"포토리소그라피"의 검색결과 입니다.

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photolithography asml 면접 photoresist

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"포토리소그라피" 검색결과 281-300 / 693건

22년 상반기 Onsemi 온세미 Device engineer 직무 서류 합격 자기소개서

FAB에서 팀원들과 두 달간 Photolithography, Evaporator, SEM, AFM, FIB 등의 다양한 반도체 공정/계측장비들로 소자를 제작하고, 끊임없는 공정

자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.08.04

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LED 제조공정

에만 metal 올림 → 모든 곳에 올릴 경우 쇼트 발생)P-GaN, N-GaN에 PR이 날아가도록 포토리소그래피(Photolithography) 공정을 함E-Beam Evaporator

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.07.10

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마이크로스텐실 리소그래피 기술의 현황 (Review on Microstencil Lithography Technologies)

micro-fabrication processing of photolithography and etching. Metal stencils are fabricated by metal ... fabricated by micro-fabrication processing of photolithography and etching. Metal stencils are fabricated

논문 | 12페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.30 | 수정일 2025.06.05

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실리콘 기판 위에 제작된 나노 크기의 구조물을 가진 그루브 표면이 이방성 젖음에 미치는 영향 (Effects of Grooved Surface with Nano-ridges on Silicon Substrate on Anisotropic Wettability)

photolithography, reactive ion etching, and a KOH etching process. The contact angles (CAs) of water ... silicon substrate using photolithography, reactive ion etching, and a KOH etching process. The contact

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.28 | 수정일 2025.07.04

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SK하이닉스 소자 직무 합격 자기소개서 (2)

하여 Photolithography 과정을 마스터할 수 있었습니다. Clean Room에는 위험한 용액들이 많이 있었기 때문에 항상 주의를 기울이고 작은 먼지도 신경 쓰며, 진행

자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.02.06

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2019 패터닝 예비보고서 (74.5/80)

) 선성형(Molding)→ 최종 검사Lithography 란?포토리소그래피Lithography공정이란 노광 공정이라고도 하며 웨이퍼에 도포한 빛을 조사하여 광화학 반응을 발생

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.04.14

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SK 하이닉스 합격 자소서 (2021년)

한 지식을 배우고 습득 중입니다. 우선 전체적인 반도체 8대 공정이나 원리는 “저차원 전자 소재 및 소자” 수업을 통하여 공부할 수 있었고, 그 중 photolithography

자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.01.22

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SK하이닉스 공정알엔디 첨삭자소서

에서 Wafer 생산과정부터 시작해 Photolithography and Patterning, Ion Implantation, Diffusion, Thin Film Growth

자기소개서 | 19페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.02.03

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탄소 나노튜브가 코팅된 은 메탈-메쉬 전극의 특성 (Characteristics of silver metal-mesh electrodes coated by carbon nanotubes)

then patterned via photolithography to obtain mesh structures whose line width was 10 µm and line-to ... photolithography to obtain mesh structures whose line width was 10 µm and line-to-line spacing was 300 µm

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.29 | 수정일 2025.06.05

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데이터 배선 용량 최소화를 위한 비정질 실리콘 박막 트렌지스터 배열의 최적화 설계와 구현 (Optimal Design of a-Si TFT Array for Minimization of Data-line Capacitance and Its Implementation)

parameters were decided within a permissible range of the TFT process especially the photolithography ... the photolithography process and the wet etch process. Then we adapted the TFT array which had been

논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.15 | 수정일 2025.07.20

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SK하이닉스 서류합격 자기소개서

하는 과제를 맡았습니다. 목표로하는 디바이스를 제조하기 위해서 Photolithography, Softlithography, Photomask 이용한 고분자 하이드로젤 판막 중합

자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.08.14

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Voltage Applicable to Au/YBa2Cu3O7 Meander Lines (Voltage Applicable to Au/YBa2Cu3O7 Meander Lines)

fabricated by patterning Au/YBCO thin films grown on sapphire substrates by photolithography. It was ... ubstrates by photolithography. It was subjected to simulated AC fault currents, and the resistance was

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.09 | 수정일 2025.06.10

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실리콘 이방성 식각을 통한 LCD 프리즘 시트 제작 연구 (A Study on Manufacturing of LCD Prism Sheets Through Silicon Anisotropic Etching)

through photolithography, and the best conditions of Si etching were determined through etching Si ... . First, the prism sheet was patterned on Si wafer through photolithography, and the best conditions of

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.02 | 수정일 2025.07.05

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포토리소공정

포토리소그래피(Photolithography)공정1. 정의 : 포토리소그래피 공정은 어떤 특정한 화학 약품이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용한 것이 ... 다, 얻고자 하는 패턴의 마스크를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 패턴 마스크와 동일한 패턴을 형성시키는 공정이다.2. 실험 목적1) OLED공정의 포토리소그래피 공정 ... 의 순서를 안다.2) 포토리소그래피의 각 공정 마다 하는 목적과 특징을 이해한다.3. 실험 이론포토리소그래피 공정 순서세정 - PR도포, 코팅 - 소프트베이크 - 노광 - 현상 -하

리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.11.15

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Micromolding in capillaries와 microtransfer molding법을 이용한 역테이퍼 구조물을 가지는 이방성 소유성 표면 제작 (Fabrication of Anisotropically Oleophobic Surface with Inverse-Tapered Structure Using Micromolding in Capillaries and Microtransfer Molding)

photolithography and anisotropic KOH etching of silicon wafer. The geometry of structure could be changed by ... using MEMS processes such as photolithography and anisotropic KOH etching of silicon wafer. The

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.10 | 수정일 2025.06.16

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PR 제거공정 적용을 위한 오존 수 생성기술 연구 (A Study on the Ozonized Water Production technology for the PR Strip Process)

photolithography process in the semiconductor and flat panel display manufacturing. In this work, we

논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.27 | 수정일 2025.06.04

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탄소나노튜브 필름을 이용한 투명 압저항체의 제작 및 특성 연구 (Fabrication and Characterization of Transparent Piezoresistors Using Carbon Nanotube Film)

silicon wafer by photolithography and dry etching. The patterned CNFs were transferred onto poly

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.05 | 수정일 2025.06.09

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선택적 팽윤을 이용한 블록공중합체 나노패턴의 집적도 향상 (Density Doubling of Block Copolymer Nanopatterning via Selective Swelling)

lithography technology that can overcome the resolution limit of the conventional photolithography

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.05 | 수정일 2025.07.10

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해외 포닥 성공 영문 cover letter

knowledge of photolithography process and application.Evaluated Au/AAO electrode by using de Levie’s

이력서 | 2페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.10.01 | 수정일 2020.10.03

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다양한 리소그래피법을 이용한 나노구조 형성

: Extreme Ultraviolet) - 포토리소그래피와 동일한 원리로 작동 하지만 렌즈대신 거울을 이용하여 빛을 굴절시킴 - 극자외선을 발생시키는데 필요한 고전력 발생장치 제작 ... - 포토 리소그래피에 비해 초점심도가 깊음 - 마스크 없이 직접 패터닝이 가능 단점 - 직접패터닝 경우 작업속도가 느림 - 고비용 - 최근 탄소나노튜브를 실리콘 기판 위에 성장 ... 도는 Moore 의 법 칙에 따라 18 개월마다 두배씩 증가하 는 발전을 보임 - 기존 photolithography 기술은 차세대 22nm 이하의 선폭을 구현하는데 한계 가 있

리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.06.17

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