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PN 접합 제조 공정 기술 요약2025.11.181. 열산화(Thermal Oxidation) 열산화는 웨이퍼 표면에 산화층을 형성하는 공정으로, 마스킹, 소자 격리, 게이트 산화막 형성, 표면 패시베이션 등의 목적으로 사용됩니다. 습식 산화는 두꺼운 산화층 형성에 사용되고, 건식 산화는 높은 밀도의 산화층 형성에 사용됩니다. 2. 확산(Diffusion) 확산은 실리콘에 불순물을 도입하는 방법으로, 도펀트 원자가 열 공정을 통해 실리콘으로 이동합니다. 치환 확산과 간질 확산 두 가지 메커니즘이 있으며, 이 기술을 통해 PN 접합을 형성할 수 있습니다. 3. 이온 주입(Ion I...2025.11.18
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[부산대 어드벤처 디자인] 6장 3D 모델링 및 프린팅 예비보고서2025.01.121. 적층제조(Additive Manufacturing) 적층 제조는 디지털 모델에 따라 재료의 레이어를 하나씩 지정하여 물리적 (또는 3D) 객체를 만드는 프로세스입니다. 절삭 제조와 달리 부품을 추가하여 최종 제품을 형성하는 것이 특징입니다. 2. 절삭제조(Subtractive Manufacturing) 절삭 제조는 큰 덩어리를 조각하듯이 깎아내는 방식입니다. 절삭형은 여분을 깎아내 재료가 손실되지만, 적층형은 여분 재료의 손실이 없다는 장점이 있습니다. 3. FFF(Fused Filament Fabrication) FFF 방식...2025.01.12
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나노반도체 IGZO TFT 제작 공정 실험2025.11.151. Gate via Patterning IGZO TFT 제작의 첫 번째 단계로, 게이트 전극으로 사용할 Si를 측정에서 접촉할 수 있도록 만드는 공정입니다. 웨이퍼 세척 후 포토리소그래피를 통해 원하는 패턴을 형성합니다. 기판의 유기물과 불순물을 제거하고, 산소플라즈마로 표면 반응성을 향상시킨 후, 포지티브 포토레지스트를 코팅하고 마스크를 이용한 노광 공정을 거칩니다. 2. Wafer Cleaning 반도체 기판 표면의 유기물, 불순물, 금속이온 등을 제거하는 전처리 공정입니다. 아세톤과 이소프로필알코올을 이용한 초음파 세척으로 ...2025.11.15
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Adsorption Isotherms in Solution_예비보고서2025.05.111. 흡착 흡착은 기체상 또는 액체상인 어떤 물질들이, 그 상과 접촉하는 다른 상과의 계면에서 상의 내부와 다른 농도를 유지하며 평형에 도달하는 현상이다. 흡착에서는 물질이나 에너지는 물질의 표면에 끌린다. 흡착의 단계로는 흡착질이 이동과 확산에 의하여 상에서 경계면까지 이동하고, 흡착질이 흡착제의 Large-Medium pore을 통해 분산되며, 확산된 흡착질이 입자의 Micro pore 표면위에 흡착되는 것이 있다. 흡착의 유형은 물리적 흡착과 화학적 흡착으로 구분할 수 있다. 2. 활성탄 활성탄은 목재류, 갈탄, 무연탄, 유연...2025.05.11
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나노 스파이크 배열을 이용한 합성 살균 표면 특허2025.11.171. 나노 스파이크 배열 기술 반응성 이온 에칭 공정을 통해 표면에 나노 스파이크 어레이를 형성하는 기술. 나노 크기의 스파이크 구조가 세포막을 물리적으로 관통하여 세포를 치사시키는 방식으로 작동. 이는 화학적 살균제 없이 순수 물리적 메커니즘으로 살균 효과를 달성하는 혁신적 접근 방식. 2. 물리적 살균 메커니즘 나노 스파이크가 세포의 세포막을 관통함으로써 세포를 직접 파괴하는 물리적 살균 방식. 화학적 살균제의 방출이나 접촉 살균과 달리 순수한 물리적 손상을 통해 박테리아와 세균을 제거. 이 방식은 항생제 내성 문제를 우회할 수...2025.11.17
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분석화학실험: 실험실 안전 및 초자 기구 세척2025.11.151. 실험실 기구의 종류 및 용도 분석화학 실험에서 사용되는 다양한 초자 기구들을 소개한다. 피펫(pipet)은 용액을 옮길 때 사용되며 마이크로 피펫, 파스퇴르 피펫, 눈금 피펫, 홀 피펫 등 여러 종류가 있다. 플라스크는 시료를 담고 실험할 때 쓰이며 부피 플라스크, 삼각 플라스크, 뷰흐너 플라스크 등이 있다. 비커는 용액을 담아 반응시킬 때 활용되고, 눈금실린더는 액체의 부피를 측정할 때 사용된다. 뷰렛은 특정 용량의 용액을 적하할 때 사용되며, weighing bottle은 무게를 잴 때 사용된다. 2. 염기성 용액을 이용한...2025.11.15
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[기계공작실험]연마방법, 시편의 열처리, 경도측정 및 금속현미경 관찰2025.01.241. 연마방법 실험에서는 에멀리 페이퍼를 사용하여 단계적으로 600번에서 1200번까지 연마작업을 진행하였다. 연마 시 한 방향으로 균일한 힘을 가하며 연마하고, 다음 단계의 연마지는 이전 단계의 연마 방향과 직각이 되도록 하였다. 2. 시편의 열처리 시편을 840도에서 유지시간을 가진 후 급랭하는 소입 열처리를 진행하였다. 이를 통해 마텐자이트 조직이 형성되어 경도가 크게 증가하였다. 3. 경도 측정 열처리 전 시편의 경도는 HRA 59.1(HRC 17.2)이었으나, 열처리 후에는 HRC 57.0으로 약 3.3배 증가하였다. 이는...2025.01.24
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빛의 파장과 조촉매에 따른 광촉매 반응2025.11.151. 광촉매(Photocatalyst) 광촉매는 빛을 에너지원으로 촉매 반응을 촉진시켜 세균 및 오염물질을 분해하는 반도체 물질이다. 산화티탄(TiO2)이 대표적인 광촉매로 빛을 받아도 자신은 변화하지 않아 반영구적으로 사용 가능하며, 염소나 오존보다 산화력이 높아 살균력이 뛰어나고 모든 유기물을 이산화탄소와 물로 분해할 수 있다. 광촉매 반응을 유도하려면 Band Gap 이상의 빛 에너지를 조사해야 하며, TiO2의 경우 Band Gap이 3.2eV로 387nm 이하의 자외선이 필요하다. 2. 조촉매(Cocatalyst)와 반응 ...2025.11.15
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적정법을 이용한 아세트산 흡착량 계산2025.11.171. 흡착(Adsorption) 흡착은 기체 또는 용질분자가 고체 표면에 결합하는 과정으로, 물리흡착과 화학흡착으로 구분된다. 물리흡착은 Van der Waals 상호작용으로 다분자층 흡착이 일어나며 흡착열은 5~10 kcal/mol이다. 화학흡착은 강한 화학결합으로 단분자층 흡착만 발생하며 흡착열은 10~100 kcal/mol이다. 본 실험에서는 활성탄을 흡착제로 사용하여 아세트산을 흡착하고 최대 흡착량을 구한다. 2. 흡착 등온식(Adsorption Isotherm) 흡착 등온식은 일정 온도에서 흡착이 평형일 때 흡착질의 농도와...2025.11.17
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수계소화설비 ) 물이 소화약제로서의 장점 및 특성에 대하여 논하시오2025.01.241. 소화의 원리 불을 진화하는 과정에 있어 소화란 연소의 3요소인 연료(가연물)과 산소 그리고 열 모두를 제거하거나 억제함으로써 이루어지며, 물리적?화학적인 원리를 이용하여 다양한 방법들이 존재한다. 일부 첨가제를 사용하지만 주로 물을 사용하는 냉각소화 방법과 방호 공간 내 산소의 농도를 16% 또는 15% 이하로 유지하여 연소를 지속하게 하지 못하는 소화 방법인 질식소화가 있다. 또한 연소 반응과 관계된 가열물이나 그 주위에 존재하는 가연물을 제거함으로써 연소 현상을 방지하는 제거소화 방법이 있는데, 이는 가장 확실하면서 가장 ...2025.01.24
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