IC를 말하며 DIE라고도 말함.·DEVICE:가공 또는 조립이 완료된 제품을 말한다.·CAPACITOR:전하를 저장할 수 있는 소자 Memory에서 수개 ... 로는 - Positive PR : 빛을 받은 부분이 Deverop됨.Negative PR : 빛을 안받은 부분이 Develop됨.3.ETCH용어·DRY ETCH:Gas나 Plasma

리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.09.12

다운로드 장바구니
플라즈마에 대해서

에 사용된 것은 생물학에서다. 1893년, Purkynie라는 사람이 세포 속에서 생명 활동을 영위하는 부분을 proto-plasma(생물학에서는 플라즈마라고 발음하는 수가 많다)라고 ... 물재입니다. 실제적으로 우주 전체를 지배하고 있는 물질의 상태는 플라즈마 상태라고 할 수 있습니다. 과학기술 용어로서 '플라즈마'(Plasma)라는 단어의 의미는 "원자핵과 전자 ... Surface modification of meterial...1. 플라즈마란 말은 어디에서 왔는가?(1) 플라즈마의 어원플라즈마라는 말은 그리스어에 근원을 두고 있다. 고대

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.18

다운로드 장바구니
[반응공학설계] 탄소나노튜브를 이용한 디스플레이

(Cathode Ray Tube)디스플레이LCD (Liquid Crystal Display)PDP (Plasma Display Panel)PanelElectron ... display), LED(Light emitting diode), PDP(plasma display panel), FED 등의 평판 디스플레이가 주역으로 등장할 것으로 예상 ... 됩니다. 그 중에서도 고화질, 고효율 및 저소비 전력을 장점으로 갖는 FED는 차세대 정보디스플레이 소자로 크게 주목을 받고 있고 FED의 핵심기술은 전자방출 팁의 가공과 안정성에 바탕

리포트 | 27페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.05.17

다운로드 장바구니
스템플러의 공정및 열처리 등등 있습니다. (스테이플러, 스탬플러,호치키스)

, 스테이플 절삭성이 좋다STS 303Se303 Se는 303 소성가공성이 좋다STS 304볼트재료로서 가장 많이 사용되고 있는 스테인레스강연질에서는 비자성이나 냉간가공에 의하여 자성을 띰 ... ?내식, 내열성 우수STS 304L304의 탄소함량을 최저로 줄인 강종으로서?소성가공성이우수하고 강도는 떨어짐. 입계부식에 강하다STS 316304보다 내식/내산성이 우수함, 강도 ... 는 304보다 약함.냉간가공으로?자성을 띠기가 어렵다.STS 316L316의 탄소함량을 최저로 줄인 강종으로서?소성가공성이우수하고 강도는 떨어짐. 입계부식에 강하다STS

리포트 | 28페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.11.16

다운로드 장바구니

이전10개 21 22 23 24 252627 28 29 30 다음10개

파워링크

신청하기